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Besorgen 6 ¢ 8 Zoll Silizium- und SiC-Wafer-Polierlinie mit Quad-Heads und geschlossener Schleife Online-Herstellung

6 ¢ 8 Zoll Silizium- und SiC-Wafer-Polierlinie mit Quad-Heads und geschlossener Schleife

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Besorgen Silikonkarbid Wafer 8 Zoll 200 mm Polieren Substrat Halbleiter Online-Herstellung Video

Silikonkarbid Wafer 8 Zoll 200 mm Polieren Substrat Halbleiter

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Besorgen Dopant GaAs-Oblaten-Galliumarsenid-Substrat-doppelte Seite des Si-2inch poliert für LED Online-Herstellung

Dopant GaAs-Oblaten-Galliumarsenid-Substrat-doppelte Seite des Si-2inch poliert für LED

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Besorgen 4H-SEMI polierte sic Oblatenlinse 2INCH 3INCH 4INCH 9,0 Härte für Gerät-Material Online-Herstellung

4H-SEMI polierte sic Oblatenlinse 2INCH 3INCH 4INCH 9,0 Härte für Gerät-Material

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Besorgen Hochpräzise einseitige Polierausrüstung für Si-Wafer/SiC/Saphirmaterialien Online-Herstellung Video

Hochpräzise einseitige Polierausrüstung für Si-Wafer/SiC/Saphirmaterialien

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Besorgen 8 Zoll SiC Wafer Siliziumkarbid Wafer Prime Dummy Forschungsgrad 500um 350 Um Online-Herstellung

8 Zoll SiC Wafer Siliziumkarbid Wafer Prime Dummy Forschungsgrad 500um 350 Um

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Besorgen Ultradünne auf Silizium basierende Diamantfolie für die fortgeschrittene thermische Steuerung von Halbleitern Online-Herstellung

Ultradünne auf Silizium basierende Diamantfolie für die fortgeschrittene thermische Steuerung von Halbleitern

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Besorgen Hochpräzisions-Doppelseitenschleif-/Poliermaschine für Saphir/Glas/Quarz Online-Herstellung Video

Hochpräzisions-Doppelseitenschleif-/Poliermaschine für Saphir/Glas/Quarz

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Besorgen 4 Zoll GaN-on-Si Wafer Galliumnitrid Wafer Epi-Wafer 6 Zoll 8 Zoll Härte 9,0 Mohs für die Leistung RF LED Online-Herstellung

4 Zoll GaN-on-Si Wafer Galliumnitrid Wafer Epi-Wafer 6 Zoll 8 Zoll Härte 9,0 Mohs für die Leistung RF LED

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Besorgen SiC-Samenwafer 4H N Typ Dia 153 155 2 Zoll-12 Zoll für die Herstellung von MOSFETs Online-Herstellung

SiC-Samenwafer 4H N Typ Dia 153 155 2 Zoll-12 Zoll für die Herstellung von MOSFETs

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Besorgen 12 Zoll Saphir Wafer Saphir Substrat Al2O3 Wafer 9.0Mohs durchsichtige SSP DSP C-Achse Online-Herstellung

12 Zoll Saphir Wafer Saphir Substrat Al2O3 Wafer 9.0Mohs durchsichtige SSP DSP C-Achse

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Besorgen 8 Zoll Quarz-Wafer Durchmesser 200mm TTV ≤10μm Ra ≤1.0 Nm Für Hochpräzisionssensoren Online-Herstellung

8 Zoll Quarz-Wafer Durchmesser 200mm TTV ≤10μm Ra ≤1.0 Nm Für Hochpräzisionssensoren

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Besorgen 2 Zoll Quarz Glas Wafer DSP SSP Durchmesser 50,8 mm Online-Herstellung

2 Zoll Quarz Glas Wafer DSP SSP Durchmesser 50,8 mm

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Besorgen Hochpräzision SIC Siliziumkarbid Keramik Chuck Keramik Element Vakuumsupper Anpassung Online-Herstellung

Hochpräzision SIC Siliziumkarbid Keramik Chuck Keramik Element Vakuumsupper Anpassung

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Besorgen 2' 4' InP Wafer Indium Phosphid Wafer Halbleiter Substrate 350um 650um Online-Herstellung

2' 4' InP Wafer Indium Phosphid Wafer Halbleiter Substrate 350um 650um

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Besorgen Monokristalline Silizium-Doppelstation-Quadratmaschine 6/8/12 Zoll Burr ≤0,5 mm hohe Präzision ±0,05 mm Online-Herstellung

Monokristalline Silizium-Doppelstation-Quadratmaschine 6/8/12 Zoll Burr ≤0,5 mm hohe Präzision ±0,05 mm

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Besorgen 4-Zoll-N-Typ P-Doped Si (100) mit 100 nm Ti + 200 nm Cu Thin Film Cu Film auf Ti/Silicon Wafer Online-Herstellung

4-Zoll-N-Typ P-Doped Si (100) mit 100 nm Ti + 200 nm Cu Thin Film Cu Film auf Ti/Silicon Wafer

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Besorgen ​​CMP Grinding Plate​​ ​​Chemical Mechanical Polishing of Wafers​​ Online-Herstellung

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Besorgen 4' 6' AIN auf Siliziumsubstraten SSP DSP Halbleiter Wafer 100nm 200nm Schicht Online-Herstellung

4' 6' AIN auf Siliziumsubstraten SSP DSP Halbleiter Wafer 100nm 200nm Schicht

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Besorgen Indiumphosphat Wafer InP Halbleiter Substrate Epitaxial 2'' 3' 4' Dicke 350um Online-Herstellung

Indiumphosphat Wafer InP Halbleiter Substrate Epitaxial 2'' 3' 4' Dicke 350um

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Besorgen 6 ¢ 8 Zoll Silizium- und SiC-Wafer-Polierlinie mit Quad-Heads und geschlossener Schleife Online-Herstellung

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Besorgen Silikonkarbid Wafer 8 Zoll 200 mm Polieren Substrat Halbleiter Online-Herstellung Video

Silikonkarbid Wafer 8 Zoll 200 mm Polieren Substrat Halbleiter

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Hochpräzise einseitige Polierausrüstung für Si-Wafer/SiC/Saphirmaterialien

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