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Besorgen Kundenspezifische leitfähige Art sic Oblate für Hochspannungs-Starkstromgerät-Solarphoto-voltaisches der hohen Temperatur Online-Herstellung

Kundenspezifische leitfähige Art sic Oblate für Hochspannungs-Starkstromgerät-Solarphoto-voltaisches der hohen Temperatur

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Besorgen 8inch DSP 4H sic Art des Oblaten-Silikon-Karbid-Substrat-Produktions-Grad-N für Experiment Online-Herstellung

8inch DSP 4H sic Art des Oblaten-Silikon-Karbid-Substrat-Produktions-Grad-N für Experiment

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Besorgen 4H-Siliziumkarbid-Substrat für Leistungselektronik, HF-Bauelemente & UV-Optoelektronik Online-Herstellung Video

4H-Siliziumkarbid-Substrat für Leistungselektronik, HF-Bauelemente & UV-Optoelektronik

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Besorgen 4H-N 8inch Halbleiter-Substrat SIC-Silikon-Karbid-Oblate für Solarphoto-voltaisches Online-Herstellung

4H-N 8inch Halbleiter-Substrat SIC-Silikon-Karbid-Oblate für Solarphoto-voltaisches

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Besorgen 4

4" 4H-Semi-Hochreine SIC-Wafer erstklassige Halbleiter EPI-Substrate AR-Gläser optische Qualität

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Besorgen Kundengebundene Größen-Quadrat-sic Chip-niedrige Gitter-Fehlanpassung mit hoch thermischem Online-Herstellung Video

Kundengebundene Größen-Quadrat-sic Chip-niedrige Gitter-Fehlanpassung mit hoch thermischem

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Besorgen kundengebundene Oblatenchips der Größe 4h-n 6h-semi der Größe 5x5 10x10mm sic Online-Herstellung Video

kundengebundene Oblatenchips der Größe 4h-n 6h-semi der Größe 5x5 10x10mm sic

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Besorgen Doppelseitig polierte SiC-Spiegel mit hoher Reinheit, optische Komponente für MEMS-Mikrospiegel Online-Herstellung Video

Doppelseitig polierte SiC-Spiegel mit hoher Reinheit, optische Komponente für MEMS-Mikrospiegel

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Besorgen 4H 6inch SiC Epitaxial Wafer 100μm/200μm/300μm für MOS-Geräte mit Ultraschallspannung (UHV) Online-Herstellung

4H 6inch SiC Epitaxial Wafer 100μm/200μm/300μm für MOS-Geräte mit Ultraschallspannung (UHV)

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Besorgen SiC-Wafer mit hoher Reinheit, halbisolierend, HPSI-Siliziumkarbid-Substrat für Strom- und HF-Geräte Online-Herstellung

SiC-Wafer mit hoher Reinheit, halbisolierend, HPSI-Siliziumkarbid-Substrat für Strom- und HF-Geräte

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Besorgen 6-Zoll-Ultra-Hochspannungs-SiC-Epitaxialwafer 100 500 μm Für MOSFET-Geräte Online-Herstellung

6-Zoll-Ultra-Hochspannungs-SiC-Epitaxialwafer 100 500 μm Für MOSFET-Geräte

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Besorgen Hochreines Siliziumcarbid (SiC) Pulver 99,9999% (6N) HPSI Typ 100μm Partikelgröße SIC Kristallwachstum Online-Herstellung

Hochreines Siliziumcarbid (SiC) Pulver 99,9999% (6N) HPSI Typ 100μm Partikelgröße SIC Kristallwachstum

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Besorgen Kundenspezifische quadratische optische Fenster, grüner Moissanit, SiC-Kristall, hohe Härte Online-Herstellung Video

Kundenspezifische quadratische optische Fenster, grüner Moissanit, SiC-Kristall, hohe Härte

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Besorgen SiC Dummy Wafer für Halbleiterprozessstabilisierung und Ausrüstungskonditionierung Online-Herstellung

SiC Dummy Wafer für Halbleiterprozessstabilisierung und Ausrüstungskonditionierung

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Besorgen 6H-N-SiC-Wafer: 2-Zoll-Substrat, Dicke 350 μm oder 650 μm Online-Herstellung

6H-N-SiC-Wafer: 2-Zoll-Substrat, Dicke 350 μm oder 650 μm

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Besorgen Silikon-Karbid-Oblate 10 x 10 x 0.5mm 2sp 4H-SEMI 4H-N SIC Online-Herstellung Video

Silikon-Karbid-Oblate 10 x 10 x 0.5mm 2sp 4H-SEMI 4H-N SIC

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Besorgen 2 Zoll bis 12 Zoll 4H-N-Siliziumkarbid-Wafer | SiC-Substratanwendung Online-Herstellung

2 Zoll bis 12 Zoll 4H-N-Siliziumkarbid-Wafer | SiC-Substratanwendung

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Besorgen 6 bis 12 Zoll SiC-Substrat-Laser-Trennsystem Online-Herstellung Video

6 bis 12 Zoll SiC-Substrat-Laser-Trennsystem

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Besorgen SiC Epitaxial Wafer Substrat Halbleiter Industrieanwendungen 4H-N Online-Herstellung Video

SiC Epitaxial Wafer Substrat Halbleiter Industrieanwendungen 4H-N

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Besorgen Silikonkarbid (SiC) Substrat 6 Zoll 8 Zoll Test-Grad-Wafer für Laserschneiden Online-Herstellung Video

Silikonkarbid (SiC) Substrat 6 Zoll 8 Zoll Test-Grad-Wafer für Laserschneiden

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Besorgen Sic 3C-N Typ Größe Bearbeitung Leiter Typ für Radarsysteme Null MPD Produktionsstufe Online-Herstellung

Sic 3C-N Typ Größe Bearbeitung Leiter Typ für Radarsysteme Null MPD Produktionsstufe

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Besorgen HPSI SiC Wafer 2-12 Zoll optischer Grad für AI/AR-Brille Online-Herstellung

HPSI SiC Wafer 2-12 Zoll optischer Grad für AI/AR-Brille

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Besorgen 4H-SEMI polierte sic Oblatenlinse 2INCH 3INCH 4INCH 9,0 Härte für Gerät-Material Online-Herstellung

4H-SEMI polierte sic Oblatenlinse 2INCH 3INCH 4INCH 9,0 Härte für Gerät-Material

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Besorgen 2/4/6/8 Zoll Sic Siliziumkarbid Kristall-Samen-Substrat 4H-N Typ Hohe Härte P-Klasse R-Klasse D-Klasse Online-Herstellung

2/4/6/8 Zoll Sic Siliziumkarbid Kristall-Samen-Substrat 4H-N Typ Hohe Härte P-Klasse R-Klasse D-Klasse

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Besorgen 6

6" Hochreines Siliziumkarbid 4H-Semi SIC Dummy Grade Halbleiterwafer LED 5G AR Brillen Optische Güte

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Besorgen Hochreine SiC-keramische Isoliersubstrate, hochtemperaturbeständig Online-Herstellung

Hochreine SiC-keramische Isoliersubstrate, hochtemperaturbeständig

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Besorgen blinder hoher Reinheitsgrad 4h-semi des Produktion Forschungs-Grad-Silikon-Karbids UNO-lackierte transparente sic Oblate Online-Herstellung

blinder hoher Reinheitsgrad 4h-semi des Produktion Forschungs-Grad-Silikon-Karbids UNO-lackierte transparente sic Oblate

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Besorgen Siliziumkarbid-Rechtecksubstrat-SiC-Chip für fortschrittliche Elektronik Online-Herstellung Video

Siliziumkarbid-Rechtecksubstrat-SiC-Chip für fortschrittliche Elektronik

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