| Markenbezeichnung: | ZMSH |
| MOQ: | 10 |
| Lieferzeit: | 2-4 Wochen |
| Zahlungsbedingungen: | T/T |
hBN-Einkristall in Gerätequalität für 2D-Materialien, Graphen-Elektronik und Tief-UV-Anwendungen
Einkristall aus hexagonalem Bornitrid (hBN) in Gerätequalität ist ein hochreines Massenkristallmaterial, das mithilfe eines proprietären Wachstumsprozesses bei Atmosphärendruck gezüchtet wird. Diese Kristalle wurden speziell für die fortgeschrittene Forschung und elektronische und photonische Geräte der nächsten Generation entwickelt und bieten eine ultrareine, atomar flache Plattform für Graphen-Heterostrukturen, Van-der-Waals-Geräte, Nanophotonik und Optoelektronik im tiefen Ultraviolett.
Das Material weist eine außergewöhnliche Kristallqualität, eine geringe Defektdichte, eine hervorragende Durchschlagsfestigkeit und hervorragende optische Eigenschaften auf. Eine unabhängige Validierung durch Dritte hat gezeigt, dass die Leistung elektronischer Geräte mit dem aktuellen akademischen Benchmark der führenden Hersteller von hBN-Kristallen vergleichbar ist oder diesen übertrifft.
Der hBN-Einkristall in Gerätequalität ist als millimetergroße Volumenkristalle mit natürlichen Wachstumsfacetten erhältlich und ein ideales Substrat- und Einkapselungsmaterial für hochmobile Graphengeräte und neue zweidimensionale Materialsysteme.
![]()
![]()
![]()
![]()
| Parameter | Spezifikation |
|---|---|
| Material | Einkristall aus hexagonalem Bornitrid (hBN). |
| Kristallqualität | Gerätequalität |
| Kristallform | Bulk-Einkristall |
| Wachstumsmethode | Proprietäres Wachstum des Atmosphärendrucks |
| Typische seitliche Größe | ≥ 1 mm |
| Kristalloberfläche | Natürliche Wachstumsfacetten |
| Verpackung | Chipträger |
| Menge pro Paket | 5–10 Kristalle |
| Parameter | Typischer Wert |
| Dielektrisches Durchschlagsfeld | 1,64 ± 0,06 V/nm |
| Parameter | Typischer Wert |
| UV-Bandkantenemission | ~215 nm |
| Raman E₂g FWHM | 7,88 cm⁻¹ |
| Kristalllumineszenzqualität | Modernstes Niveau |
| Parameter | Typischer Wert |
| Graphen-Mobilität bei Raumtemperatur | ~80.000 cm²/V·s |
| Trägerdichte | 1 × 10¹² cm⁻² |
| Messtemperatur | 300 K |
![]()
hBN in Gerätequalität wird häufig als Verkapselungsschicht und Substratmaterial für Graphentransistoren, Hall-Geräte und elektronische Hochfrequenzkomponenten verwendet. Seine atomar glatte Oberfläche minimiert die Ladungsstreuung und ermöglicht eine extrem hohe Ladungsträgermobilität.
Das Material dient als entscheidender Baustein in Van-der-Waals-Heterostrukturen mit Graphen, Übergangsmetalldichalkogeniden (TMDs) und anderen neuen zweidimensionalen Materialien.
Hochwertiges hBN unterstützt die Ausbreitung von Phonon-Polaritonen und wird zunehmend in nanophotonischen Geräten, optischen Metaoberflächen und der Quantenphotonikforschung eingesetzt.
Mit einer charakteristischen Bandkantenemission nahe 215 nm sind hBN-Einkristalle vielversprechende Materialien für Emitter, Detektoren und photonische Systeme der nächsten Generation im tiefen UV.
Forscher nutzen hBN als ultrareine dielektrische Plattform zur Untersuchung neuartiger Quantenphänomene, darunter Moiré-Übergitter, korrelierte Elektronensysteme und Quantentransport.
Im Vergleich zu herkömmlichen polykristallinen Bornitridmaterialien bieten hBN-Einkristalle in Gerätequalität:
Diese Eigenschaften machen hBN zu einem der wichtigsten Basismaterialien für moderne zweidimensionale Elektronik und photonische Technologien.
hBN-Einkristalle in Gerätequalität werden in schützenden Chipträgern geliefert, um einen sicheren Transport und eine bequeme Handhabung im Labor zu gewährleisten. Jede Packung enthält typischerweise 5–10 Kristalle mit repräsentativen lateralen Abmessungen von mehr als 1 mm.
Auf Anfrage sind eine individuelle Kristallauswahl und die Beschaffung von Materialien in Forschungsqualität möglich.
hBN in Gerätequalität ist ein hochreiner, defektarmer Einkristall aus hexagonalem Bornitrid, der speziell für die Herstellung elektronischer, photonischer und Quantengeräte optimiert ist.
hBN bietet eine atomar glatte und elektrisch isolierende Oberfläche, die die Mobilität des Graphenträgers und die Geräteleistung im Vergleich zu herkömmlichen Substraten deutlich verbessert.
Ja. Hochwertiges hBN weist eine Bandkantenemission nahe 215 nm auf, was es für Photonik, Detektoren und optoelektronische Geräte im tiefen UV attraktiv macht.
Standardkristalle in Gerätequalität weisen typischerweise laterale Abmessungen von mehr als 1 mm auf. Je nach Produktionscharge sind möglicherweise größere Kristalle und kundenspezifische Auswahlmöglichkeiten verfügbar.
Ja. hBN-Einkristalle in Gerätequalität werden häufig in der akademischen Forschung, in fortgeschrittenen Materialstudien, in der Graphenelektronik, in der Nanophotonik und bei der Herstellung von Geräteprototypen eingesetzt.