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4' 5' SiO2 Einzelkristall IC Chips CZ Methode 500um 1mm Oxidationsschicht 500nm 2μM
  • 4' 5' SiO2 Einzelkristall IC Chips CZ Methode 500um 1mm Oxidationsschicht 500nm 2μM
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4' 5' SiO2 Einzelkristall IC Chips CZ Methode 500um 1mm Oxidationsschicht 500nm 2μM

Herkunftsort China
Markenname ZMSH
Zertifizierung ROHS
Modellnummer SiO2-Chips
Produkt-Details
Material:
SiO2-Chips
Durchmesser:
4'5'
Stärke:
500 mm bis 1 mm
Orientierung:
111
TTV:
5um
Verzerrung:
5um
Bogen:
5um
Ra:
0,2 nm
Anwendung:
IC-Wafer
Markieren: 

CZ-Methode SiO2-IC-Chips

,

SiO2-Einzelkristall-IC-Chips

,

5' IC Siliziumwafer

Produkt-Beschreibung

4' 5' SiO2 Einzelkristall IC Chips CZ Methode 500um 1mm Oxidationsschicht 500nm 2μm

 

Beschreibung:

Monokristallines Silizium ist ein aktiveres nichtmetallisches Element, ein wichtiger Bestandteil von Kristallmaterialien, an der Spitze der Entwicklung neuer Materialien.Seine Hauptverwendung ist als Halbleitermaterial und die Nutzung der Solarphotovoltaik-Stromerzeugung.Denn Solarenergie hat viele Vorteile wie saubere, Umweltschutz und Bequemlichkeit, in den letzten 30 Jahren,Die Technologie zur Nutzung von Solarenergie hat in Forschung und Entwicklung große Fortschritte erzielt., kommerzielle Produktion und Marktentwicklung und ist zu einer der weltweit schnell und stabil entwickelnden Schwellenländer geworden.Einkristalline Siliziumwafer ist einkristalline Siliziumstange, die durch eine Reihe von Verfahren geschnitten wird, zur Herstellung von monokristallinem Silizium werden unter anderem die CZ-Methode (CZ-Methode), die Zonschmelzmethode (FZ-Methode) und die Epitaximethode verwendet,mit einer Breite von mehr als 20 mm, jedoch nicht mehr als 20 mm,Die größte Nachfrage nach zonenfusionierten Silizium-Einzelkristallen stammt von Leistungshalbleitern.

 

 

Eigenschaften:

Silikon kann in zwei Kategorien aufgeteilt werden: natürliches Silikon und synthetisches Silikon.Natürliches Silizium ist hauptsächlich ultrafeines Pulver, das durch mechanisches Schleifen und andere physikalische Verfahren aus hochwertigem Siliziumerz gebildet wirdSynthetisches Kieselsäure ist ein amorphes synthetisches Siliziumoxidpulver, dessen Struktur und Kohlenstoffschwarz jedoch unterschiedlich sind.aber die Anwendungsleistung ist ähnlich wie bei Carbon Black, und das Aussehen ist weiß, so dass es üblich ist, es "weißes Kohlenstoffschwarz" zu nennen.nicht brennbar, ungiftig, geschmacklos, mit guter elektrischer Isolierung, so weit verbreitet in Gummi, Kunststoffen, Beschichtungen, Klebstoffen, Dichtungsmitteln, Wärmedämmstoffen und anderen Bereichen.Synthetisches Kieselsäure ist hauptsächlich in geräuchertes Kieselsäure und flüssiges Kieselsäure aufgeteilt, und flüssiges Kieselsäure kann in herabgefallenes Kieselsäure und Gel-Kieselsäure unterteilt werden.

 

 

Technische Parameter:

Artikel 2 Parameter
Dichte 2.5 g/cm3
Schmelzpunkt 1700°C
Siedepunkt 2330°C
Brechungsindex 1.8
Mol. wt 61.080
Aussehen hellgrau
Auflöslichkeit Unlöslich
Sinterpunkt 880°C bis 1490°C
Zubereitungsmethode Trockene/nasse Oxidation
Warpgeschwindigkeit 5m
Verbeugen 5m
TTV 5m
Orientierung 111
Ra 0.3 nm
Widerstandsfähigkeit 0.001-50 ((Ω•cm)
Toleranz ± 0,4 mm
Typ N-Typ; P-Typ
Polstern SSP DSP

 

 

Anwendungen:

Das industrielle SiO2 wird als weißes Kohlenstoffschwarz bezeichnet, das leichtgewichtig ist und ein ultrafeines Pulver ist.und seine Anwendungsbereiche sind sehr breitDerzeit sind die Verfahren zur Zubereitung von Kieselsäure hauptsächlich folgende: Gasphasenmethode, Niederschlagsmethode, Hydrothermalsynthese,Mikroemulsionsreaktionsmethode, azeotrope Destillationsmethode und Hypergravitationsreaktionsmethode.

1­ Herstellung von Glas, Quarzglas, Wasserglas, Glasfasern, Elektronik­Teilen, optischen Instrumenten, Handwerk und Feuerfeststoffen.

2.Kann für Eipulver, Zuckerpulver, Milchpulver, Kakaopulver, Kakaobutter, Pflanzenpulver, Instantkaffee, Suppenpulver usw. verwendet werden.

3. Wenn der Silikakristall perfekt ist, ist er Kristall; Silikagel nach Dehydrierung ist Achat; Wenn das Silikakorn weniger als ein paar Mikrometer beträgt, besteht es aus Chalzedon, Chert und Sekundärquarzit.

4' 5' SiO2 Einzelkristall IC Chips CZ Methode 500um 1mm Oxidationsschicht 500nm 2μM 0

 

 

 

Andere Erzeugnisse:

SIC-Wafer:

4' 5' SiO2 Einzelkristall IC Chips CZ Methode 500um 1mm Oxidationsschicht 500nm 2μM 1

 

 

 

 

Häufige Fragen:

F: Was ist der Markenname vonSiO2 Einzelkristall?

A: Der Markenname vonSiO2 Einzelkristallist ZMSH.

 

F: Was ist die Zertifizierung vonSiO2 Einzelkristall?

A: Die Zertifizierung vonSiO2 Einzelkristallist ROHS.

 

F: Wo ist der Ursprungsort vonSiO2 Einzelkristall?

A: Herkunftsort vonSiO2 Einzelkristallist China.

 

F: Welches ist das MOQ vonSiO2 Einzelkristall gleichzeitig?

A: Die MOQ vonSiO2 Einzelkristallist 25 Stück auf einmal.

 

 

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