Produkt-Details
Herkunftsort: China
Markenname: ZMSH
Model Number: InAs wafer
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Delivery Time: 2-4 weeks
Payment Terms: T/T
Material: |
Indiumarsenid |
Größe: |
2 Zoll |
Stärke: |
500 μm ± 25 μm |
Orientierung: |
< 100> |
Dichte: |
5.67 g/cm |
angepasst: |
Unterstützt |
Material: |
Indiumarsenid |
Größe: |
2 Zoll |
Stärke: |
500 μm ± 25 μm |
Orientierung: |
< 100> |
Dichte: |
5.67 g/cm |
angepasst: |
Unterstützt |
2 Zoll Indium Arsenid Wafer InAs Epitaxial Wafer für LD Laser Diode, Halbleiter epitaxial Wafer, 3 Zoll InAs-Zn Wafer,InAs Einzelkristallwafer 2 Zoll 3 Zoll 4 Zoll InAs-Zn Substrate für LD Anwendung, Halbleiterwafer, Indium-Arsenid-Laser-Epitaxialwafer
Eigenschaften von InAs-Zn-Wafer
- InAs-Wafer zur Herstellung verwenden
- Unterstützung von maßgeschneiderten Modellen mit Design-Artwork
- direktes Bandgap, effizient Licht emittiert, in Lasern verwendet.
- im Wellenlängenbereich von 1,5 μm bis 5,6 μm, Quantenbrunnengebäude
- Verwendung von Techniken wie MOCVD oder MBE, Ätzung, Metallisierung und Verpackung zur Erzielung der endgültigen Form des Geräts
Beschreibungen vonAs-ZnWafer
Indiumarsenid (InAs) ist ein wichtiges Halbleitermaterial, das aufgrund seiner engen Bandlücke (etwa 0,354 eV) in Bereichen wie Infrarotdetektoren und Lasern weit verbreitet ist.
InAs existiert in der Regel in Form eines kubischen Kristallsystems, und seine hohe Elektronenmobilität macht es in schnellen elektronischen Geräten gut.
In-As-Wafer von hoher Qualität können durch Techniken wie Molekularstrahl-Epitaxie (MBE) oder metallorganische chemische Dampfdeposition (MOCVD) angebaut werden.mit einer Breite von mehr als 20 mm,, insbesondere in den Bands 3-5 μm und 8-12 μm.
Darüber hinaus kann die Zink (Zn) doppierte InAs-Struktur ihre Leitfähigkeit anpassen, um Halbleiter des P- oder N-Types zu bilden, wodurch ihre elektrischen Eigenschaften optimiert werden.
Die Entwicklung von Quantenbrunnen und Quantenpunktstrukturen hat das Anwendungspotenzial von InAs im Bereich der Optoelektronik weiter erhöht.
Die Quantenpunkte-Technologie ermöglicht es den InAs, eine wichtige Rolle in aufstrebenden Bereichen wie Quantencomputing und Biobildgebung zu spielen.
Angesichts der steigenden Nachfrage nach leistungsstarken Infrarotgeräten und Quantentechnologien sind die Forschungs- und Anwendungsperspektiven von InAs und ihren doppierten Materialien groß.
Einzelheiten zu InAs-ZnWafer
Parameter | InAs-ZnWafer |
Materialzusammensetzung | Indium-Arsen (InAs) +Zink-Doping |
Kristallstruktur | Kubisches System (Zinkmischungsstruktur) |
Bandbreite | ~ 0,354 eV |
Elektronenmobilität | ~ 30.000 cm2/V·s |
Mobilität der Löcher | ~ 200 cm2/V·s |
Dichte | ~ 5,67 g/cm3 |
Schmelzpunkt | ~ 942 °C |
Wärmeleitfähigkeit | ~0,5 W/m·K |
Optische Bandlücke | ~ 0,354 eV |
Dopingmethode | P-Doping (über Zink) |
Anwendungsbereiche | Infrarotlaser, Detektoren, Quantenpunkte |
Größe | Durchmesser 2 Zoll. |
Stärke | 500 mm ± 25 mm |
Orientierung | < 100> |
Proben vonAs-ZnWafer'
* Bitte kontaktieren Sie uns, wenn Sie die angepassten Anforderungen haben.
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Häufig gestellte Fragen
1. F: Wie steht es mit den Kosten von InAs-Zn-Wafern im Vergleich zu anderen Wafern?
A: InAs-Zn-Wafer sind aufgrund von Materialknappheit, komplexen Herstellungsprozessen und spezialisierter Marktnachfrage in der Regel teurer als Silizium- und GaAs-Wafer.
2F: Was ist mit den Zukunftsperspektiven von InAs-Zn?Wafer?
A: Die Zukunftsperspektiven der InAs-Wafer sind sehr vielversprechend.
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