Produktdetails:
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Size: | 2inch,4inch,6inch,5×5,10×10 | Dielectric Constant: | 9.7 |
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Surface Hardness: | HV0.3>2500 | Density: | 3.21 G/cm3 |
Thermal Expansion Coefficient: | 4.5 X 10-6/K | Breakdown Voltage: | 5.5 MV/cm |
Applications: | Communications, Radar systems |
3C-SiC-Substrat N-Typ Produktgüte für 5G-Kommunikation
ZMSH ist auf Forschung und Entwicklung sowie die Produktion von Halbleitermaterialien der dritten Generation spezialisiert und verfügt über mehr als ein Jahrzehnt Branchenerfahrung. Wir bieten kundenspezifische Dienstleistungen für Halbleitermaterialien wie Saphir, Siliziumwafer und SOI an. Im Bereich Siliziumkarbid (SiC) decken wir Substrate vom Typ 4H/6H/3C ab und unterstützen die Vollgrößenversorgung von 2-Zoll- bis 12-Zoll-Wafern mit flexibler Anpassung, um die Anforderungen der Kunden zu erfüllen und integrierte Industrie- und Handelsdienstleistungen zu realisieren.
Unsere SiC-Substrate sind für Hochfrequenz-Leistungsbauelemente und Automobilanwendungen (z. B. EV-Wechselrichter) konzipiert und bieten eine thermische Stabilität von bis zu 1.600 °C und eine Wärmeleitfähigkeit von 49 W/m·K, wodurch sie siliziumbasierten Alternativen überlegen sind. Wir halten uns an internationale Standards und verfügen über Zertifizierungen für Materialien in Luft- und Raumfahrtqualität, wodurch die Kompatibilität mit extremen Umgebungen gewährleistet wird.
1. Mehrgrößenabdeckung:
2. Geringe Defektdichte:
3. Prozesskompatibilität:
Hohe Elektronenbeweglichkeit: 3C-SiC erreicht 1.100 cm²/V·s und übertrifft damit 4H-SiC (900 cm²/V·s) deutlich, wodurch die Verlustleistung reduziert wird.
Hohe Wärmeleitfähigkeit: 49 W/m·K, überlegen gegenüber Silizium, unterstützt den stabilen Betrieb von -200 °C bis 1.600 °C.
Beständig gegen Säuren/Laugen und Strahlung, geeignet für Luft- und Raumfahrt- und Nuklearanwendungen.
N-Typ 3C-SiC, Einkristall
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Gitterparameter
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a=4,349 Å
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Stapelfolge
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ABC
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Mohs-Härte
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≈9,2
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Dichte
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2,36 g/cm3
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Therm. Ausdehnungskoeffizient
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3,8×10-6/K
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Brechungsindex @750nm
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n=2,615
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Dielektrizitätskonstante
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c~9,66
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Wärmeleitfähigkeit
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3-5 W/cm·K@298K
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Bandlücke
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2,36 eV
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Elektrische Durchbruchfeldstärke
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2-5×106V/cm
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Sättigungsdriftgeschwindigkeit
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2,7×107m/s
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※ Die Eigenschaften von Siliziumkarbid-Materialien dienen nur als Referenz.
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5G-Kommunikationsbasisstationen: 3C-SiC-Substrate dienen als HF-Bauelement-Substrate und ermöglichen die mmWave-Signalübertragung für Hochgeschwindigkeitskommunikation.
On-Board-Ladegeräte (OBC): 3C-SiC-Substrate reduzieren den Energieverlust um 40 % und verkürzen die Ladezeit für 800-V-Plattformen.
Solarwechselrichter: Steigert die Effizienz um 1–3 %, reduziert das Volumen um 40–60 % und hält rauen Umgebungen stand.
Strahlungsgehärtete Geräte: 3C-SiC-Substrate ersetzen siliziumbasierte Komponenten in Satelliten und Raketen und verbessern die Strahlungsbeständigkeit und Lebensdauer.
A1: 3C-SiC (kubisches Siliziumkarbid) ist ein Halbleitermaterial mit einer kubischen Kristallstruktur, das eine hohe Elektronenbeweglichkeit (1.100 cm²/V·s) und Wärmeleitfähigkeit (49 W/m·K) bietet und sich ideal für Hochfrequenz- und Hochtemperaturanwendungen eignet.
Q2: Was sind die Hauptanwendungen von 3C-SiC-Substraten?
A2: 3C-SiC-Substrate werden aufgrund ihrer verlustarmen Eigenschaften und Strahlungsbeständigkeit in 5G-HF-Geräten, EV-Wechselrichtern und der Luft- und Raumfahrtelektronik eingesetzt.
Tag: #Siliziumkarbid-Substrat, #3C-N-Typ SIC, #Halbleitermaterialien, #
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Ansprechpartner: Mr. Wang
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