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PRODUKTE

Saphir-Oblate

5 hohes Material des Zoll-Durchmessers 125mm Saphir-Substrat-9,0 der Härte-99,999% Al2O3

Kleine quadratische Saphir-Komponenten/kundenspezifische Saphir-Glas-Verschleißfestigkeit

Sic Substrat

4° Außerhalb der Achse SiC-Substrat 2 Zoll Hochtemperaturanwendungen Epitaxialwafer

SiC Epitaxial Wafer Substrat Halbleiter Industrieanwendungen 4H-N

2 Zoll 3 Zoll 4 Zoll SiC Substrat 330um Dicke 4H-N Typ Produktionsgrad

Silikonkarbid (SiC) -Substrat für hochwertige industrielle Anwendungen

CVD SiC Epitaxy Wafer 2 Zoll 3 Zoll 4 Zoll 6 Zoll Epitaxy Dicke 2,5-120 um für elektronische Energie

3' 4' 350um 500um SSP DSP 4H- 6H- Forschung Dummy Grade SIC Epitaxial Substrate

Saphir optisches Windows

Doppelte Seiten-Poliersaphir Windows für Fingerabdruck-Anerkennungs-Anwendungen

IC-Siliziumscheibe

Schwarzes 8 Zoll IC-Siliziumscheibe-Silikon-Barren Polysilicon für Halbleiter-Prozess

Draht sah Maschine

Maschine zum Schneiden von Natursteinen mit mehreren Drähten

Sic Diamantdrahtschneidemaschine Präzisionsführung Sic Kristallstange Schneiden

Diamantdraht-Ein- oder Mehrfachdrahtsäge für die Verarbeitung von Halbleiterwafern

Synthetischer Saphir Rod

Elektronische Keramik-synthetischer Saphir Rod mit 99,999% Materialien Al2O3

Fixierter Quarz-Platte

Optisches fixiertes Kristallmaterial des Silikon-Quarz-Rohr-SiO2 mit kundengebundener Loch-Form

Chemiefasergewebe-fixierter Quarz-Platte des Grad-GS1, Quarz-optische Fenster 2.2g/cm ³ Dichte

120 x 120mm fixierter Quarz-Platte kundengebundene quadratische Form für elektronisches Licht

Saphir-Teile

Saphirteile kundenspezifische Saphir-Einheiten reine Al2O3 Transparenzröhren Waferfenster

Saphirteile Kristalloptischer Zylinder Linse Härte 9,0 Hohe Lichtdurchlässigkeit individuell

Saphir-Optikteile Saphirglas Hochleistungs-Hochhärtepolierte Stäbchen Rohre maßgeschneidert

Saphirglasröhrchen Transparente Einkristall Alumina Elektroisolierungseigenschaften

AL2O3 Polieren von Saphirröhren

Einzelnes Crystal Sapphire Rods For Piston Plunger-HPLC System

Synthetischer Edelstein

Halbleiter-Ausrüstung

Magnetische Aufhängung Zentrifugalluftkompressor 45%-100% Dauermagnet Frequenzumwandlung Zentrifugaltechnologie

Glaslaser Präzisionsschneidemaschine Glasverarbeitung UV-Laser CNC-System

Teile für die Präzisionsbearbeitung von kleinen Tischlaserperforatoren mit Mikrometeröffnung

SiC-Kristallwachstumsöfen PVT LPE HT-CVD hochwertige SiC-Kristallwachstumsmethode

Oblate LiNbO3

Indium-Phosphid-Oblate

N / P schreiben Germanium-Oblate, Germanium-Optik-Platten-Durchmesser 0,5 | 150mm

Platten-Indium-Phosphid-Oblaten-ausgezeichnetes Halbleiter-Material GEs optische

Primär-/blinde Grad-Indium-Phosphid-Oblaten-Stärke 350um für LD

3,58 Oblaten-Magnesium-Oxid-Kristall-Substrat Dichte-MgO-Substrat-/MgO

keramisches Substrat

Keramische Oblaten-ausgezeichnete elektrische Eigenschaften des Substrat-Al2O3 für Gleitringdichtungen

Laborverpackung

Gallium-Nitrid-Oblate

Gallium-Nitrid GaN AlN 2inch 4Inch Schablonen-Oblate auf Saphir, Si-Substrate

Undoped halb- isolierende Gallium-Nitrid-Oblate HVPE und Schablonen-Art

GaN-Schablone wachsen Saphir-Trägersubstrat-Chip-Gewohnheits-Orientierung der Anwendungs-SSP

HVPE-Gallium-Nitrid GaN-Oblate, Gan-Chip-freie Stellung 10 x 10 Millimeter-Größe

Halbleiter-Gallium-Nitrid-Wafer, GaN-Substrat-Schablone N - Art - 2 Zoll

GaAs-Oblate

N - Schreiben Sie Galliumarsenid-Wafer GaAs einzelner Kristall-Substrate 2 - 6 Zoll

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