Qualität Gallium-Nitrid-Oblate & Saphir-Oblate usine

Stärke Laser-Projektions-Anzeigen-Gallium-Nitrid-GaN Wafers 350um

Material: Einzelner Kristall GaN

Methode: HVPE

Größe: 2inch

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Attrappe ordnen sic Stärke der Substrat-Oblaten-6Inch Dia150mm 4H-N 500mm

Anwendungen: Gerät, geführt, 5G, Detektor, Leistungselektronik

Industrie: semicondctor Oblate

Material: Halbleiter sic

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Art Silikon-Karbid-Waferherstellungs-Grad 2inch 3inch Dia100m 4H-N für Halbleiterbauelement

Material: sic Kristall

Industrie: Halbleiterwafer

Anwendung: Halbleiter, geführt, Gerät, Leistungselektronik, 5G

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4 Zoll-Halb-isolierender Indium-Phosphid InP-Wafer für LD-Laserdiode

Materialien: Einzelner Kristall InP

Industrie: Halbleitersubstrate, Gerät,

Farbe: Schwarz

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Saphir-Oblate Ti+ Al2O3, Saphir-Kristallglas-Linse lackiertes Titan

Material: Einzelner Kristall Al2O3

Industrie: Halbleiterwafer, Oblate des optischen Glases

Anwendung: geführte eli-bereite Oblate, optisches schützendes Fenster, Lager, elektrische keramische,

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Einzelner Kristall-ultra dünner Saphir-Wafer, Stärke des Saphir-Substrat-2 des Zoll-0.1mm

Material: 99,999% Al2O3

Industrie: geführtes, optisches Glas, eli-bereite Oblate

Anwendung: semicondutor Oblate, geführter Chip, optisches Glasfenster, elektronische Keramik

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Durchmesser 150 Millimeter des Saphir-Windows/Saphir-Kristallglas-extremer Oberflächenhärte

Material: 99,999% Al2O3

Industrie: geführtes, optisches Glas, eli-bereite Oblate

Anwendung: semicondutor Oblate, geführter Chip, optisches Glasfenster, elektronische Keramik

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2 / 3 Zoll-Saphir-Teile, Stärke-hohe Betriebstemperatur des Saphir-Substrat-0.4mm

Material: Einzelner Kristall Al2O3 SAPHIR

Orientierung: allgemeines C

Toleranz: 10um

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Optische Glasplatte, einzelnes Kristallglas für Armbanduhr-Glas-Linse

Material: 99,999% Al2O3

Industrie: geführtes, optisches Glas,

Anwendung: semicondutor Oblate, geführter Chip, optisches Glasfenster, elektronische Keramik

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8 Zoll-Durchmessers 200mm Saphir-Wafer durch 1.0mm Stärke 1sp für Epi - bereite Fördermaschine

Material: 99,999% Al2O3

Industrie: geführtes, optisches Glas, eli-bereite Oblate

Anwendung: semicondutor Oblate, geführter Chip, optisches Glasfenster, elektronische Keramik

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Rachsenmflächeneinachse Sapphire Wafer-Substrat 2Inch 3inch 4inch

Material: 99,999% Al2O3

Industrie: geführtes, optisches Glas, eli-bereite Oblate

Anwendung: semicondutor Oblate, geführter Chip, optisches Glasfenster, elektronische Keramik

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4 Zoll-Durchmesser 100 Millimeter-Lithium Tantalate-Wafers LiTaO3 LiNbO3 sechseckiger Crystal Structure

Materialien: Einzelner Kristall LiTaO3

Industrie: Halbleiterwafer, Sägeoblate, optische Oblate

Anwendung: 5G, SÄGE-Gerät, optisches Glas,

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6 Silikon-Karbid-Substrat-Wafer-blinder Grad des Zoll-4H-N 500mm 350um SIC

Anwendungen: Gerät, geführt, 5G, Detektor, Leistungselektronik

Industrie: semicondctor Oblate

Material: Halbleiter sic

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Polieroblate der ultradünnen Doppelt-Seite des Saphirs 2inch der Stärke 0.1mm 0.2mm

Material: 99,999% Al2O3

Industrie: geführtes, optisches Glas, eli-bereite Oblate

Anwendung: semicondutor Oblate, geführter Chip, optisches Glasfenster, elektronische Keramik

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2inch 4inch freistehender GaN Gallium Nitride Substrates Template für geführt

Material: GaN-epi auf Saphirfördermaschine

Methode: HVPE

Größe: 2inch

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Optisches Sapphire Crystal Synthetic Ruby For Watch-Glas

Material: Einzelner Kristall Al2o3

Industrie: Halbleiterwafer, Oblate des optischen Glases

Anwendung: geführte eli-bereite Oblate, optisches schützendes Fenster, Lager, elektrische keramische,

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