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Sic Substrat
Created with Pixso. Premium 3C-SiC-Substrate: N-Typ-Produktionswafer für 5G und Leistungselektronik

Premium 3C-SiC-Substrate: N-Typ-Produktionswafer für 5G und Leistungselektronik

Markenbezeichnung: ZMSH
Modellnummer: 3c-n sic
MOQ: 10 Stück
Preis: by case
Lieferzeit: in 30 Tagen
Zahlungsbedingungen: T/T
Einzelheiten
Herkunftsort:
China
Zertifizierung:
rohs
Größe:
2 Zoll, 4 Zoll, 6 Zoll, 5 × 5,10 × 10
Dielektrizitätskonstante:
9.7
Oberflächenhärte:
HV0.3> 2500
Dichte:
3,21 g/cm3
Wärmeleitkoeffizient:
4,5 x 10-6/k
Durchbruchspannung:
5,5 mV/cm
Anwendungen:
Kommunikation, Radarsysteme
Verpackung Informationen:
CustomZied Plastic Box
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
1000 Prozent/Monat
Produkt-Beschreibung

Premium 3C-SiC-Substrate: N-Typ-Produktionswafer für 5G und Leistungselektronik

Pionierarbeit für Halbleiterlösungen der dritten Generation

Premium 3C-SiC-Substrate: N-Typ-Produktionswafer für 5G und Leistungselektronik 0

Abbildung 1. Hochreine 3C-SiC-Halbleiterwafer

Mit mehr als einem Jahrzehnt dedizierter Expertise,ZMSHWir liefern hochgradig maßgeschneiderte Halbleiter-Substrate, darunter SiC-, Silizium-, Saphir- und SOI-Wafer.Unser Portfolio von Siliziumkarbid umfasst 4H, 6H- und 3C-Polytypen, die skalierbare Lieferketten von 2-Zoll-Forschungsproben bis zu 12-Zoll-Massenproduktionswafern bieten.

Gebaut für extreme Leistung:
Unsere N-Typ 3C-SiC-Substrate sind sorgfältig für die nächste Generation entwickelt.HochfrequenzstromkomponentenundElektrofahrzeugumrichterSie übertreffen das herkömmliche Silizium durch außergewöhnliche thermische Stabilität (bis zu 1.600°C) und überlegene Wärmeleitfähigkeit (49 W/m·K).Hergestellt nach strengen internationalen Luft- und Raumfahrtstandards, garantieren diese Wafer eine unerschütterliche Zuverlässigkeit in den anspruchsvollsten Betriebsumgebungen.

Kernmerkmale des Substrats

1- Vielseitige Skalierbarkeit der Abmessungen:
  • Standardformate:Erhältlich in 2", 4", 6" und 8" Durchmesser.
  • Geometrie nach Maß:Die individuelle Größe beginnt bei 5×5 mm bis hin zu kundenspezifischen Layouts.
2. Ultra-Low Defect Architektur:
  • Die Dichte der Mikrovoiden wird streng unter0.1 cm-2.
  • Eine außergewöhnliche Widerstandskontrolle gewährleistet maximale Leistung und Zuverlässigkeit des Geräts.
3. Nahtlose Prozesskompatibilität:
  • Optimiert für intensive Fertigungsschritte wie Hochtemperaturoxidation und Lithographie.
  • Überlegene Oberflächenflächigkeit erreicht beiλ/10 @632,8 nm.

Ausführliche technische Spezifikationen

Zulassung Null MPD-Produktionsstufe (Stufe Z) Standardproduktionsstufe (P-Stufe) Nicht-Fächer (D-Klasse)
Durchmesser 145.5 mm 150,0 mm
Stärke 350 μm ± 25 μm
Waferorientierung Außerhalb der Achse: 2,0°·4,0° in Richtung [1120] ± 0,5° für 4H/6H-P, auf der Achse: <111> ± 0,5° für 3C-N
** Mikropipendichte 0 cm-2
** Widerstandskraft P-Typ 4H/6H-P ≤ 0,1 Ω·cm ≤ 0,3 Ω·cm
n-Typ 3C-N ≤ 0,8 mΩ·cm ≤ 1 mΩ·cm
Primäre flache Orientierung 4H/6H-P {1010} ± 5,0°
3C-N {110} ± 5,0°
Primärflächige Länge 32.5 mm ± 2,0 mm
Sekundäre flache Länge 18.0 mm ± 2,0 mm
Sekundäre flache Ausrichtung Silikon nach oben, 90° CW. von der Prime-Fläche ± 5,0°
Grenze ausgeschlossen 3 mm 6 mm
LTV / TIV / Bogen / Warp ≤ 2,5 μm / ≤ 5 μm / ≤ 15 μm / ≤ 30 μm Der Wert der Verbrennungsmenge ist zu messen, sofern die Verbrennungsmenge nicht überschritten ist.
* Rauheit Polnisch Ra ≤ 1 nm
CMP Ra ≤ 0,2 nm Ra ≤ 0,5 nm
Randspalten durch hochintensives Licht Keine Mit einer Länge von ≤ 10 mm, mit einer Länge von ≤ 2 mm
* Hex-Platten durch hochintensives Licht Kumulative Fläche ≤ 0,05% Kumulative Fläche ≤ 0,1%
* Polytypische Bereiche nach Licht mit hoher Intensität Keine Kumulative Fläche ≤ 3%
Sichtbare Kohlenstoffinklusionen Keine Kumulative Fläche ≤ 0,05%
# Silikon-Oberflächen durch hochintensives Licht zerkratzt Keine Gesamtlänge ≤ 1 × Waferdurchmesser
Edge-Chips mit hoher Lichtintensität Keine zulässig Breite und Tiefe ≥ 0,2 mm 5 zulässig, jeweils ≤ 1 mm
Silikonbodenverschmutzung durch hohe Intensität Keine
Verpackung Mehrfachwafer-Kassette oder Einfachwaferbehälter

Primäre Anwendungsszenarien

1Hochfrequente HF- und 5G-Kommunikation

Wirklich wichtig als RF-Geräte-Substrate für5G-Basisstationen, die eine effiziente Verbreitung von mm-Wellensignal ermöglicht.Weiterentwickelte Radarsystemewenn eine geringe Dämpfung eine präzise Zielführung gewährleistet.

2. Elektrische Mobilität (EV)

RevolutionärBordladegeräte (OBC)Die Erhöhung der Energieverluste in 800-Volt-Architekturen um 40% verringert.GleichspannungsumrichterUm die Energieverschwendung um bis zu 90% zu reduzieren, erhöht sich die Reichweite des Fahrzeugs erheblich.

3C-SiC-Substrate häufig gestellte Fragen

F1: Was genau ist ein 3C-SiC-Substrat?

A: 3C-SiC bezeichnet kubisches Siliziumcarbid. Es ist ein hochspezialisiertes Halbleitermaterial, das durch eine kubische kristalline Struktur gekennzeichnet ist. Es bietet eine phänomenale Elektronenmobilität (1.100 cm)2/V·s) und robuste Wärmeleitfähigkeit (49 W/m·K).

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