Produkt-Details
Herkunftsort: China
Markenname: ZMSH
Zertifizierung: rohs
Modellnummer: 2 Zoll Quarz Wafer
Zahlungs-u. Verschiffen-Ausdrücke
Min Bestellmenge: 10
Preis: by case
Verpackung Informationen: Paket in der 100-Grad-Reinigung
Lieferzeit: 5-8weeks
Zahlungsbedingungen: T/T
Durchmesser: |
2 Zoll (50,8 mm) |
Dickenbereich: |
0.1 mm bis 1,0 mm |
Materielle Reinheit: |
≥99.99% |
Oberflächenrauheit (Ra): |
≤5nm |
Gesamtdickenvariation: |
≤10μm |
Übertragbarkeit (@193nm): |
> 90% |
Durchmesser: |
2 Zoll (50,8 mm) |
Dickenbereich: |
0.1 mm bis 1,0 mm |
Materielle Reinheit: |
≥99.99% |
Oberflächenrauheit (Ra): |
≤5nm |
Gesamtdickenvariation: |
≤10μm |
Übertragbarkeit (@193nm): |
> 90% |
2-Zoll-Quarzwafer sind Substrate in Halbleiterqualität, die aus hochreinem Siliziumdioxid (SiO₂) hergestellt werden und durch Präzisionsbearbeitungstechniken wie CNC-Schneiden und Laserpolieren eine Ebenheit im Mikrometerbereich erreichen. Diese Wafer entsprechen den SEMI-Standards und unterstützen die Anpassung in Bezug auf Abmessungen und Dicke (Toleranz ±0,02 mm) und eignen sich für Anwendungen in der Optoelektronik, MEMS (Mikro-Elektro-Mechanische Systeme) und der Halbleiterverpackung.
ZMSH ist auf die kundenspezifische Herstellung von nicht standardmäßigen Geometrien (z. B. nicht standardmäßige Öffnungen, abgestufte Dicke) und fortschrittlichen Oberflächenbehandlungen (Antireflexionsbeschichtungen (AR), hydrophobe Filme) spezialisiert, um die individuellen Anforderungen der Kunden zu erfüllen. Eine strenge Qualitätskontrolle des gesamten Prozesses gewährleistet die Einhaltung strenger Spezifikationen, von der Rohmaterialprüfung (Hydroxylgehalt <50 ppm) bis zur abschließenden AOI-Inspektion, wodurch eine Gesamt-Dickenvariation (TTV) <0,005 mm und eine Oberflächenrauheit Ra <1,5 nm garantiert werden. Für zeitkritische Projekte bietet ZMSH schnelle Reaktionsdienste, einschließlich Kleinserien-Prototyping (mindestens 10 Einheiten) und beschleunigter Lieferung (72-Stunden-Bearbeitungszeit), um dringende Anforderungen zu erfüllen.
Parameter | Spezifikation |
Durchmesser | 2 Zoll (50,8 mm) |
Dickenbereich | 0,1 mm ~ 1,0 mm |
Materialreinheit | ≥99,99% |
Oberflächenrauheit (Ra) | ≤5nm |
Gesamtdickenvariation | ≤10μm |
Transmission (@193nm) | >90% |
Wärmeausdehnungskoeffizient | ~0,55×10⁻⁶/°C |
Erweichungspunkt | ~1665°C |
1. Optische Exzellenz
· Breitband-Transmission: >90 % Transmission im ultravioletten Bereich (185–3500 nm), mit überlegener Leistung im kurzwelligen UV-Band (185 nm) im Vergleich zu herkömmlichem Glas.
· Geringe Wärmeausdehnung: Wärmeausdehnungskoeffizient (CTE) von 0,52×10⁻⁶/°C (5–35°C), beständig gegen Langzeittemperaturen bis zu 1100°C und kurzzeitige Einwirkung von 1450°C.
2. Mechanische und chemische Stabilität
· Hohe Festigkeit: Biegefestigkeit 2–3× höher als bei Standardglas, Mohs-Härte von 7.
· Korrosionsbeständigkeit: 30× höhere Säurebeständigkeit als Keramik, ideal für raue chemische Umgebungen.
3. Elektrische Isolierung
· Widerstandsfähigkeit über 10¹⁸ Ω·cm, mit geringem dielektrischem Verlust bei hohen Frequenzen, wodurch es für HF-Schaltungen und Sensoren geeignet ist.
1. Halbleiterherstellung
· Substrate für CMOS-Bildsensoren und RFID-Chipverpackungen, die Wafer-Level-Packaging (WLP) für eine verbesserte Integration ermöglichen.
· MEMS-Gerätesubstrate (z. B. Drucksensoren, Beschleunigungsmesser), die die strukturelle Stabilität für Mikrokomponenten gewährleisten.
2. Optoelektronische Systeme
· UV-Laserfenster und Glasfaserkommunikationskoppler, die die UV-Transmissionsfähigkeiten nutzen.
· Optische Fenster für die Luft- und Raumfahrt, die beständig gegen Strahlung und Temperaturwechsel sind.
3. Medizin & Forschung
· Hochtemperatur-Optikkomponenten für endoskopische Bildgebungssysteme.
· Hitzebeständige Beobachtungsfenster für Laborreaktoren.
Diese Fenster wurden für spezielle optische Systeme entwickelt und verfügen über eine Freiform-Oberflächenschneidtechnologie, die asymmetrische Öffnungen und abgestufte Dickenkonfigurationen unterstützt. Beispiele sind:
· Winkelgeschnittene Fenster: Optimiert für Lichteinfallswinkel, um Reflexionsverluste zu minimieren.
· Durchgangslochfenster: Ermöglichen die Integration mehrerer Sensoren.
· Schnelles Prototyping: 3–5 Tage für Muster, <500-Einheiten-Kleinserien und Vakuumbeschichtungsdienste (z. B. AR/Reflexionsbeschichtungen) für militärische und Forschungsanwendungen.
1.Q: Warum 2-Zoll-Quarzwafer wählen?
A: 2-Zoll-Quarzwafer sind Substrate in Halbleiterqualität, die aus hochreinem Siliziumdioxid (SiO₂) hergestellt werden und durch Präzisionsbearbeitungstechniken wie CNC-Schneiden und Laserpolieren eine Ebenheit im Mikrometerbereich erreichen. Diese Wafer entsprechen den SEMI-Standards und unterstützen die Anpassung in Bezug auf Abmessungen und Dicke (Toleranz ±0,02 mm) und eignen sich für Anwendungen in der Optoelektronik, MEMS (Mikro-Elektro-Mechanische Systeme) und der Halbleiterverpackung.
2.Q: Was sind die Hauptanwendungen von 2-Zoll-Quarzwafern?
A: Sie werden hauptsächlich in der Halbleiterherstellung (CMOS-Bildsensoren, RFID-Chipverpackung), UV-Laserfenstern, Glasfaserkommunikationskopplern und optischen Komponenten für die Luft- und Raumfahrt eingesetzt. Ihre Wafer-Level-Packaging (WLP)-Kompatibilität und anpassbaren Oberflächenbehandlungen (z. B. Antireflexionsbeschichtungen (AR)) verbessern die Integration und Leistung in hochpräzisen Systemen.
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