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Produktdetails:
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Laser Type: | Excimer (193nm/248nm), Femtosecond (343nm/1030nm) | Processing Area: | Max 150mm × 150mm |
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Processing Speed: | 50–300mm/s | Lift-Off Thickness: | 10nm–20μm |
System Integration: | EFU clean unit, exhaust gas treatment system | Application: | Semiconductor Manufacturing,Flexible Electronics |
Hervorheben: | SiC-Substrat-Lasertrennmaschine,angepasste SiC-Substrat-Laser-Trennmaschine |
6 bis 12 Zoll SiC-Substrat-Laser-Trennsystem
Das Laser-Lift-Off-System (LLO) ist eine fortschrittliche Präzisionsverarbeitungstechnologie, die hochenergetische pulsierte Lasers verwendet, um eine selektive Materialtrennung an Schnittstellen zu erreichen.Diese Technologie wird in der Halbleiterherstellung weit verbreitet.Die wichtigsten Vorteile sind die berührungslose Verarbeitung, die hochauflösende Steuerung und die Kompatibilität mit mehreren Materialien.so dass es für Anwendungen wie die Massenübertragung von MicroLED unerlässlich ist, flexible Anzeigefertigung und Halbleiter-Wafer-Ebene-Verpackung.
Die wichtigsten Leistungen der Firma:
Maßgeschneiderte Lösungen: Maßgeschneiderte Laserwellenlänge (193nm ¥1064nm), Leistung (1W ¥100W) und Automatisierungsintegration zur Unterstützung von Forschung und Entwicklung und Massenproduktion.
Prozessentwicklung: Optimierung von Laserparametern, Beamformung und Validierung (z. B. UV-Laser-LLO für Saphirsubstrate).
Intelligente Wartung: Integrierte Fernüberwachung und Stördiagnose, die 24/7 Betriebsunterstützung mit < 2 Stunden Reaktionszeit gewährleistet.
Parameter | Typische Werte | Anmerkungen. |
Lasertyp | Exzimer (193nm/248nm), Femtosecond (343nm/1030nm) | Impulssbreite 5 ̊20 ns, Spitzenleistung > 10 kW |
Verarbeitungsbereich | Maximal 150 mm × 150 mm | Mehrstationsparallele Verarbeitung |
Verarbeitungsgeschwindigkeit | 50 ∼ 300 mm/s | Verstellbar je Material und Laserleistung |
Abhebenstärke | 10 nm ≈ 20 μm | Fähigkeit zur Delamination Schicht für Schicht |
Systemintegration | Saubere Einheit der EFU, Abgasreinigungsanlage | Einhaltung der ISO 14644-Reinigungsrichtlinie |
LLO arbeitet durch selektive Ablation an den Materialschnittstellen:
Laserstrahlung: Hochenergetische Impulse (z. B. Exzimer- oder Femtosekundenlaser) konzentrieren sich auf die Zieloberfläche (z. B. Saphir-GaN) und induzieren photothermische/photochemische Reaktionen.
Interface-Zersetzung: Laserenergie löst eine Vergasung aus (z. B. GaN → Ga + N2), wodurch Plasma und thermische Spannungen für eine kontrollierte Delamination erzeugt werden.
Materialansammlung: Delaminate Mikrostrukturen werden durch Vakuumaussaugen oder Flüssigkeitsdynamik erfasst, um eine kontaminierungsfreie Übertragung sicherzustellen.
Schlüsseltechnologien:
- Ich weiß.Eigenschaft | Technische Spezifikationen | Anträge |
Kontaktlose Verarbeitung | Laserenergie über Optik übertragen, wodurch mechanische Belastungen an zerbrechlichen Materialien vermieden werden | Flexible OLED, MEMS |
Hohe Präzision. | Positionierungsgenauigkeit ±0,02 mm, Energiedichte-Steuerung ±1% | MicroLED-Transfer, Sub-μm-Musterbildung |
Kompatibilität zwischen verschiedenen Materialien | Unterstützt UV (CO2), sichtbare (grüne) und IR-Laser; kompatibel mit Metallen, Keramik, Polymeren | Halbleiter, Medizinprodukte, erneuerbare Energien |
Intelligente Steuerung. | Integrierte Bildverarbeitung, KI-gesteuerte Parameteroptimierung, automatisiertes Be- und Entladen | 30%+ Produktionseffizienzsteigerung |
1. Halbleiterherstellung
- Ich weiß.
2. Flexible Elektronik
- Ich weiß.
3. Medizinische Geräte
- Ich weiß.
4Erneuerbare Energien
- Ich weiß.
1F: Was ist ein Laseraufnahmesystem?
A: Ein Laseraufnahmesystem ist ein präzises Verarbeitungswerkzeug, das mit hochenergetischen Pulslasern Materialien an Schnittstellen selektiv trennt.Anwendungen wie MicroLED-Massentransfer und flexible Elektronikfertigung ermöglichen .
2. F: Welche Branchen verwenden LLO-Systeme?
A: LLO-Systeme sind entscheidend für die Herstellung von Halbleitern (Packungen auf Waferebene), flexibler Elektronik (klappbare Displays), medizinischen Geräten (Sensorfertigung),und erneuerbare Energien (Solarzellen), die berührungslose, hochauflösende Verarbeitung bietet.
Tags: #6-12 Zoll, #1064nm, # SiC Substrat Laser Trennsystem Maschine, #Wafers angepasst
Ansprechpartner: Mr. Wang
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