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Einzelheiten zu den Produkten

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Fixierter Quarz-Platte
Created with Pixso. 6 Zoll Durchmesser 150 mm Quarz Kristallglas Wafer 5N Reinheit SiO2

6 Zoll Durchmesser 150 mm Quarz Kristallglas Wafer 5N Reinheit SiO2

Markenbezeichnung: ZMSH
Modellnummer: 6-Zoll-Quarzwafer
MOQ: 10
Preis: by case
Lieferzeit: 5-8weeks
Zahlungsbedingungen: T/T
Einzelheiten
Herkunftsort:
China
Zertifizierung:
rohs
Durchmesser:
6 Zoll (150 mm)
Ausmaß der Abweichung:
±0,02 mm
Gesamtdickenvariation:
≤10μm
Oberflächenrauheit:
≤0,5 nm Ra
Parallelismus:
≤3μm
Widerstand:
> 1016 Ω·cm
Verpackung Informationen:
Paket in der 100-Grad-Reinigung
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
1000 Stück pro Monat
Hervorheben:

6 Zoll Quarz Kristallglas Wafer

,

150 mm Quarz-Kristallglas-Wafer

,

SiO2-Quarzkristallglaswafer

Produkt-Beschreibung

 

Warum wählen Sie 16-Zoll-Quarz-Wafer?

 

6-Zoll-Quarzwafer sind hochpräzise, ultra-reine Substrate, die in Halbleitern, Optik und MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems) weit verbreitet sind.Ihre wichtigsten Eigenschaften - einschließlich außergewöhnlicher Reinheit, extrem geringe thermische Ausdehnung, hohe Zugfestigkeit, überlegene optische Durchlässigkeit,und einzigartige elektrische Eigenschaften - sie sind für die Präzisionsfertigung und Hochleistungsgeräte unverzichtbar.

 

 


 

Übersichtmit einer Breite von nicht mehr als 20 mm

- Ich weiß.

6 Zoll Durchmesser 150 mm Quarz Kristallglas Wafer 5N Reinheit SiO2

 

ZMSH ist spezialisiert auf die Herstellung von 6-Zoll-Quarz-Wafern und bietet:

 

Anpassung an verschiedene Größen: Standard-Wafer mit einer Größe von 6 Zoll sowie 4", 8" und 12" Varianten

Randbearbeitung: Möglichkeiten für geschrägte Kanten, Kerben und Orientierungsflächen

Oberflächenbehandlungen: Maßgeschneiderte Polierung, Beschichtung und Musterung

 

 


 

Parameter für 6Inch-Quarzwafer

 

 

PArameter Spezifikation
Durchmesser 6 Zoll (150 mm)
Dickenbereich 0.5 mm bis 3,0 mm
Ausmaß der Abweichung ±0,02 mm
Gesamtdickenvariation ≤ 10 μm
Oberflächenrauheit (poliert) ≤ 0,5 nm Ra
Parallelismus ≤ 3 μm
CTE (20-300°C) 00,55 × 10−6/°C
Übertragbarkeit @193nm > 92%
Widerstand > 1016 Ω·cm
Vakuumkompatibilität 10−10 Torr
Flexuralstärke (verstärkt) 500 bis 700 MPa

 

 


 

 

- Ich weiß.Schlüsselmerkmalevon 6Inch-Quarzwafer

 

 

Eigenschaften Technische Spezifikation
Hohe Reinheit ≥ 99,999% SiO2-Gehalt
CTE (20-300°C) 0.55×10−6/°C (ultra-niedrige thermische Ausdehnung)
Zugfestigkeit 50-70 MPa (chemisch verstärkte Optionen verfügbar)
Optische Übertragung > 92% @ 190-3500 nm (UV bis NIR Spektrum)
Elektrische Eigenschaften Widerstand > 1016 Ω·cm, piezoelektrische Koeffizienten

 

 


 

- Ich weiß.Strategische Anwendungenvon 6Inch-Quarzwafer

 

 

1. Halbleiterherstellung

 

6 Zoll Quarz-Wafer werden inHalbleiterverpackungen,Herstellung von Splittern, und verwandten Bereichen, insbesondere bei der Herstellung von:

- Speicherchips.(DRAM, NAND-Flash)

- Analog-/Leistungsgeräte(IGBT, MOSFET)

- Erweiterte Sensoren.(MEMS, CMOS-Bildsensoren)

 

6 Zoll Durchmesser 150 mm Quarz Kristallglas Wafer 5N Reinheit SiO2 0

2. Optische Komponenten

 

Aufgrund ihrerhohe optische Durchlässigkeitundextrem niedrige CTE, Quarzwafer sind ideal für:

- Präzisionslinsen(asphärische Mikrolinsen-Arrays)

- optische Filter(Bandpass, dichroisch)

- Wellenführer(photonische ICs, Faserkopplungselemente)

 

 

3. MEMS (mikroelektromechanische Systeme)

 

Quarzwafer dienen als erstklassige Substrate für MEMS-Geräte aufgrund ihrerAbmessungsstabilitätundmechanische Robustheit, einschließlich:

- Mikrosensoren(Druck, Trägheit, Biosensoren)

- Mikroaktoren(HF-Schalter, piezoelektrische Wandler)

- Resonatoren(5G-Filter, Zeitmessgeräte)

 

 

4. Hochtemperatur Poly-Si TFT-LCDs

 

Quarz-Wafer sind für die Herstellung von Wafers von großer BedeutungHochleistungsbildschirme, insbesondere:

- HTPS (Hochtemperatur-Poly-Si) TFT-Hintergrundflächen

- Mikrodisplays(AR/VR, LCoS)

- Erweiterte LCD-Panels(OLED-Verkapselungssubstrate)

- Ich weiß.

 


 

Dienstleistungen der individuellen Herstellung von6Inch-Quarzwafer

 

6 Zoll Durchmesser 150 mm Quarz Kristallglas Wafer 5N Reinheit SiO2 1

Wir bieten End-to-End-Lösungen:

 

1Materialwahl: JGS1/JGS2 Quarz, synthetisches geschmolzenes Kieselsäure

 

2. Präzisionsbearbeitung:

- Laserschneiden (Toleranz ± 5 μm)

- Ultraschallbohrungen (Aspektverhältnis 10:1)

 

3Oberflächentechnik:

- Nanopolieren (Ra < 0,3 nm)

- DUV/IR-Anti-Reflexionsbeschichtungen

 

4Qualitätssicherung:

- Verarbeitung in Reinräumen der Klasse 10

- Vollständige Messberichte (TTV, Warp, Bug)

 

 

 

 

 


 

Häufig gestellte Fragenvon 6Inch-Quarzwafer

 

 

1F: Welche Vorteile haben 6-Zoll-Quarzwafer gegenüber kleineren Wafern in der Halbleiterherstellung?

A: 6-Zoll- (150 mm) Quarzwafer bieten 56% mehr nutzbare Fläche als 4-Zoll-Wafer, was die Rand-Ausschlussverluste signifikant reduziert und den Durchsatz für fortschrittliche Verpackungen und MEMS-Produktion verbessert.

 

 

2. F: Wie wirkt sich die Reinheit von Quarzwafer (≥ 99,999%) auf Hochtemperaturprozesse aus?

A: 5N-Reinheit Quarz minimiert die Kontaminationsrisiken in HTPS TFT und Halbleiterbrennprozessen über 1000 °C und gewährleistet gleichbleibende dielektrische Eigenschaften.

 

 

 

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