Produkt-Details
Herkunftsort: China
Markenname: ZMSH
Modellnummer: Saphir-Teil
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Lieferzeit: 2-4 Wochen
Zahlungsbedingungen: T/T
Materialien: |
99,999% Al2O3 |
Typ: |
Monokristall |
Härte: |
90,0 Mohs |
Oberfläche: |
SSP |
Dichte: |
30,98 g/cm3 |
Übertragbarkeit: |
85% |
Materialien: |
99,999% Al2O3 |
Typ: |
Monokristall |
Härte: |
90,0 Mohs |
Oberfläche: |
SSP |
Dichte: |
30,98 g/cm3 |
Übertragbarkeit: |
85% |
+ können durch Design-Artwork angepasst werden
+ aus reinem Saphir (99,999%Al2O3) hergestellt
+ hohe Härte 9 Mohs, hervorragende Kratzfestigkeit
+ hohe Durchlässigkeit, ca. 80%-90% im sichtbaren Lichtspektrum
(ca. 400 bis 700 nm).
+mit einem Durchmesser von mehr als 20 mm,Medizinprodukte, Lasersysteme, hochpräzise Sensoren
Saphirwafer ist ein wichtiges Material, das in der Herstellung von Halbleitern, Optoelektronik und LEDs weit verbreitet ist.
Saphirwafer weist hervorragende physikalische und chemische Eigenschaften auf, wie hohe Härte, hervorragende Wärmeleitfähigkeit und gute optische Durchlässigkeit.Vor allem im ultravioletten bis nahen Infrarotband.
Bei der Herstellung werden Saphirwafers in der Regel durch Schmelzwuchsverfahren (wie z. B. Czochralski-Methode) hergestellt.Saphirkristalle mit geringen Defekten zur Gewährleistung der Qualität und Leistung der WaferIn elektronischen Geräten kann Saphir als Substrat die Stabilität und Lebensdauer des Geräts effektiv verbessern.
Die 4-Zoll-Saphirwafer ist eine der gängigen Spezifikationen auf dem aktuellen Markt.Es wird üblicherweise zum Anbau von Halbleitermaterialien wie Galliumnitrid (GaN) zur Herstellung leistungsstarker Leuchtdioden (LED) und hochfrequenter elektronischer Geräte verwendet.
AußerdemSaphirwafer werden aufgrund ihrer stabilen Kristallstruktur und ihrer hohen Temperatur- und Korrosionsbeständigkeit auch in hochpräzisen optischen Komponenten und integrierten Schaltkreissubstraten weit verbreitet.
Mit dem Fortschritt der Technologie wird die Anwendung von 4-Zoll-Saphir-Wafern weiter ausgebaut, insbesondere in den Bereichen Hochleistungselektronik und photoelektrische Umwandlung.Die Entwicklung und Anwendung von Saphirmaterialien wird die Entwicklung verwandter Branchen weiter fördern und den Bedarf an höheren Leistungen decken..
Details zu Saphirwafern
| Artikel 1 | 4-Zoll-C-Fläche 430um Saphir-Wafer | |
| Kristallstoffe | 99,999%, hohe Reinheit, monokristalline Al2O3 | |
| Zulassung | Primär, Epi-Ready | |
| Oberflächenorientierung | A-Ebene ((11-20) | |
| Durchmesser | 50.8 mm ± 0,1 mm | |
| Stärke | 430 ± 25 Um | |
| Primärflächige Länge | 16.0 mm ± 1,0 mm | |
| Doppelseitig poliert | Vorderfläche | Epipoliert, Ra < 0,5 nm (durch AFM) |
| (DSP) | Rückenoberfläche | Epipoliert, Ra < 0,5 nm (durch AFM) |
| TTV | ≤ 10 μm | |
| Bogen | ≤ 10 μm | |
| WARP | ≤ 10 μm | |
| Reinigung / Verpackung | Klasse 100 Reinigung von Reinräumen und Vakuumverpackungen, | |
| 25 Stück in einer Kassettenverpackung oder Einzelverpackung. | ||
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Häufig gestellte Fragen
1F: Wie werden Saphirwafer hergestellt?
A: Saphirwafers werden mit der Ky-Methode hergestellt.Es verwendet eine Schmelzwuchsmethode und kann effektiv die Qualität und Größe der Kristalle kontrollieren.
2F: Ist der Herstellungsprozess von Saphirwafer umweltfreundlich?
A: Der Herstellungsprozess von Saphirwafer muss streng unter Umweltschutzbedingungen kontrolliert werden.Verarbeitung und Entsorgung von Rohstoffen können Auswirkungen auf die Umwelt habenDaher müssen die Hersteller wirksame Maßnahmen zum Umweltschutz ergreifen.
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