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SiC-Keramik-Bootträger für Wafer-Handling

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SiC-Keramik-Bootträger für Wafer-Handling

Customized SiC Ceramic Boat Carrier For Wafer Handling
Customized SiC Ceramic Boat Carrier For Wafer Handling Customized SiC Ceramic Boat Carrier For Wafer Handling Customized SiC Ceramic Boat Carrier For Wafer Handling Customized SiC Ceramic Boat Carrier For Wafer Handling

Großes Bild :  SiC-Keramik-Bootträger für Wafer-Handling

Produktdetails:
Herkunftsort: China
Markenname: zmsh
Zertifizierung: rohs
Ausführliche Produkt-Beschreibung
Material: mit einer Breite von nicht mehr als 20 mm Größe: 50 mm x 30 mm angepasst erhältlich
Hervorheben:

Wafer-Handling Keramik-Bootträger

,

Besonderes Keramikbootträger

,

SiC-Keramik-Bootträger

Kundenspezifischer SiC-Keramik-Bootsträger für die Wafer-Handhabung

 
Der kundenspezifische Siliziumkarbid (SiC)-Keramik-Bootsträger ist eine Hochleistungs-Wafer-Handhabungslösung, die für die Halbleiter-, Photovoltaik- und LED-Fertigungsprozesse entwickelt wurde. Dieser Träger wurde für hohe Temperaturstabilität, chemische Beständigkeit und extrem geringe Kontamination entwickelt und gewährleistet einen sicheren und effizienten Wafertransport in anspruchsvollen Umgebungen wie CVD-, Diffusionsöfen und Oxidationskammern.
 

 

SiC-Keramik-Bootträger für Wafer-Handling 0SiC-Keramik-Bootträger für Wafer-Handling 1
 
 


 

Hauptvorteile des SiC-Keramikboots

 

 
Hohe thermische Stabilität – hält Temperaturen bis zu 1.600 °C ohne Verformung stand.
Chemische Inertheit – beständig gegen Säuren, Laugen und Plasmaerosion, was eine lange Lebensdauer gewährleistet.
Geringe Partikelbildung – minimiert die Kontamination in der EUV- und Advanced-Node-Fertigung.
Anpassbares Design – zugeschnitten auf Wafergröße, Schlitzabstand und Handhabungsanforderungen
Ideal für Halbleiterfabriken, MEMS-Produktion und die Verarbeitung von Verbindungshalbleitern
 
 

 

SiC-Keramik-Bootträger für Wafer-Handling 2SiC-Keramik-Bootträger für Wafer-Handling 3
 
 


 

Spezifikation

 

 

Siliziumkarbid-Gehalt-%>99,5
Durchschnittliche Korngröße-Mikron4-10
Rohdichte-kg/dm^3>3,14
Offene Porosität-Vol.-%<0,5
Vickers-HärteHV0.5kg/mm^22800
Biegefestigkeit (3 Punkte)20 °CMPa450
Druckfestigkeit20 °CMPa3900
Elastizitätsmodul20 °CGPa420
Bruchzähigkeit-MPa/m^1/23,5
Wärmeleitfähigkeit20 °CW(m*K)160
Elektrischer Widerstand20 °COhm.cm10^6-10^8
Wärmeausdehnungskoeffizienta
(RT"800 °C)
K^-1*10^-64,3
Max. AnwendungstemperaturOxidationsatmosphäre°C1600
Max. AnwendungstemperaturInertgasatmosphäre°C1950
 

 


 

 

Anwendungen des SiC-Keramikboots

 

 
1. Halbleiterfertigung
✔ Diffusions- und Glühöfen
- Hohe Temperaturstabilität – hält 1.600 °C (oxidierend) / 1.950 °C (inert) ohne Verformung stand.
- Geringe Wärmeausdehnung (4,3 × 10⁻⁶/K) – verhindert Waferverformung bei Rapid Thermal Processing (RTP).

✔ CVD & Epitaxie (SiC/GaN-Wachstum)
- Gasbeständigkeit – inert gegenüber SiH₄, NH₃, HCl und anderen aggressiven Vorläufern.
- Partikelfreie Oberfläche – poliert (Ra <0,2 µm) für defektfreie epitaktische Abscheidung.

✔ Ionenimplantation
- Strahlungsgehärtet – keine Beeinträchtigung unter Hochenergie-Ionenbeschuss.

 
 
2. Leistungselektronik (SiC/GaN-Bauelemente)
✔ SiC-Wafer-Verarbeitung
- CTE-Anpassung (4,3 × 10⁻⁶/K) – minimiert Spannungen beim epitaktischen Wachstum bei 1.500 °C+.
- Hohe Wärmeleitfähigkeit (160 W/m·K) – gewährleistet eine gleichmäßige Wafererwärmung.

✔ GaN-on-SiC-Bauelemente
- Nicht kontaminierend – keine Freisetzung von Metallionen im Vergleich zu Graphitbooten.

 
 
3. Photovoltaik (Solarzellenproduktion)
✔ PERC- und TOPCon-Solarzellen
- POCl₃-Diffusionsbeständigkeit – widersteht Phosphordotierungsumgebungen.
- Lange Lebensdauer – 5–10 Jahre im Vergleich zu 1–2 Jahren bei Quarzbooten.

✔ Dünnschichtsolarzellen (CIGS/CdTe)
- Korrosionsbeständigkeit – stabil in H₂Se-, CdS-Abscheidungsprozessen.

 
 
4. LED & Optoelektronik
✔ Mini-/Mikro-LED-Epitaxie
- Präzises Schlitzdesign – hält empfindliche 2"–6"-Wafer ohne Kantenausbrüche.
- Reinraumkompatibel – erfüllt die SEMI F57-Partikelstandards.

 
 
5. Forschung & Spezialanwendungen
✔ Hochtemperatur-Materialsynthese
- Sinterhilfsmittel (z. B. B₄C, AlN) – chemisch inert in Umgebungen mit 2.000 °C+.
- Kristallwachstum (z. B. Al₂O₃, ZnSe) – reagiert nicht mit geschmolzenen Materialien.

 


 

FAQ

 
Q1:Welche Wafergrößen werden unterstützt?
Standard: 150 mm (6"), 200 mm (8"), 300 mm (12"). Anpassung auf Anfrage möglich.
 
Q2: Wie lange dauert die Vorlaufzeit für kundenspezifische Designs?
- Standardmodelle: 4–6 Wochen.
- Vollständig angepasst: 8–12 Wochen (je nach Komplexität).

 

Kontaktdaten
SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD

Ansprechpartner: Mr. Wang

Telefon: +8615801942596

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