Produkt-Details
Place of Origin: CHINA
Markenname: ZMSH
Zertifizierung: rohs
Model Number: 2inch 3inch 4inch 6inch 8inch 12inch Quartz Wafers
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Minimum Order Quantity: 10
Preis: by case
Packaging Details: Package in 100-grade cleaning room
Delivery Time: 5-8weeks
Payment Terms: T/T
Supply Ability: 1000pcs per month
Size: |
2inch 3inch 4inch 6inch 8inch 12inch |
LTV: |
< 0.5µm |
TTV: |
< 2µm/3µm/5µm |
Surface Type: |
SSP/DSP |
Surface Roughness: |
≤1nm |
Applications: |
Semiconductor Lithography Masks, UV Optical Devices |
Size: |
2inch 3inch 4inch 6inch 8inch 12inch |
LTV: |
< 0.5µm |
TTV: |
< 2µm/3µm/5µm |
Surface Type: |
SSP/DSP |
Surface Roughness: |
≤1nm |
Applications: |
Semiconductor Lithography Masks, UV Optical Devices |
Quarzwafer sind Präzisionssubstrate aus hochreinem synthetischem Quarzmaterial, die in Halbleitern, Optoelektronik, Optik und mikroelektromechanischen Systemen (MEMS) weit verbreitet sind. ZMSH ist auf die Forschung und Entwicklung sowie die Produktion von Quarzhalbleitermaterialien spezialisiert und bietet Produkte wie Quarzwafer, Quarzfenster, Quarzröhren und Quarzboote an, wobei Quarzwafer unsere Kernproduktlinie sind. Wir bieten kundenspezifische Lösungen für 2-Zoll- bis 12-Zoll-Wafer, die spezifische Anforderungen in Bezug auf Abmessungen, Dicke und Oberflächenbehandlungen (Polieren, Beschichten usw.) erfüllen.
ZMSH bietet Lagerverfügbarkeit und kundenspezifische Bearbeitungsservices und gewährleistet so hohe Präzision (z. B. TTV ≤5μm), überlegene Ebenheit (Ra ≤1nm) und ausgezeichnete Hochtemperaturbeständigkeit (Erweichungspunkt bis zu 1730°C). Unsere Produkte werden in der Halbleiterfertigung, der Photomaskentechnologie, Sensoren und Lasersystemen eingesetzt.
Größe | Zoll | 2 Zoll | 3 Zoll | 4 Zoll | 6 Zoll | 8 Zoll | 12 Zoll |
Durchmesser |
mm | 50,8 | 76,2 | 100 | 150 | 200 | 300 |
Toleranz (±) | mm | 0,2 | 0,2 | 0,2 | 0,2 | 0,2 | 0,2 |
Dicke | µm | 100 und mehr | 100 und mehr | 100 und mehr | 300 und mehr | 400 und mehr | 500 und mehr |
Primäre Referenzebene | mm | 32,5 | 32,5 | 32,5 | 57,5 | Semi-Notch | Semi-Notch |
LTV (5mmx5mm) | µm | < 0,5 | < 0,5 | < 0,5 | < 0,5 | < 0,5 | < 0,5 |
TTV | µm | < 2 | < 2 | < 2 | < 3 | <3 | <5 |
Durchbiegung | µm | ±20 | ±20 | ±20 | ±30 | ±40 | ±40 |
Verzug | µm | ≤ 30 | ≤ 30 | ≤ 30 | ≤ 40 | ≤ 50 | ≤ 50 |
PLTV(5mm*5mm)<0,4um | % | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% |
Kantenverrundung | mm | SEMI Std. | SEMI Std. | SEMI Std. | SEMI Std. | SEMI Std. | SEMI Std. |
Oberflächentyp | SSP/DSP | SSP/DSP | SSP/DSP | SSP/DSP | SSP/DSP | SSP/DSP | |
Oberflächenrauheit | nm | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 |
Die Haupteigenschaften von Quarzwafern umfassen:
1. Hochreines Material: Synthetischer Quarz (z. B. Suprasil oder Corning 7980) mit SiO₂-Reinheit ≥99,99 %, wodurch Verunreinigungen in Halbleiterprozessen minimiert werden.
2. Thermische Stabilität: Geringer Wärmeausdehnungskoeffizient (5,5×10⁻⁷/°C), der Temperaturen von über 1000°C für extreme Umgebungen standhält.
3. Optische Leistung: Hohe Transmission von UV- bis IR-Wellenlängen (z. B. >90 % im tiefen UV-Bereich), ideal für Lithographie- und Laseranwendungen.
4. Oberflächenpräzision: Ultrapräzisionspolieren mit einer Oberflächenrauheit (Ra) ≤0,5 nm und einer Gesamt-Dickenvariation (TTV) ≤5μm.
5. Größenbereich: Standardgrößen von 2 Zoll, 4 Zoll, 6 Zoll, 8 Zoll bis 12 Zoll, mit Unterstützung für kundenspezifische Spezifikationen.
6. Chemische Inertheit: Beständig gegen starke Säuren (außer HF), Laugen und Plasmaätzen, geeignet für Halbleiterprozesse.
Quarzwafer spielen eine entscheidende Rolle in fortschrittlichen Technologiesektoren, wie im Folgenden detailliert beschrieben:
Anwendungsbereich | Spezifische Anwendungen | Vorteile von Quarzwafern |
Halbleiterfertigung | - Photomaskensubstrate - Ätzprozess-Träger - CMP-Polierpads - Temporäre Bondwafer |
Hohe Ebenheit, geringe Wärmeausdehnung, Plasma-Korrosionsbeständigkeit |
Optoelektronische Geräte | - Laserfenster - Optische Filtersubstrate - IR-Sensorsubstrate - Photodetektor-Gehäuse |
Hohe UV-IR-Transmission, geringer Absorptionsverlust |
MEMS/NEMS | - MEMS-Strukturschichten - Präzisionssensormembranen - Nanoimprint-Vorlagen |
Ultra-glatte Oberfläche, hohe Steifigkeit, chemische Stabilität |
5G- und HF-Geräte | - SAW/BAW-Filtersubstrate - Hochfrequenz-Antennenbasen - Mikrowellen-Dielektrikumresonatoren |
Geringer dielektrischer Verlust, stabile Hochfrequenzsignal-Leistung |
Forschung & Optik | - Synchrotronstrahlungsoptik - Röntgenbeugungsfenster - Hochleistungslaserspiegel |
Strahlungsbeständigkeit, hohe Laserschadensschwelle |
Neue Energie | - PV-Zellbeschichtungssubstrate - Brennstoffzellen-Elektrolytschichten - Forschung an Lithiumbatterie-Separatoren |
Hochtemperaturbeständigkeit, Verhinderung von Ionenmigration |
Umfassende Quarzwafer-Lösungen: ZMSH bietet kundenspezifische Quarzwafer-Produktion (2"-12" Standard-/Nicht-Standardgrößen) mit Präzisionsbearbeitung (Polieren, Beschichten usw.) unter Verwendung hochreiner Materialien (UV-Quarzglas, Low-OH-Quarz). Unsere Dienstleistungen umfassen lagernde 4"/6"/8" Wafer, Zusatzprodukte (optische Fenster, Quarzröhren), vollständige Testzertifizierung und technische Unterstützung für die Materialauswahl und Prozessoptimierung.
1. F: Welche Größen von Quarzwafern sind für Halbleiteranwendungen verfügbar?
A: Wir bieten Standard-Quarzwafer von 2 Zoll bis 12 Zoll an, wobei kundenspezifische Größen und Spezifikationen auf Anfrage erhältlich sind.
2. F: Was sind die Hauptvorteile der Verwendung von Quarzwafern in der Halbleiterfertigung?
A: Quarzwafer bieten außergewöhnliche thermische Stabilität, hohe Reinheit und ausgezeichnete chemische Beständigkeit, wodurch sie sich ideal für anspruchsvolle Halbleiterprozesse eignen.
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