Produkt-Details
Herkunftsort: China
Markenname: zmsh
Zertifizierung: rohs
Zahlungs-u. Verschiffen-Ausdrücke
Material: |
mit einer Breite von nicht mehr als 20 mm |
Größe: |
50 mm x 30 mm angepasst erhältlich |
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mit einer Breite von nicht mehr als 20 mm |
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50 mm x 30 mm angepasst erhältlich |
Kundenspezifischer SiC-Keramik-Bootsträger für die Wafer-Handhabung
Der kundenspezifische Siliziumkarbid (SiC)-Keramik-Bootsträger ist eine Hochleistungs-Wafer-Handhabungslösung, die für die Halbleiter-, Photovoltaik- und LED-Fertigungsprozesse entwickelt wurde. Dieser Träger wurde für hohe Temperaturstabilität, chemische Beständigkeit und extrem geringe Kontamination entwickelt und gewährleistet einen sicheren und effizienten Wafertransport in anspruchsvollen Umgebungen wie CVD-, Diffusionsöfen und Oxidationskammern.
Hauptvorteile des SiC-Keramikboots
Hohe thermische Stabilität – hält Temperaturen bis zu 1.600 °C ohne Verformung stand.
Chemische Inertheit – beständig gegen Säuren, Laugen und Plasmaerosion, was eine lange Lebensdauer gewährleistet.
Geringe Partikelbildung – minimiert die Kontamination in der EUV- und Advanced-Node-Fertigung.
Anpassbares Design – zugeschnitten auf Wafergröße, Schlitzabstand und Handhabungsanforderungen
Ideal für Halbleiterfabriken, MEMS-Produktion und die Verarbeitung von Verbindungshalbleitern
Spezifikation
Siliziumkarbid-Gehalt | - | % | >99,5 |
Durchschnittliche Korngröße | - | Mikron | 4-10 |
Rohdichte | - | kg/dm^3 | >3,14 |
Offene Porosität | - | Vol.-% | <0,5 |
Vickers-Härte | HV0.5 | kg/mm^2 | 2800 |
Biegefestigkeit (3 Punkte) | 20 °C | MPa | 450 |
Druckfestigkeit | 20 °C | MPa | 3900 |
Elastizitätsmodul | 20 °C | GPa | 420 |
Bruchzähigkeit | - | MPa/m^1/2 | 3,5 |
Wärmeleitfähigkeit | 20 °C | W(m*K) | 160 |
Elektrischer Widerstand | 20 °C | Ohm.cm | 10^6-10^8 |
Wärmeausdehnungskoeffizient | a (RT"800 °C) | K^-1*10^-6 | 4,3 |
Max. Anwendungstemperatur | Oxidationsatmosphäre | °C | 1600 |
Max. Anwendungstemperatur | Inertgasatmosphäre | °C | 1950 |
Anwendungen des SiC-Keramikboots
1. Halbleiterfertigung
✔ Diffusions- und Glühöfen
- Hohe Temperaturstabilität – hält 1.600 °C (oxidierend) / 1.950 °C (inert) ohne Verformung stand.
- Geringe Wärmeausdehnung (4,3 × 10⁻⁶/K) – verhindert Waferverformung bei Rapid Thermal Processing (RTP).
✔ CVD & Epitaxie (SiC/GaN-Wachstum)
- Gasbeständigkeit – inert gegenüber SiH₄, NH₃, HCl und anderen aggressiven Vorläufern.
- Partikelfreie Oberfläche – poliert (Ra <0,2 µm) für defektfreie epitaktische Abscheidung.
✔ Ionenimplantation
- Strahlungsgehärtet – keine Beeinträchtigung unter Hochenergie-Ionenbeschuss.
2. Leistungselektronik (SiC/GaN-Bauelemente)
✔ SiC-Wafer-Verarbeitung
- CTE-Anpassung (4,3 × 10⁻⁶/K) – minimiert Spannungen beim epitaktischen Wachstum bei 1.500 °C+.
- Hohe Wärmeleitfähigkeit (160 W/m·K) – gewährleistet eine gleichmäßige Wafererwärmung.
✔ GaN-on-SiC-Bauelemente
- Nicht kontaminierend – keine Freisetzung von Metallionen im Vergleich zu Graphitbooten.
3. Photovoltaik (Solarzellenproduktion)
✔ PERC- und TOPCon-Solarzellen
- POCl₃-Diffusionsbeständigkeit – widersteht Phosphordotierungsumgebungen.
- Lange Lebensdauer – 5–10 Jahre im Vergleich zu 1–2 Jahren bei Quarzbooten.
✔ Dünnschichtsolarzellen (CIGS/CdTe)
- Korrosionsbeständigkeit – stabil in H₂Se-, CdS-Abscheidungsprozessen.
4. LED & Optoelektronik
✔ Mini-/Mikro-LED-Epitaxie
- Präzises Schlitzdesign – hält empfindliche 2"–6"-Wafer ohne Kantenausbrüche.
- Reinraumkompatibel – erfüllt die SEMI F57-Partikelstandards.
5. Forschung & Spezialanwendungen
✔ Hochtemperatur-Materialsynthese
- Sinterhilfsmittel (z. B. B₄C, AlN) – chemisch inert in Umgebungen mit 2.000 °C+.
- Kristallwachstum (z. B. Al₂O₃, ZnSe) – reagiert nicht mit geschmolzenen Materialien.
FAQ
Q1:Welche Wafergrößen werden unterstützt?
Standard: 150 mm (6"), 200 mm (8"), 300 mm (12"). Anpassung auf Anfrage möglich.
Q2: Wie lange dauert die Vorlaufzeit für kundenspezifische Designs?
- Standardmodelle: 4–6 Wochen.
- Vollständig angepasst: 8–12 Wochen (je nach Komplexität).