Saphirwafer 6'' Durchmesser 150mm±0,1mm Dicke 1000um C-Fläche 99,99% Rein

Saphir Wafer 6" Durchmesser 150mm±0,1mm Dicke 1000um C-Ebene 99,99% rein

Unsere 6-Zoll-Durchmesser-Saphir-Wafer sind präzise konstruierte Einzelkristall-Al2O3-Substrate, die für anspruchsvolle Halbleiteranwendungen entwickelt wurden.1 mm und Standarddicke von 1000±15 μm, bieten diese C-Fläche (0001) orientierten Wafer außergewöhnliche Leistungen für:

• Produktion von LED-Lösungen und Leistungseinrichtungen auf GaN-Basis
• Hochfrequenz-HF-Komponenten
• Fortgeschrittene optische Systeme

Spezifikationen

Anwendungen

Optoelektronik

• Mikro-LED-Displays
• UV-Sterilisationsgeräte
• Licht mit hoher Helligkeit

Elektroelektronik

• GaN-HEMT für 5G/6G
• Elektroelektrische Leistungsmodule
• Radarsysteme

Neue Technologien

• Quantenpunktgeräte
• MEMS-Resonatoren
• mit einer Leistung von mehr als 50 W

SchlüsselfaktorenSaphirwafer

1. Überlegene thermische Leistung

• Hohe Wärmeleitfähigkeit: 35 W/m·K @ 25°C
• Niedrige CTE: 5,3 × 10−6/K (25-500°C)
• Wärmeschlagfest: widersteht ΔT > 500°C

2Optische Exzellenz

• Breitbandübertragung: 85%@250nm → 92%@450nm → 90%@4000nm
• Mindestdoppelbrechbarkeit: < 3 nm/cm @ 633 nm
• Laserpolier: PV <λ/4 @633nm

3Mechanische Robustheit

• Extreme Härte: 2000 HV (Mohs 9)
• Hohe Biegefestigkeit: 700±50 MPa
• Young-Modul: 400 GPa

4. Herstellungsvorteile

• Durchmesserregelung: 150,0±0,1 mm (kompatibel mit 6" Werkzeugen)
• Auswahl von Dicken: 430-1000 μm verfügbar
• Randprofilierung: nach SEMI-Standards eingetastet oder lasermarkiert

Häufig gestellte Fragen

F: 1. Wie sollen Wafer behandelt und gelagert werden?

1. Verwenden Sie immer den Reinraum (Klasse 1000 oder höher)
2. Handhabung mit Vakuumstäbchen oder Werkzeugen mit PEEK-Spitzen
3. Aufbewahren in mit Stickstoff gereinigten Kassetten
4. Vermeiden Sie UV-Exposition

F: 2 Bestellinformationen

Standardkonfigurationen

• Durchmesser: 150 mm
• Dicke: 1000 μm
• Ausrichtung: C-Ebene (0001)
• Primärfläche: 32,5 mm