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Silikonkarbid-Seed-Wafer des Typs 4H Dia 157±0,5 mm Dicke 500±50um Monokristallfläche > 153 mm

Produkt-Details

Markenname: ZMSH

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Hervorheben:

4H Siliziumkarbid-Samenwafer

,

Siliziumkarbid-Samenwafer-Typ

Polytype:
4H
Fehler bei der Ausrichtung der Oberfläche:
4° nach<11-20>±0,5o
Durchmesser:
157±0,5 mm
Stärke:
500 ± 50 μm
Primär von Flat:
18 ± 2,0 mm
Zweite Wohnung:
8 ± 2,0 mm
Polytype:
4H
Fehler bei der Ausrichtung der Oberfläche:
4° nach<11-20>±0,5o
Durchmesser:
157±0,5 mm
Stärke:
500 ± 50 μm
Primär von Flat:
18 ± 2,0 mm
Zweite Wohnung:
8 ± 2,0 mm
Silikonkarbid-Seed-Wafer des Typs 4H Dia 157±0,5 mm Dicke 500±50um Monokristallfläche > 153 mm

Silikonkarbid-Seed-Wafer des Typs 4H Dia 157±0,5 mm Dicke 500±50um Monokristallfläche > 153 mm

4H-Siliziumkarbid-Samen-Abstract

Im Bereich des Kristallwachstums von Siliziumcarbid (SiC) sind SiC-Samenwafer in Produktionsqualität für die Herstellung leistungsstarker Kristalle unerlässlich.Diese Wafer fungieren als Ausgangsmaterial für das Wachstum von SiC-Einkristallen, die in Hochtemperatur- und Hochleistungselektronikgeräten verwendet werden.und Defektniveaus, um das Wachstum von defektminimierten SiC-Kristallen zu unterstützenDie Verwendung von Samenwafern sorgt für einheitliche Kristallstrukturen und ist bei Leistungshalbleitergeräten wie Dioden und Transistoren von entscheidender Bedeutung.Hochwertige Samenwaffen tragen zur Effizienz und Langlebigkeit von SiC-Komponenten in verschiedenen Branchen bei.


Das Foto von 4H Silicon Carbide Seed

Silikonkarbid-Seed-Wafer des Typs 4H Dia 157±0,5 mm Dicke 500±50um Monokristallfläche > 153 mm 0Silikonkarbid-Seed-Wafer des Typs 4H Dia 157±0,5 mm Dicke 500±50um Monokristallfläche > 153 mm 1


Eigenschaften von 4H-Siliziumkarbid

Silikonkarbid-Seed-Wafer des Typs 4H Dia 157±0,5 mm Dicke 500±50um Monokristallfläche > 153 mm 2

SiC-Samenwafer sind speziell so konzipiert, dass sie den hohen Temperaturen standhalten, die für das Wachstum von SiC-Krysten erforderlich sind.

Die Anlagen, die für den physikalischen Dampftransport (PVT) verwendet werden, sind auf Temperaturen von mehr als 2000°C angewiesen, und die Samenplattform muss unter diesen extremen Bedingungen stabil bleiben.Produktionsaufbereitete Wafer sind so konstruiert, dass sie eine außergewöhnliche Wärmestabilität aufweisenDiese Temperaturbeständigkeit ist entscheidend für das Wachstum von großen,defektfreie SiC-Kristalle, die in Hochleistungs- und Hochtemperaturanwendungen verwendet werden, wie Elektrofahrzeuge, Luftfahrtsysteme und erneuerbare Energietechnologien. Wafer, die für das Wachstum bei hohen Temperaturen optimiert sind, helfen, Defekte wie Verrutschungen und Mikropiobe zu reduzieren,Gewährleistung eines höheren Ertrags von verwendbarem SiC-Material.


Anwendungen von 4H Silicon Carbide Seed

  1. Elektroelektronik
    4H-SiC-Samenwafer werden häufig für den Anbau von SiC-Kristallen für leistungsstarke Leistungselektronik verwendet.hohe Energieeffizienz bieten, geringere Schaltverluste und die Fähigkeit, bei hohen Spannungen und Temperaturen zu arbeiten. Diese Eigenschaften machen sie ideal für Anwendungen in Elektrofahrzeugen (EVs),Erneuerbare Energiesysteme (z. B. Solarumrichter und Windkraftanlagen)4H-SiC-basierte Komponenten verbessern die gesamte Energieeffizienz und Haltbarkeit und sind somit in modernen Stromversorgungssystemen sehr begehrt.

  1. Hohe Temperaturen und raue Umgebungen
    Die breite Bandbreite, die hohe Auflösespannung und die hervorragende Wärmeleitfähigkeit von 4H-SiC machen es perfekt für Geräte, die in extremen Umgebungen arbeiten.Öl- und Gasforschung, und militärische Ausrüstung profitieren von Halbleitern auf 4H-SiC-Basis, weil sie hohen Temperaturen, Strahlung und harter chemischer Exposition standhalten und gleichzeitig eine stabile Leistung beibehalten.Antriebsgeräte, und andere elektronische Geräte in diesen Branchen häufig auf 4H-SiC-Komponenten für zuverlässige Operationen angewiesen.

  1. Hochfrequenz- und HF-Geräte
    4H-SiC-Samenwafer werden bei der Herstellung von Hochfrequenz- und HF-Geräten verwendet.4H-SiC wird für Hochfrequenzkommunikationssysteme bevorzugtGeräte, die mit 4H-SiC hergestellt wurden, bieten eine hohe Effizienz und einen geringeren Stromverbrauch, was sie für Telekommunikationsinfrastrukturen, Luftfahrt,und Verteidigungsindustrie, wo Leistung und Zuverlässigkeit von entscheidender Bedeutung sind.

  1. LEDs und Optoelektronik
    4H-SiC dient als Substrat für den Anbau von Galliumnitrid (GaN) -Kristallen, die in blauen und ultravioletten (UV) LEDs und Laserdioden verwendet werden.Diese Geräte sind für Anwendungen wie Festkörperbeleuchtung unerlässlich.Die hohe Wärmeleitfähigkeit und die mechanische Festigkeit von 4H-SiC bieten eine stabile Plattform für GaN-Geräte, was ihre Effizienz und Lebensdauer verbessert.


Spezifikation

Silikonkarbid-Seed-Wafer des Typs 4H Dia 157±0,5 mm Dicke 500±50um Monokristallfläche > 153 mm 3