2 " 3 " FZ SiO2 Einzelkristall IC Chips 100um 200um Trockene nasse Oxidationsschicht 100nm 300nm

2 ̊ 3 ̊ FZ SiO2 Einzelkristall IC Chips 100um 200um Trockene, nasse Oxidationsschicht 100nm 300nm

Produktbeschreibung:

Die Siliziumwafer wird durch ein Ofenrohr in Anwesenheit eines Oxidationsmittels bei erhöhter Temperatur gebildet, ein Prozess, der als thermische Oxidation bezeichnet wird.Der Temperaturbereich wird von 900 bis 1 gesteuertDas Verhältnis des oxidierenden Gases H2:O2 liegt zwischen 1.51 und 3:1- Die Silikon-Wafer wird nicht oxidiert, die Dicke wird unterschiedlich sein, der Fluss wird nicht verbraucht.Das Substrat Siliziumwafer besteht aus 6 "oder 8" monokristallinem Silizium mit einer Oxidschichtdicke von 0.1 μm bis 25 μm. Die Dicke der Oxidschicht der allgemeinen Siliciumwafer konzentriert sich hauptsächlich unter 3 μm,die derzeit stabil sein kann Quantitative Produktion von hochwertiger Dickoxid-Schicht (3μm oder mehr) Siliziumwafer Länder und Regionen oder die Vereinigten Staaten.

Eigenschaften:

Das Siliziummaterial ist hart und spröde (Mohs 7,0); Bandbreite 1,12 eV; Die Lichtabsorption erfolgt im Infrarotband, mit hoher Emissionsfähigkeit und Brechungsindex (3,42);Silizium weist eine offensichtliche Wärmeleitfähigkeit und thermische Ausdehnungseigenschaften auf (linearer Ausdehnungskoeffizient 2.6*10^-6/K), schrumpft das Schmelzvolumen des Siliziums, verfestigt sich, hat einen großen Oberflächenspannungskoeffizienten (Oberflächenspannung 720 dyn/cm); bei Raumtemperatur ist Silizium nicht formbar,und die Temperatur ist höher als 800 GradDie Zugfestigkeit von Silizium ist größer als die Antireduktionsfestigkeit.und es ist leicht zu produzieren Biegen und Verformung während der Verarbeitung.

Technische Parameter:

Anwendungen:

Monokristallines Silizium kann für die Herstellung von Monokristallinen Produkten auf Dioden- und Geräteebene, für die Bereinigung von Schaltkreisen und für die Herstellung von Solarzellen und für die Verarbeitung in Tiefen verwendet werden.seine Nachfolgeprodukte integrierte Schaltkreise und Halbleitertrennvorrichtungen wurden in verschiedenen Bereichen weit verbreitetIn der heutigen Zeit, mit der rasanten Entwicklung der Photovoltaik-Technologie und der Mikro-Halbleitungs-Wechselrichter-Technologie, ist es möglich, dieSolarzellen, die aus Silizium-Einzelkristallen hergestellt werden, können Sonnenenergie direkt in Lichtenergie umwandelnDie Olympischen Spiele in Peking zeigen der Welt das Konzept der "Grünen Olympischen Spiele".und die Verwendung von monokristallinem Silizium ist ein sehr wichtiger Teil davon.

Andere Erzeugnisse:

SIC-Wafer:

Häufige Fragen:

F: Was ist der Markenname vonSiO2 Einzelkristall?

A: Der Markenname vonSiO2 Einzelkristallist ZMSH.

F: Was ist die Zertifizierung vonSiO2 Einzelkristall?

A: Die Zertifizierung vonSiO2 Einzelkristallist ROHS.

F: Wo ist der Ursprungsort vonSiO2 Einzelkristall?

A: Herkunftsort vonSiO2 Einzelkristallist China.

F: Welches ist das MOQ vonSiO2 Einzelkristall gleichzeitig?

A: Die MOQ vonSiO2 Einzelkristallist 25 Stück auf einmal.