Produkt-Details
Herkunftsort: China
Markenname: ZMSH
Zertifizierung: rohs
Modellnummer: Anodische Verbindungseinrichtungen mit thermischer Kompression
Zahlungs-u. Verschiffen-Ausdrücke
Min Bestellmenge: 2
Preis: by case
Lieferzeit: 5 bis 10 Monate
Zahlungsbedingungen: T/T
Verbindungsmethoden:: |
Thermische Druckbindung |
Kompatible Wafergrößen:: |
2-8inch |
Kompatible Materialien:: |
Si, Cu, Au, Au-Sn, Al-Ge |
Maximale Temperatur:: |
600℃ |
Höchstdrückkraft:: |
100 kN, Genauigkeit der Steuerung ≤ ± 1% |
Anodenspannung und -strom:: |
≤ 2kv, ≤ 100mA |
Verbindungsmethoden:: |
Thermische Druckbindung |
Kompatible Wafergrößen:: |
2-8inch |
Kompatible Materialien:: |
Si, Cu, Au, Au-Sn, Al-Ge |
Maximale Temperatur:: |
600℃ |
Höchstdrückkraft:: |
100 kN, Genauigkeit der Steuerung ≤ ± 1% |
Anodenspannung und -strom:: |
≤ 2kv, ≤ 100mA |
Thermo-Komprimierungs-Anodiebindungsanlage Wärmedruckbindung Si Cu Al-Ge Material 600 °C 2-8 Zoll
Zusammenfassung von Anodiebindungsanlagen zur Thermo-Kompression
Die Thermocompression Anodic Bonding Equipment integriert eine Dual-Process-Bindungstechnologie, die Thermocompression und Anodebindung kombiniert.speziell für die metallisierte Verpackung von 2 bis 8 Zoll Wafern (e.g., Si/Cu/Al-Ge-Systeme) mit einer maximalen Betriebstemperatur von 600°C. Thermocompressionsanodische Bindungsanlage durch präzise Steuerung von Temperatur-, Druck- und Spannungsparametern,Es erreicht eine hochfeste hermetische Dichtung zwischen den Wafern, so dass es für Verpackungsanwendungen geeignet ist, die eine hohe Temperaturbeständigkeit und Zuverlässigkeit erfordern, wie z. B. MEMS-Geräte und Leistungshalbleiter.Der Hauptvorteil liegt in der gleichzeitigen Fähigkeit zur Diffusionsbindung von Metallen (Thermo-Kompression) und zur Verbindung von Glas-Silizium-Schnittstellen (Anodenbindung).
Technische Spezifikationen für das Waferverbindungssystem
Wafergröße: | 4-8 Zoll |
Kompatible Materialien: | Si, Cu, Au, Au-Sn, Al-Ge usw. |
Höchsttemperatur: | 600°C |
Maximaldruck: | 100 kN, Genauigkeit der Steuerung ± 1% |
Erwärmungsrate: | 30°C/min |
Temperaturgleichheit: | ≤ ± 2% |
Anodenspannung und -strom: | ≤ 2 kV, ≤ 100 mA |
Genauigkeit nach der Bindung: | ≤ 5 μm, ≤ 2 μm |
Beförderungsart: | Kassetten |
Multimode-Integration | Randerkennung, Aktivierung, Reinigung, Ausrichtung, Bindung |
Bindungsatmosphäre: | Vakuum, Methanol, Inertgas (optional)Al) |
Die Thermocompression Anodic Bonding-Ausrüstung unterstützt die Verarbeitung von 2 bis 8" Wafer mit einer maximalen Betriebstemperatur von 600°C, einem Druckbereich von 5 bis 200 kN und einem Vakuum von ≤5×10−3 Pa.Anodische Thermo-Kompressions-Bindungsgeräte mit einem hochpräzisen geschlossenen Kreislauf-Steuerungssystem für die Temperatur (± 1 °C), Druck (Schwankung ≤±1%) und Spannung (0-2000 V, einstellbar für die Anodenbindung) Kompatibel mit Materialsystemen wie Si, Cu und Al-Ge,speziell für hermetische Verpackungen (Leckrate ≤1×10−8 Pa·m3/s) in MEMS und Leistungseinrichtungen ausgelegt.
Thermische Druckbindung
Au-Si-Bindung:
Arbeitsprinzip:
Anodische Thermo-Kompressions-Bindungsgeräte:
Ausrichtung der Thermo-Kompressionsbindung (Genauigkeit < 2 μm)
Anwendungen
· Verpackung von MEMS-Geräten: Thermocompression Anodic Bonding Equipment ermöglicht eine hermetische Verkapselung von mikroelektromechanischen Systemen und gewährleistet eine langfristige Betriebssicherheit.
· Leistungshalbleiterverpackung: Thermocompression Anodic Bonding Equipment ermöglicht eine hochtemperaturbeständige und thermisch leitfähige Schnittstellenbindung für Hochleistungschips.
· Sensor-Hermetische Verpackung: Die Thermocompression Anodic Bonding Equipment bietet eine feuchtigkeits-/oxidationssichere Schutzkapselung für umweltempfindliche Sensoren.
· Optoelektronische Integration: Thermocompression Anodic Bonding Equipment ermöglicht die heteromaterielle Bindung zwischen optischen und elektronischen Komponenten zur Steigerung der photoelektrischen Umwandlungseffizienz.
BearbeitungswirkungAnodische Verbindung von Glas zu Silizium.
Fragen und Antworten
1. F: Welche Vorteile hat die thermisch komprimierte Anodenbindung im Vergleich zur Standardanodenbindung?
A: Kombiniert Metalldiffusionsbindungsfestigkeit mit glas-Si-hermetischer Dichtung und ermöglicht eine hybride Verpackung für MEMS/Leistungseinrichtungen bei niedrigeren Temperaturen (≤600°C).
2F: Welche Materialien können mit thermo-kompressiven Anodenbindungen gebunden werden?
A: Kompatibel mit Si-, Glas-, Cu- und Al-Ge-Legierungen - ideal für MEMS-Deckel, Leistungselektronik und optoelektronische Verpackungen.
Tag: #Thermo Kompression Anodic Bindungsausrüstung, #Thermal Druck Bindung, #Si, #Cu, #Al-Ge Material