| Markenbezeichnung: | ZMSH |
| MOQ: | 10 |
| Lieferzeit: | 2-4 Wochen |
| Zahlungsbedingungen: | T/T |
Das quadratische Saphir-Substrat (SSP) besteht aus hochreinem (>99,99 %) Einkristall-Al₂O₃ und bietet ausgezeichnete mechanische Festigkeit, thermische Stabilität und optische Transparenz. Mit C-Ebenen-Orientierung (0001) und einseitig polierter (SSP) Oberfläche ist es ideal für Epitaxie, die Herstellung von GaN-basierten LEDs, optische Komponenten und Hochtemperatur- oder Vakuumanwendungen.
| Parameter | Spezifikation |
|---|---|
| Material | Hochrein >99,99 %, Einkristall Al₂O₃ |
| Abmessung | 10 × 10 mm |
| Dicke | 1 mm (andere Dicken auf Anfrage erhältlich) |
| Orientierung | C-Ebene (0001) bis M (1-100) 0,2° ± 0,1° Off |
| Gitterparameter | a = 4,785 Å, c = 12,991 Å |
| Dichte | 3,98 g/cm³ |
| Wärmeausdehnungskoeffizient | 6,66 × 10⁻⁶ /°C (||C-Achse), 5 × 10⁻⁶ /°C (⊥C-Achse) |
| Dielektrische Festigkeit | 4,8 × 10⁵ V/cm |
| Dielektrizitätskonstante | 11,5 (||C-Achse), 9,3 (⊥C-Achse) @ 1 MHz |
| Dielektrischer Verlustfaktor | < 1 × 10⁻⁴ |
| Wärmeleitfähigkeit | 40 W/(m·K) bei 20 °C |
| Polieren | Einseitig poliert (SSP), Ra< 0,3 nm (AFM); Rückseite feingeschliffen Ra = 0,8–1,2 µm |
Außergewöhnliche chemische und thermische Stabilität
Hohe optische Transparenz und Oberflächenebenheit
Geringer dielektrischer Verlust und hohe Wärmeleitfähigkeit
Hervorragende mechanische Härte und Kratzfestigkeit
Erhältlich in kundenspezifischen Größen, Orientierungen und Dicken
GaN- und AlN-Epitaxie
Herstellung von LEDs und Laserdioden
Optische und Infrarot-Fenster
Hochleistungs-HF- und Mikrowellengeräte
Forschung und Halbleitertests