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Halbleiter-Ausrüstung

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China Laser-Holographische Markierungsanlage gegen Fälschungen mit 2500 W-Ausgangsleistung Fabrik

Laser-Holographische Markierungsanlage gegen Fälschungen mit 2500 W-Ausgangsleistung

Laser-Holographische Markierungsanlage gegen Fälschungen mit 2500 W-Ausgangsleistung Zusammenfassung der Laser-Holographic Anti-Fälschungsanlage Die laserinduzierte Strukturfarblithographie (LSCL) ist eine ... Lesen Sie weiter
2025-05-06 18:21:35
China Hochpräzise Laserbohrmaschine mit hoher Effizienz für die Verarbeitung von Mikro-Löchern Wellenlänge 1064 nm Fabrik

Hochpräzise Laserbohrmaschine mit hoher Effizienz für die Verarbeitung von Mikro-Löchern Wellenlänge 1064 nm

Beschreibung des Produkts Hochpräzisionslaserbohrmaschine mit hoher Wirkungsgrad und Wellenlänge 1064 nm · Laserquelle:Die Kernkomponente, die in der Regel Faserlaser, CO2-Laser oder ultraviolette Laser ... Lesen Sie weiter
2025-04-29 10:21:39
China Thermo-Komprimierungs-Anodiebindungsanlage Wärmedruckbindung Si Cu Al-Ge Material 600 °C 2-8 Zoll Fabrik

Thermo-Komprimierungs-Anodiebindungsanlage Wärmedruckbindung Si Cu Al-Ge Material 600 °C 2-8 Zoll

Thermo-Komprimierungs-Anodiebindungsanlage Wärmedruckbindung Si Cu Al-Ge Material 600 °C 2-8 Zoll Zusammenfassung von Anodiebindungsanlagen zur Thermo-Kompression Die Thermocompression Anodic Bonding Equipment ... Lesen Sie weiter
2025-04-23 15:21:41
China Wafer-Bindungsausrüstung Raumtemperatur Bindung in Hydrophiler Bindung Si-SiC Si-Si Bindung 2 -12 Zoll Fabrik

Wafer-Bindungsausrüstung Raumtemperatur Bindung in Hydrophiler Bindung Si-SiC Si-Si Bindung 2 -12 Zoll

Waferverbindungsanlage Raumtemperatur Bindungsin Hydrophiler Bindung Si-SiC Si-Si Bindung 2 -12 Zoll Übersicht über das Waferbindungssystem Wafer-Bindungsausrüstung ist eine High-End-Bindungsausrüstung, die ... Lesen Sie weiter
2025-04-18 11:43:18
China Automatischer Halbleiter-Schnellglühen-Ofen mit doppelter Hohlräume, kompatibel mit Wafer-Wärmebehandlungsanlagen mit einer Größe von 200-1300°C Fabrik

Automatischer Halbleiter-Schnellglühen-Ofen mit doppelter Hohlräume, kompatibel mit Wafer-Wärmebehandlungsanlagen mit einer Größe von 200-1300°C

Beschreibung des Produkts Automatischer Halbleiter-Schnellglühen-Ofen mit Doppel-Hohlraum, kompatibel mit Wafer-Wärmebehandlungsanlagen von 6", 8", 12" 200-1300°C Der automatische Doppelkammer-Schnellbrennöfen ... Lesen Sie weiter
2025-04-14 17:42:08
China Galliumarsenid-Optikfasertemperatursensor Kleine Sondengröße 0,5 mm Temperaturmessgenauigkeit ±0,1°C Fabrik

Galliumarsenid-Optikfasertemperatursensor Kleine Sondengröße 0,5 mm Temperaturmessgenauigkeit ±0,1°C

Abstract Galliumarsenid-Optikfasertemperatursensor Kleine Sondengröße 0,5 mm Temperaturmessgenauigkeit ±0,1°C Galliumarsenid (GaAs) -optischer Fasertemperatursensor ist eine Art kontaktloses Temperaturmesssyst... Lesen Sie weiter
2025-04-14 17:40:13
China Ausrüstung für die Mikrojet-Lasertechnologie Fabrik

Ausrüstung für die Mikrojet-Lasertechnologie

Zusammenfassung von mAusrüstung für die Lasertechnologie icrojet Ausrüstung für die Mikrojet-Lasertechnologie Microjet-Laser-Systeme ermöglichen eine hochpräzise Bearbeitung von Halbleitermaterialien, indem sie ... Lesen Sie weiter
2025-04-14 17:40:13
China Mikrofluidische Laserausrüstung für die Verarbeitung von Halbleiterwafern Fabrik

Mikrofluidische Laserausrüstung für die Verarbeitung von Halbleiterwafern

Zusammenfassung von mAusrüstung für die Lasertechnologie icrojet Mikrofluidische Laserausrüstung für die Verarbeitung von Halbleiterwafern Die Mikrojet-Lasertechnologie ist eine fortschrittliche und weit ... Lesen Sie weiter
2025-04-14 17:40:13
China Bionische Schieberegler mit hoher Reibung mit geringer Haftung Fabrik

Bionische Schieberegler mit hoher Reibung mit geringer Haftung

Bionische Rutschsicherung Abstract Bionische Schieberegler mit hoher Reibung mit geringer Haftung Bionische Rutschsicherung ist ein leistungsfähiges Rutschsicherungsinstrument, das biologische Strukturen ... Lesen Sie weiter
2025-04-14 17:40:13
China Monokristalline Silizium-Doppelstation-Quadratmaschine 6/8/12 Zoll Burr ≤0,5 mm hohe Präzision ±0,05 mm Fabrik

Monokristalline Silizium-Doppelstation-Quadratmaschine 6/8/12 Zoll Burr ≤0,5 mm hohe Präzision ±0,05 mm

Abstract Monokristalline Silizium-Doppelstation-Quadratmaschine 6/8/12 Zoll Burr ≤0,5 mm hohe Präzision ±0,05 mm Im Bereich der Verarbeitung von Halbleitermaterialien monocrystalline silicon two-root vertical ... Lesen Sie weiter
2025-04-14 17:40:13
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