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AL2O3 Polieren von Saphirröhren

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Guter Preis ​​JGS1 JGS2 Wafer Optische Quarzglasscheiben 2-12 Zoll​​ Online
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4-Zoll SiC Epitaxie-Wafer 4H-N Durchmesser 100 mm Dicke 350 µm Prime Grade

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6 Zoll SiC Epitaxial Wafer Durchmesser 150mm 4H-N Typ 4H-P Typ Für 5G Kommunikation

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SiC-Keramik-End-Effektor für die Wafer-Behandlung

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​​High-Purity SiC Vertical Furnace Tube High-Temperature Resistant

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​​Kundenspezifische Quarzglockengläser mit Beschichtungsoptionen für Halbleiter-Plasmageneratoren​​

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Keramisches Tray aus Siliziumkarbid zur Verarbeitung von Halbleiterwafern

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EFG-Saphirröhre – Hochleistungs-Optik- und Industrieanwendungen

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Hochreine (5N) einzelkristalline Siliziumelektrode mit anpassbarem Gaslochdurchmesser und mehreren Widerstandsoptionen für Halbleiterplasmasysteme

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Präzisions-Siliziumring (Si-Ring) für Halbleiter-Plasma-Esssysteme in Einkristall- und Polykristall-Silizium

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AL2O3 Polieren von Saphirröhren

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4H-SEMI SiC Substrat 2 Zoll Dicke 350µm 500µm Prime/Dummy Grade AR-Gläser Optische Güte

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SiC-Keramik-Bootträger für Wafer-Handling

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