| Markenbezeichnung: | ZMSH |
| MOQ: | 10 |
| Lieferzeit: | 2-4 Wochen |
| Zahlungsbedingungen: | T/T |
4-Zoll-C-Plane SSP Sapphire Substrat Al2O3 für LED und optische Anwendungen
Übersicht
Unsere 4-Zoll-C-Plane-SSP (Single Side Polished) Saphirsubstrate sind hochreine, monokristalline Al2O3-Wafer, die für fortschrittliche Halbleiter-, Optoelektronik- und optische Anwendungen entwickelt wurden.mit einer außergewöhnlichen mechanischen FestigkeitDiese Wafer sind ideal für das epitaxiale Wachstum von GaN, AlN und anderen III-V oder II-VI-Verbindungen geeignet, die in LEDs, Laserdioden,mit einer Breite von mehr als 20 mm,.
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Wesentliche Merkmale
Einkristallsafir von hoher Reinheit (Al2O3)
C-Flächenorientierung (0001) mit enger ±0,3° Toleranz
Einseitig polierte Oberfläche (SSP), vordere Ra < 0,2 nm
Ausgezeichnete Flachheit und geringe Bögenlänge (< 15 μm)
Hohe thermische und chemische Stabilität bei rauen Bedingungen
Anpassbare Achse, Durchmesser und Dicke verfügbar
Spezifikationen
| Parameter | Spezifikation |
|---|---|
| Durchmesser | 100 mm ± 0,3 mm (4 Zoll) |
| Orientierung | C-Ebene (0001), ±0,3° |
| Stärke | 650 μm ± 15 μm |
| Verbeugen | < 15 μm |
| Vorderfläche | Einseitig poliert (Ra < 0,2 nm) |
| Rückenoberfläche | Feingemahlen (Ra 0,8 ∼ 1,2 μm) |
| TTV (Gesamtdickenvariation) | ≤ 20 μm |
| LTV (lokale Dickenvariation) | ≤ 20 μm |
| Warpgeschwindigkeit | ≤ 20 μm |
| Material | > 99,99% hochreine Al2O3 |
Mechanische und thermische Eigenschaften
Mohs-Härte: 9 (nach dem Diamant)
Wärmeleitfähigkeit: 25 W/m·K
Schmelzpunkt: 2045°C
Niedrige thermische Ausdehnung sorgt für die Stabilität der Abmessungen
Optische und elektronische Eigenschaften
Optische Transparenz: 190 nm ∼ 5500 nm
Brechungsindex: ~ 1.76
Eigener Widerstand: 1E16 Ω·cm
Ausgezeichneter Isolator mit geringem Dielektrverlust
Anwendungen
Substrat für GaN, AlN und III-V oder II-VI-Epitaxialwachstum
Blaue, grüne und weiße LED-Produktion
Substrate für Laserdioden
Infrarot-optische Komponenten und Fenster
Hochpräzisionsoptik und Mikroelektronik
SOS- (Silicon-on-Sapphire) und RFIC-Geräte
Warum wählen Sie C-Plane Sapphire?
C-Flächensafir weist eine hohe Anisotropie, eine hervorragende Kratzfestigkeit und einen geringen Dielektrverlust auf, was ihn ideal für Halbleiter-, optische und mikroelektronische Anwendungen macht.Seine kristalline Struktur ermöglicht ein hochwertiges epitaxielles Wachstum mit minimalem Gitterunterschied für GaN-basierte LEDs und andere Dünnschichtgeräte.
Verpackung und Versand
Standardverpackung für Reinräume (Klasse 100), einzelne Wafer oder Kassettenbox
Vakuumversiegelt für die kontaminierungsfreie Lieferung
Auf Wunsch erhältliche individuelle Verpackung
Häufig gestellte Fragen
- Was ist das?Was ist der Unterschied zwischen SSP- und DSP-Saphirwafern?
A:SSP ist einseitig poliert und eignet sich für das epitaxiale Wachstum auf der polierten Seite; DSP ist doppelseitig poliert und bietet ultraflache Oberflächen auf beiden Seiten für High-End-optische Anwendungen.
- Was ist das?Kann die Wafer angepasst werden?
A:Ja, wir akzeptieren maßgeschneiderte Durchmesser, Dicken und Achsenorientierung nach Kundenvorgaben.
- Was ist das?Welche Anwendungen gibt es für 4-Zoll-C-Flächen-Saphir-Wafer?
A:Sie werden häufig für GaN-LED-Substrate, Laserdioden-Substrate, IR-Fenster, SOS-Geräte und andere hochpräzise optoelektronische oder Halbleiteranwendungen verwendet.
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