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N-Art freie Stellung HVPE GaN Gallium Nitride Wafer 4inch Dia100mm
  • N-Art freie Stellung HVPE GaN Gallium Nitride Wafer 4inch Dia100mm
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N-Art freie Stellung HVPE GaN Gallium Nitride Wafer 4inch Dia100mm

Herkunftsort CHINA
Markenname zmkj
Modellnummer GaN-4INCH
Produkt-Details
Material:
Einzelner Kristall GaN
Methode:
HVPE
Größe:
4inch
Stärke:
450um
Industrie:
LD, geführt, Laser-Gerät, Detektor,
Farbe:
Weiß
Paket:
einzelnes Oblatenkassetten-Kastenpaket durch Vakuumzustand
Art:
n-artig
Lackieren:
Si-lackiert oder UNO-lackiert
Markieren: 

GaN Gallium Nitride Wafer

,

n-Art Gallium-Nitrid-Oblate

,

Oblate HVPE gaas

Produkt-Beschreibung

freistehende GaN Substrate 2inch, GaN-Oblate für LD, Halbleitergallium-Nitrid-Oblate für geführt, GaN-Schablone, 10x10mm GaN Substrate, gebürtige GaN-Oblate,

 

GaN Applications

 

GaN kann verwendet werden, um einige Arten von den Geräten zu machen; die Primär-GaN-Geräte sind LED, Laserdioden, Leistungselektronik und Rf-Geräte.

GaN ist für LED wegen der direkten Bandlücke von eV 3,4 ideal, das im nahen UVspektrum ist. GaN kann mit Gasthaus und AlN beziehungsweise legiert werden, die Bandlücken von 0,7 eV und von eV 6,2 haben. Deshalb dieses können materielle Systeme ein großes Energiespektrum für lichtemittierendes Gerät theoretisch überspannen. In der tatsächlichen Praxis ist die Leistungsfähigkeit für blaue Geräte und Abnahmen InGaN für hohen Indiuminhalt InGaN oder für AlGaN-Emitter am höchsten. Das nahe UV- und blaue Spektrum ist für die Herstellung von weißen Emittern mit Phosphor optimal, und diese Technologie ist für die bemerkenswerten Leistungsfähigkeits-Gewinne in der Beleuchtung seit den neunziger Jahren verantwortlich gewesen, als LED angefangen haben, traditionelle Lichtquellen zu ersetzen.

 

Laserdioden, normalerweise mit blauer Emission, können unter Verwendung GaN hergestellt werden. Diese Geräte werden für die Anzeigen und irgendeine Spezialität benutzt, die biomedizinisch sind, Ausschnitt und wissenschaftliche Anwendungen. Laserdioden können für die Herstellung von weißen lichtemittierenden Geräten mit Phosphor auch benutzt werden. Verglichen mit LED, kann weißes Licht der Laserdiode eine Dichte der hohen Leistung und einen hohen Directionality erzielen.

 

Für Leistungselektronik können GaN-ansässige Geräte hohe Schaltverzögerungen, Dichte der hohen Leistung und niedrige Energieverluste mit dem Ergebnis der leistungsfähigeren, kleineren und helleren Energieaufbereitungsprodukte erzielen. Es gibt zahlreiche Anwendungen für GaN-ansässige Leistungselektronik einschließlich Elektro-Mobile, Solar- und Windenergieinverter, industrielle Bewegungsprüfer, Rechenzentren und Unterhaltungselektronik.

 

GaN-ansässige Rf-Geräte besitzen viele der gleichen Vorteile von GaN-Leistungselektronik und können auf höhere Frequenz als traditionelle Halbleiter zusätzlich zugreifen. Rf-Geräte werden für industrielle Heizung, Radar und Telekommunikation benutzt. GaN ist für Dichte der hohen Leistung wie für zelluläre Basisstationen besonders günstig.

 

HVPE-Technologie

Hydrid-Dampf-Phasen-Epitaxie (HVPE) ist ein Prozess, der einzelnes Kristall-GaN produzieren kann. Sie wird für das Wachstum von GaN-Substraten wegen der hohen Wachstumsrate und der hohen Qualität verwendet, die erreicht werden können. In diesem Prozess wird HCl-Gas mit flüssigem Galliummetall reagiert, das GaCl-Gas bildet. Dann reagiert das GaCl mit NH-₃ Gas an °C ungefähr 1.000, um den festen Kristall von GaN zu bilden. Eta Research hat unsere eigene HVPE-Ausrüstung mit dem Ziel entwickelt, um die Produktion von GaN-Oblaten kosteneffektiv einzustufen.

 

Momentan benutzen die überwiegende Mehrheit von GaN-ansässigen Geräten fremde Substrate wie Al ₂ O ₃ und Si. Obgleich fremde Substrate für einige Anwendungen gut sind, veranlaßt das unähnliche Material Defekte, in die GaN-Gerätschichten gelegt zu werden, während Material niedergelegt wird. Die Defekte können die Leistung verringern.

 

GaN-Substrate, besonders mit niedriger Defektdichte, bieten die beste Wahl für Absetzung von GaN-Gerätschichten an. Gebrauch GaN-Substrate verbessert die Leistungsfähigkeit, Energiedichte und andere Leistungsmetrik von GaN-Geräten.

 

Spezifikationen:

 
Einzelteil GaN-Rumpfstation-n
Maße ± 1mm Ф 100mm
Marco Defect Density Ein Niveau ≤ 2 cm2
B-Niveau > 2 cm2
Stärke 450 ± 25 µm
Orientierung C-Achse (0001) ± 0.5°
Orientierungs-Ebene (1-100) ± 0.5°, 32,0 ± 1.0mm
Sekundärorientierungs-Ebene (11-20) ± 3°, ± 18,0 1.0mm
TTV (Gesamtstärke-Veränderung) µm ≤30
BOGEN µm ≤30
Leitungs-Art N-artig
Widerstandskraft (300K) < 0="">
Versetzungsdichte Kleiner als cm2 5x106
Verwendbare Fläche > 90%
Polnisch

Front Surface: Ra < 0="">

Hintere Oberfläche: Feiner Boden

Paket Verpackt in einer Reinraumumwelt der Klasse 100, in den einzelnen Oblatenbehältern, unter einer Stickstoffatmosphäre.

N-Art freie Stellung HVPE GaN Gallium Nitride Wafer 4inch Dia100mm 0N-Art freie Stellung HVPE GaN Gallium Nitride Wafer 4inch Dia100mm 1

 

 

2. Unsere Unternehmens-Vision

wir stellen GaN-Substrat der hohen Qualität und Anwendungstechnologie für die Industrie zur Verfügung.

Hohe Qualität GaNmaterial ist der zurückhaltene Faktor für die III-Nitridanwendung, z.B. langes Leben und hohe Stabilität LDs, hohe Leistung und hohe Zuverlässigkeitsmikrowellengeräte, hohe Helligkeit und hohe Leistungsfähigkeit, energiesparende LED.

 

 

 

- FAQ –
Q: Was können Sie Logistik und Kosten liefern?
(1) nehmen wir DHL, Fedex, TNT, UPS, EMS, SF und etc. an.
(2) wenn Sie Ihre eigene Eilzahl haben, ist sie groß.
Wenn nicht, könnten wir Sie unterstützen, um zu liefern. Freight=USD25.0 (das erste Gewicht) + USD12.0/kg

Q: Was ist die Lieferfrist?
(1) für die Standardprodukte wie Oblate 2inch 0.33mm.
Für Inventar: die Lieferung ist 5 Arbeitstage nach Auftrag.
Für kundengebundene Produkte: die Lieferung ist 2 oder 3 Arbeitswochen nach Auftrag.

Q: Wie man zahlt?
100%T/T, Paypal, Westverband, MoneyGram, sichere Zahlung und Geschäftsversicherung.

Q: Was ist das MOQ?
(1) für Inventar, ist das MOQ 1pcs.
(2) für kundengebundene Produkte, ist das MOQ 5pcs-10pcs.
Es hängt von der Quantität und von den Techniken ab.

Q: Haben Sie Abnahmeprüfprotokoll für Material?
Wir können ROHS-Bericht liefern und Berichte für unsere Produkte erreichen.

 

 

Treten Sie mit uns jederzeit in Verbindung

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Rm5-616, No.851, Dianshanhu-Allee, Qingpu-Bereich, Shanghai-Stadt, CHINA
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