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Ge-Germanium Wafer Halbleiter Substrate <111> Konzentrierende Photovoltaik CPV

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Ge-Germanium Wafer Halbleiter Substrate <111> Konzentrierende Photovoltaik CPV

Ge Germanium Wafer Semiconductor Substrates <111> Concentrating Photovoltaic CPV Custom Size Shapes
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Großes Bild :  Ge-Germanium Wafer Halbleiter Substrate <111> Konzentrierende Photovoltaik CPV

Produktdetails:
Herkunftsort: China
Markenname: ZMSH
Zertifizierung: rohs
Modellnummer: Substrate aus Germanium
Zahlung und Versand AGB:
Lieferzeit: 2-4 Wochen
Zahlungsbedingungen: T/T
Ausführliche Produkt-Beschreibung
Ausgangsstoffe:: Einzelner Kristall GEs Durchmesser:: 0.5~150mm
Stärke:: 0.5 mm Typ:: N-Typ/P-Typ/nicht doppiert
Oberfläche:: Polstert/aufgeschliffen Widerstandskraft:: 0.1~60ohm.cm
Industrie:: Halbleitersubstrate, Gerät, optisch
Hervorheben:

CPV-Germaniumwafer

,

Germanium-Wafer nach Maß

,

mit einer Breite von mehr als 20 mm


Beschreibung des Produkts

Halbleiter-Substrate aus Ge-Germanium-Wafern < 111> zur Konzentration von CPV-Photovoltaik

Germanium hat gute Halbleiter-Eigenschaften. Hochreines Germanium wird mit trivalenten Elementen (z. B. Indium, Gallium, Bor) doppiert, um P-Typ-Germanium-Halbleiter zu erhalten.und pentavalente Elemente (e.z.B. Antimon, Arsen und Phosphor) zur Herstellung von N-Typ-Germanium-Halbleitern doppiert.Hochwertige Germaniumsubstrate können in konzentrierter Photovoltaik (CPV) verwendet werden, Solarzellen für den Weltraum und Anwendungen mit hoher Helligkeit von Leuchtdioden (LED).

Ge-Germanium Wafer Halbleiter Substrate <111> Konzentrierende Photovoltaik CPV 0Ge-Germanium Wafer Halbleiter Substrate <111> Konzentrierende Photovoltaik CPV 1


Eigenschaften

- Die Gitterkonstante ist größer als die des Siliziums, was den Aufbau von Heterostrukturen fördert.

- Die hohe Elektronenmobilität, etwa dreimal so hoch wie bei Silizium, ist für die Herstellung von schnellen elektronischen Geräten geeignet.

- Die geringe Bandbreite (0,67 eV) macht sie für die infrarote photoelektrische Detektion und Emissionsanwendungen geeignet.

Ge-Germanium Wafer Halbleiter Substrate <111> Konzentrierende Photovoltaik CPV 2

Es ist empfindlicher auf Strahlung und eignet sich für strahlungsempfindliche elektronische Geräte.

Die Verarbeitungstechnologie ist relativ komplex und die Kosten hoch.


Technische Parameter

Ge-Germanium Wafer Halbleiter Substrate <111> Konzentrierende Photovoltaik CPV 3


Anwendungen

1- Hochfrequente analoge und HF-Elektronik: Mikrowellendioden, Transistoren, integrierte Schaltungen; Elektronische Geräte im Mikrowellenfrequenzband, wie Radar und Kommunikation.

2- Infrarot-Fotoelektrische Detektion und Emission: Infrarotdetektor, Wärmebildgerät; Infrarot-Emissionsdioden, Laserdioden.

3- Strahlungsempfindliche elektronische Ausrüstung: Verbundene Halbleiterheterostruktur: Luft- und Raumfahrt-Avionik; Kernkraftwerke und elektronische Ausrüstung im militärischen Bereich.

4. Verbundene Halbleiterheterostruktur: Substratmaterialien für III-V-Verbindungen wie GaAs, InP usw.; heterogene Strukturen von Solarzellen, Laserdioden usw.

Ge-Germanium Wafer Halbleiter Substrate <111> Konzentrierende Photovoltaik CPV 4


Unsere Dienstleistungen

1- Fabrik-Direktfertigung und Verkauf.

2Schnelle, genaue Zitate.

3Wir antworten Ihnen innerhalb von 24 Arbeitsstunden.

4. ODM: kundenspezifisches Design ist erhältlich.

5Schnelligkeit und kostbare Lieferung.


Häufig gestellte Fragen

1. F: Wie zahlen?
A:100% T/T, Paypal, West Union, MoneyGram, sichere Zahlung und Handel
Sicherung bei und so weiter.

2. F: Kann ich die Produkte anhand meiner Bedürfnisse anpassen?
A: Ja, wir können das Material anpassen, Spezifikationen für Ihre optischen Komponenten
- auf der Grundlage Ihrer Bedürfnisse.

3.Q: Was ist Ihr MOQ?
A: (1) Für Lagerbestände beträgt die MOQ 3 Stück.
(2) Für maßgeschneiderte Produkte beträgt die MOQ 25 Stück.

Größe und Tag:

MgO-Substrat,

Gap-Oblate,

inp-Oblate

Kontaktdaten
SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD

Ansprechpartner: Mr. Wang

Telefon: +8615801942596

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