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2-Zoll-Safir-Wafer mit Loch-C-Fläche Al2O3 Monokristalline 9,0 Härte

Produkt-Details

Herkunftsort: China

Markenname: ZMSH

Modellnummer: Sapphire Wafer

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Hervorheben:

9.0 Härte Saphirwafer

,

2inch Sapphire Wafer

,

C-Fläche Saphirwafer

Material:
Al2O3 Einzelkristall
Durchmesser:
50.80mm
Stärke:
430 um
Kristallrichtung:
C-Ebene
Oberfläche:
DSP
Hohl:
angepasst
Material:
Al2O3 Einzelkristall
Durchmesser:
50.80mm
Stärke:
430 um
Kristallrichtung:
C-Ebene
Oberfläche:
DSP
Hohl:
angepasst
2-Zoll-Safir-Wafer mit Loch-C-Fläche Al2O3 Monokristalline 9,0 Härte

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Merkmale der Saphirwafer

• aus synthetischem Saphir mit einer Reinheit von 99,999%.

· Hat eine Mohs-Härte von 9.0, die eine überlegene Kratzfestigkeit und Langlebigkeit gewährleistet.

· 85% Sichtlichtdurchlässigkeit bietet, was eine außergewöhnliche Klarheit und Sichtbarkeit bietet.

· Unterstützt die Anpassung auf der Grundlage der bereitgestellten Entwurfszeichnungen.

· Bietet hohe Leistung, auch in schwierigen und rauen Umgebungen.


Über die Saphirwafer

Ein 2-Zoll-Saphir-Wafer mit Löchern ist ein leistungsstarkes optisches Material, das in Laser-, Optoelektronik- und Kommunikationstechnologien weit verbreitet ist.Es besteht aus Einkristall-Aluminium-Oxid (Al2O3) und weist eine hervorragende optische Transparenz und hohte Temperaturbeständigkeit auf.Diese Wafer ist präzise verarbeitet, um eine gleichmäßige Verteilung und eine dimensionale Genauigkeit der Löcher zu gewährleisten, die für spezielle optische Konstruktionsanforderungen geeignet sind.

Durch das Lochdesign dieser Wafer wird nicht nur das Gesamtgewicht reduziert, sondern auch die Auswirkungen von reflektiertem und zerstreutem Licht auf das optische System.Aufgrund der Härte und chemischen Stabilität des Saphirmaterials, kann die 2-Zoll-Saphir-Wafer mit Löchern ihre Leistung in verschiedenen rauen Umgebungen aufrechterhalten und eine langfristige stabile optische Leistung gewährleisten.

Darüber hinaus ist der Einsatz von Saphirwafer mit Löchern sehr weit verbreitet und wird häufig für die Herstellung von optischen Fenstern, Filtern, Sensoren und mikroelektronischen Geräten eingesetzt.Seine gute Wärmeleitfähigkeit und elektrische Isolierung machen es zu einer idealen Wahl für Hochleistungslaseranwendungen und kann extremen Bedingungen standhalten, ohne Leistung zu verlieren.

Kurz gesagt, die 2-Zoll-Saphir-Wafer mit Löchern ist ein unverzichtbarer Bestandteil der modernen optischen Technologie.Diese Wafer bietet eine zuverlässige Lösung für verschiedene Hightech-Anwendungen und ist eine ideale Wahl für Forschung und Industrie.


Andere Einzelheiten des Saphirwafers

Eigentum Spezifikation
Name Teile aus Saphir
Größe

2 Zoll oder angepasst

Dichte in g/cm3 3.98
Härte (Mohs) 9.0
Schmelzpunkt, °K 2050
Oberflächenflächigkeit λ/4 @ 633 nm
Modul von Young 3.4 x 1011 N m-2
Wärmegrenze 22 W m-1 K-1
Koeffizient der thermischen Ausdehnung 8.4 x 10-6 K-1
Oberflächenqualität 40 bis 20 Schablonen
Kristallklasse Hexagonales System, rhomboidale Klasse 3m
Optischer Übertragungsbereich, μm 0.17 bis 5.5
Brechungsindex bei 0,532 μm n0=1.7717, ne=1.76355
Oberflächenqualität 40 bis 20 Schablonen


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Häufig gestellte Fragen
1F: Wie werden Saphirwafer hergestellt?
A: Saphirwafers werden mit der Ky-Methode hergestellt.Es verwendet eine Schmelzwuchsmethode und kann effektiv die Qualität und Größe der Kristalle kontrollieren.


2F: Wie machen wir Löcher auf dem Saphirwafer?

A: Wir verwenden Laser, um Löcher zu machen. Wir haben die Korrosionsmethode mit einem einzigen Impuls und die Methode mit einem kreisförmigen Impuls, hauptsächlich mit einem kreisförmigen Impuls.