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polished silicon wafer

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kaufen 12 Zoll Sic Wafer Siliziumkarbid 4H-N Typ Produktionsgrad Dummy Grade Große Größe Online Hersteller

12 Zoll Sic Wafer Siliziumkarbid 4H-N Typ Produktionsgrad Dummy Grade Große Größe
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2025-02-21 16:42:37
kaufen Sic Siliziumkarbid Wafer 5*5mm/10*10mm 4H-P Typ Produktionsgrad für Leistungselektronik Online Hersteller

Sic Siliziumkarbid Wafer 5*5mm/10*10mm 4H-P Typ Produktionsgrad für Leistungselektronik
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2025-01-24 15:04:24
kaufen Farbloses transparentes Silikon-Karbid polierte sic Oblatenlinse Online Hersteller

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2022-06-23 10:14:14
kaufen 6 Zoll Sic Siliziumkarbid Substrat 4H-P Durchmesser 150 mm Dicke 350 μm Null MPD-Produktion, Standard-Produktionsgrad Online Hersteller

6 Zoll Sic Siliziumkarbid Substrat 4H-P Durchmesser 150 mm Dicke 350 μm Null MPD-Produktion, Standard-Produktionsgrad
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2025-01-24 11:11:23
kaufen Hoher Reinheitsgrad UNO-lackierte Silikon-Karbid-sic Oblate, Silikon-Karbid-Substrat 6Inch 4H-Semi sic Online Hersteller

Hoher Reinheitsgrad UNO-lackierte Silikon-Karbid-sic Oblate, Silikon-Karbid-Substrat 6Inch 4H-Semi sic
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2023-05-11 14:23:27
kaufen 4H-N Typ SiC Substrat 10x10mm Wafer für Leistungselektronik Online Hersteller

4H-N Typ SiC Substrat 10x10mm Wafer für Leistungselektronik
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2025-07-31 09:09:08
kaufen 12 Zoll Sic Einzelkristall Siliziumkarbid Substrat Große Größe Hohe Reinheit Durchmesser 300 mm Produktqualität Für 5G-Kommunikation Online Hersteller

12 Zoll Sic Einzelkristall Siliziumkarbid Substrat Große Größe Hohe Reinheit Durchmesser 300 mm Produktqualität Für 5G-Kommunikation
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2025-02-21 14:58:31
kaufen Hochtemperaturbeständige SiC-Stützplatte/Stützplatte für Waferträger Online Hersteller

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2025-05-26 11:36:35
kaufen SiC Epitaxial Wafer Substrat Halbleiter Industrieanwendungen 4H-N Online Hersteller

SiC Epitaxial Wafer Substrat Halbleiter Industrieanwendungen 4H-N
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2024-05-29 11:51:08
kaufen Hochreine SiC-beschichtete Trägerplatte für Waferbehandlung und -übertragung Online Hersteller

Hochreine SiC-beschichtete Trägerplatte für Waferbehandlung und -übertragung
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2025-05-26 11:36:35
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Sic Substrat

Hoher Reinheitsgrad UNO-lackierte Silikon-Karbid-sic Oblate, Silikon-Karbid-Substrat 6Inch 4H-Semi sic

2 Zoll 6H - halb Leistungsaufnahme der Silikon-Karbid-Wafer-geringen Energie für Detektor

sic Silikon-Karbid des Barren-4inch 5 - 15mm Stärke für Halbleiter

4H-SEMI polierte sic Oblatenlinse 2INCH 3INCH 4INCH 9,0 Härte für Gerät-Material

Saphir-Oblate

Windows-Special-Orientierung des Halbleiterwafer-kundenspezifische Saphir-Glas-/Saphir

Saphir-Wafer Dicke 0,43 mm Saphir-Komponenten individuell angepasst Größe und Ausrichtung

Quadratische Saphir-Oblate/Saphir-Kristallglas 10x10mm 5x5mm für optische Linse

2°Off C - Achsen-synthetischer Saphir Glas-Epi - bereiter Zoll Durchmesser 50.8mm der Substrat-2

Gallium-Nitrid-Oblate

Stärke Laser-Projektions-Anzeigen-Gallium-Nitrid-GaN Wafers 350um

2inch 4inch freistehender GaN Gallium Nitride Substrates Template für geführt

Schablone 2INCH 4INCH NPSS/FSS AlN auf Saphirc$epi-oblate AlN-Auf-Saphiroblate

Gallium-Nitrid GaN AlN 2inch 4Inch Schablonen-Oblate auf Saphir, Si-Substrate

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