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SiC-Samenwafer 8 Zoll Dicke 600±50um 4H-Typ Produktionsgrad für Silikonkarbid Kristallwachstum

Produkt-Details

Herkunftsort: China

Markenname: ZMSH

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Hervorheben:

4H SiC-Samenwafer

,

8 Zoll SiC-Samen-Wafer

,

SiC-Samenwafer für Kristallwachstum

Polytype:
4H
Monokristallfläche:
¥153 mm
Durchmesser:
mit einer Breite von nicht mehr als 20 mm
Stärke:
600 ± 50 μm
Grobheit:
Ra≤0,2 nm
Fehler bei der Ausrichtung der Oberfläche:
4° nach<11-20>±0,5o
Polytype:
4H
Monokristallfläche:
¥153 mm
Durchmesser:
mit einer Breite von nicht mehr als 20 mm
Stärke:
600 ± 50 μm
Grobheit:
Ra≤0,2 nm
Fehler bei der Ausrichtung der Oberfläche:
4° nach<11-20>±0,5o
SiC-Samenwafer 8 Zoll Dicke 600±50um 4H-Typ Produktionsgrad für Silikonkarbid Kristallwachstum

SiC-Samenwafer 8 Zoll Dicke 600±50um 4H-Typ Produktionsqualität für Silikonkarbid Kristallwachstum

Abstrakt der SiC-Samenwafer

SiC-Samenwafer sind für die Herstellung von hochwertigen Siliziumkarbid (SiC) -Kristallen von entscheidender Bedeutung.in der Leistungselektronik aufgrund ihrer überlegenen Wärmeleitfähigkeit und hoher Abbruchspannung weit verbreitetDie SiC-Samenwafer der Produktionsstufe unterliegen einer strengen Qualitätskontrolle, um die optimale Wachstumsumgebung für SiC-Kristalle zu gewährleisten.Die Samenwaffen werden typischerweise nach Reinheit und struktureller Integrität eingeteilt., die sich direkt auf die Leistung von SiC-basierten Geräten wie MOSFETs und Schottky-Dioden auswirken.Diese Wafer werden für die Herstellung von defektfreien Kristallen für industrielle Anwendungen verwendet..


Foto von SiC-Samenwafer

SiC-Samenwafer 8 Zoll Dicke 600±50um 4H-Typ Produktionsgrad für Silikonkarbid Kristallwachstum 0SiC-Samenwafer 8 Zoll Dicke 600±50um 4H-Typ Produktionsgrad für Silikonkarbid Kristallwachstum 1


Eigenschaften der SiC-Samenwafer

SiC-Samenwafer 8 Zoll Dicke 600±50um 4H-Typ Produktionsgrad für Silikonkarbid Kristallwachstum 2

Die SiC-Samenwafer der Produktionsstufe sind durch ihre hohe Reinheit und strukturelle Integrität gekennzeichnet, die für das erfolgreiche Wachstum von Siliziumkarbidkristallen von entscheidender Bedeutung sind.Die Reinheit der Wafer beeinflusst direkt die Qualität des Kristalls, auf dem gewachsen wird

Verunreinigungen können zu Defekten in der Kristallstruktur führen und die Effizienz und Leistung der daraus resultierenden SiC-Halbleitervorrichtungen verringern.SiC-Samenwafer mit hoher Reinheit sorgen für eine stabile Kristallwachstumsphase, frei von Verunreinigungen und führt zu einem Produkt mit überlegenen elektrischen Eigenschaften.ist für die Förderung eines einheitlichen Kristalls unerlässlich

Bei Wafern mit minimalen Defekten wird sichergestellt, daß die hergestellten SiC-Kristalle von hoher Qualität sind und den anspruchsvollen Bedingungen in der Leistungselektronik standhalten.


Anwendungen von SiC-Samenwafer

  1. Elektroelektronik
    SiC-Samenwafer sind für die Herstellung leistungsstarker Leistungselektronik von entscheidender Bedeutung.niedrige UmschaltverlusteSiC-basierte Komponenten wie MOSFETs und Schottky-Dioden werden in verschiedenen Stromversorgungssystemen eingesetzt.einschließlich Elektrofahrzeuge (EV), Industriemotoren und Leistungsumwandlungssysteme.Diese Geräte bieten im Vergleich zu herkömmlichen Halbleitern auf Siliziumbasis eine bessere Effizienz und Leistung bei hohen Temperaturen und hohen Spannungen.

  1. Hochfrequenzgeräte
    In Kommunikationssystemen und Radaranwendungen ermöglichen SiC-Samenwafer das Wachstum von SiC-Kristallen, die in Hochfrequenzgeräten verwendet werden.Die Fähigkeit des Materials, bei höheren Frequenzen mit geringeren Signalverlusten zu funktionieren, macht es ideal für HF- (Radiofrequenz) und MikrowellengeräteDiese Geräte werden in fortgeschrittenen Kommunikationsnetzen, Luft- und Raumfahrtsystemen und Verteidigungstechnologien eingesetzt, wo Leistung unter extremen Bedingungen unerlässlich ist.Die Verwendung von SiC-Samenwafern ermöglicht die Herstellung von Hochfrequenzgeräten, die effizienter und zuverlässiger bei der Übertragung und Empfang von Signalen sind.

  1. LED und Optoelektronik
    SiC-Samenwafer werden auch bei der Herstellung von optoelektronischen Geräten verwendet, einschließlich Lichtdioden (LED) und Laserdioden.Siliziumcarbid dient als Substrat für das Wachstum von Galliumnitrid (GaN)Diese Geräte sind wichtig für Anwendungen in Festkörperbeleuchtung, Displays und hocheffizienten Beleuchtungslösungen.Die thermische und mechanische Stabilität von SiC ̊ bei hohen Temperaturen ermöglicht effizientere und langlebigere LED-Produkte, die ihre Anwendungen in Automobil-, Gewerbe- und Wohnbeleuchtungssystemen weiter ausdehnen.


Spezifikation

SiC-Samenwafer 8 Zoll Dicke 600±50um 4H-Typ Produktionsgrad für Silikonkarbid Kristallwachstum 3