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Waferverbindungsanlage Raumtemperatur

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April 14, 2025
Stichwort: Halbleiter-Ausrüstung
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Umbauten:
#4 Zoll SiC Ingot wachsenden Ofen #8 Zoll SiC Ingot wachsenden Ofen #6 Zoll SiC Ingot wachsenden Ofen
Videobeschreibung:
Entdecken Sie die fortschrittliche Wafer-Bonding-Ausrüstung, die für Raumtemperatur- und hydrophile Bindung von Si-SiC- und Si-Si-Wafern von 2 bis 12 Zoll konzipiert wurde. Dieses High-End-System verfügt über ultrapräzise optische Ausrichtung, geschlossene Temperatur-/Druckregelung und unterstützt verschiedene Bonding-Prozesse für die Herstellung von Leistungshalbleiterbauelementen.
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