| Markenbezeichnung: | ZMSH |
| MOQ: | 10 |
| Lieferzeit: | 2-4 Wochen |
| Zahlungsbedingungen: | T/T |
ZMSH hochreine Quarzbarren werden unter Verwendung hochwertiger Siliziumdioxid-Rohstoffe und fortschrittlicher Schmelztechnologie hergestellt, um außergewöhnliche optische Klarheit, strukturelle Gleichmäßigkeit und hervorragende thermische und chemische Beständigkeit zu erzielen.
Mit extrem geringem Blasenanteil, hoher Transmission und präziser Geometrie sind unsere Quarzbarren ideal für anspruchsvolle Anwendungen in der Halbleiterindustrie, der Solarenergie, der Optik und in Hochtemperaturverarbeitungsumgebungen.
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Quarz ist ein hartes, kristallines Mineral, das aus Siliziumdioxid (SiO₂) besteht. Seine innere Struktur bildet ein stabiles dreidimensionales Si-O-Netzwerk, das Quarzglas seine einzigartige Kombination aus folgenden Eigenschaften verleiht:
Hervorragende optische Transparenz
Hohe thermische Stabilität
Geringe Wärmeausdehnung
Hohe chemische Beständigkeit
Hohe mechanische Festigkeit
Diese Eigenschaften machen Quarzbarren für Präzisionsoptikkomponenten und Hochleistungsanwendungen in der Industrie geeignet.
| Eigenschaft | Wert |
|---|---|
| Dichte (g/cm³) | 2,2 |
| Mohs-Härte | 6–7 |
| Druckfestigkeit (MPa) | 1100 |
| Zugfestigkeit (MPa) | 50 |
| Biegefestigkeit (MPa) | 65 |
| Torsionsfestigkeit (MPa) | 30 |
| Elastizitätsmodul (MPa) | 7,5 × 10⁴ |
| Poisson-Zahl | 0,17 |
| Eigenschaft | Wert |
|---|---|
| Wärmeausdehnungskoeffizient (20–320°C) | 5,5 × 10⁻⁷ K⁻¹ |
| Wärmeleitfähigkeit (20°C) | 1,4 W·m⁻¹·K⁻¹ |
| Spezifische Wärme (20°C) | 670 J·kg⁻¹·K⁻¹ |
| Erweichungspunkt | 1630°C |
| Glühtemperatur | 1180°C |
| Kühlpunkt | 1080°C |
| Eigenschaft | Wert |
|---|---|
| Spezifischer Widerstand (20°C) | 1 × 10²⁰ Ω·m |
| Spezifischer Widerstand (1000°C) | 1 × 10⁸ Ω·m |
| Dielektrizitätskonstante (10 GHz) | 3,74 |
| Dielektrischer Verlustfaktor (10 GHz) | 0,0002 |
| Dielektrische Festigkeit | 3,7 × 10⁷ V·m⁻¹ |
Ultra-geringer Blasenanteil für überlegene optische Leistung
Hohe Transparenz über UV–Vis–IR-Bereiche
Ausgezeichnete geometrische Präzision und Konsistenz
Hohe Ausnutzungsrate für die Weiterverarbeitung
Hervorragende thermische und chemische Beständigkeit
ZMSH Quarzbarren werden häufig verwendet in:
Solar- und Photovoltaik-Komponenten
Optische Beschichtung und Dünnschichtverarbeitung
Labor- und Analysegeräte
Chemische und Hochtemperaturindustrien
Halbleiterherstellung und -fertigung
ZMSH Quarzbarren werden mit verstärkten Schutzmaterialien verpackt und unter strengen Qualitätsprotokollen gehandhabt, um Kontamination, Oberflächenbeschädigungen oder thermische Belastungen während der Lagerung und des Versands zu verhindern.
FAQ
Unsere Quarzbarren werden aus hochreinen Siliziumdioxid-Materialien mit extrem niedrigem Metall- und Hydroxyl (OH)-Gehalt hergestellt. Die Reinheitsgrade können je nach Anwendungsanforderungen angepasst werden, insbesondere für die Verwendung in Halbleitern und optischen Anwendungen.
Ja. ZMSH unterstützt kundenspezifische Durchmesser, Längen und Geometrien sowie Bearbeitungsdienstleistungen wie Schneiden, Polieren, Bohren und Beschichten, um spezifische Prozessanforderungen zu erfüllen.
Absolut. Quarzbarren weisen ausgezeichnete thermische Stabilität auf, mit:
Erweichungspunkt: ≈1630°C
Kühlpunkt: ≈1080°C
Dies macht sie ideal für industrielle Hochtemperaturprozesse, Halbleiterofenteile und optische thermische Umgebungen.
Quarzbarren werden häufig verwendet in:
Halbleiterherstellung
Solar- und Photovoltaik-Komponenten
Optische Beschichtung / Dünnschichtabscheidung
Hochreine Laborausrüstung
Chemische und thermische Verarbeitungssysteme
Jeder Barren wird mit stoßfestem Schaum, staubfreien Umhüllungen und stabilen Holz- oder verstärkten Kartons verpackt. Alle Verpackungen sind so konzipiert, dass sie vor Vibrationen, Kontamination, thermischer Belastung und Oberflächenkratzern während des Transports schützen.
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