Produktdetails:
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Durchmesser: | 4 Zoll (100mm) | Dickenbereich: | 0.5mm~1.5mm |
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Oberflächenrauheit (poliert): | ≤0.5nm | Transmittance @193nm: | >93% |
CTE (20-300°C): | 00,55 × 10−6/°C | Parallelismus: | ≤3μm |
Hervorheben: | 4 Zoll Quarzglas-Wafer,Quarzglas-Wafer für Halbleiter,100mm Quarzglas-Wafer |
Der 4-Zoll-Quarzwafer (100 mm) ist ein großformatiges, ultrareines Quarzglassubstrat, das für hochpräzise Anwendungen mit hoher Stabilität in der Halbleiterindustrie, Optoelektronik und fortschrittlichen Optiken entwickelt wurde. Im Vergleich zu 3-Zoll-Wafern bietet die 4-Zoll-Spezifikation eine deutlich größere nutzbare Fläche, was die Produktionseffizienz verbessert – insbesondere für die Chargenfertigung von IC-Fotolackmasken, Hochleistungslaseroptiken und MEMS-Sensoren.
ZMSH ist auf die Forschung und Entwicklung sowie die Produktion von 4-Zoll- und größeren Quarzwafern spezialisiert und bietet:
- Vollständige Größenanpassung: Unterstützt 4-Zoll-, 6-Zoll- und 8-Zoll-Wafer, wobei Sondergrößen (z. B. quadratisch, sektorförmig) verfügbar sind.
- Hochpräzisionsbearbeitung: Beinhaltet doppelseitiges Ultra-Polieren (Ra ≤ 0,5 nm), Laserschneiden (Toleranz ± 0,01 mm) und Mikroloch-/Sonderform-Via-Bohren.
- Funktionelle Behandlungen: Antireflexionsbeschichtungen (AR), IR-Antireflexion, diamantähnliche Kohlenstoffbeschichtungen (DLC) und mehr.
- Branchenlösungen: Sauberkeit auf Halbleiterniveau (Klasse 10), geringe Defektdichte (≤ 0,1/cm²), ideal für EUV-Lithografie und Quantencomputing.
Technische Bezeichnung | Spezifikation |
Durchmesser | 4 Zoll (100 mm) |
Dickenbereich | 0,5 mm ~ 1,5 mm |
Oberflächenrauheit (poliert) | ≤ 0,5 nm |
Transmission @193nm | >93% |
CTE (20-300 °C) | 0,55 × 10⁻⁶/°C |
Parallelität | ≤ 3 µm |
Vakuumverträglichkeit | 10⁻¹⁰ Torr |
1. Präzision in großer Größe: TTV ≤ 10 µm bei 100 mm Durchmesser gewährleistet Prozessgleichmäßigkeit.
2. Ultra-niedriger CTE: 0,55 × 10⁻⁶/°C, geeignet für Hochtemperaturprozesse (z. B. Tempern, Ionenimplantation).
3. Breitbandtransparenz: >93 % Transmission @193 nm (DUV), >90 % @3-5 µm (IR).
4. Überlegene Oberflächenqualität: Doppelseitig poliert mit Ra ≤ 0,5 nm für Nanometer-Lithografie.
5. Erhöhte Haltbarkeit: Optionale chemische Verstärkung erhöht die Biegefestigkeit auf 600 MPa; plasmaresistent.
Bereich | Anwendungen |
Halbleiter | EUV-Lithografie-Optik, Fotolackmaskensubstrate, 3D-NAND-Interposer |
Hochleistungslaser | Laserspiegel, Impulskompressionsgitter, Faserlaser-Endkappen |
Quantentechnologie | Qubit-Chip-Träger, Kaltatomfallen-Sichtfenster, Einzelphotonendetektor-Substrate |
Luft- und Raumfahrt | Satellitenlinsen, strahlungsresistente Sensorfenster, Teilchendetektoren |
Biomedizin | DNA-Sequenzierungs-Chips, Endoskop-Optik, Mikrofluidik-Geräteformen |
ZMSH bietet End-to-End-Anpassung für 4-Zoll-Quarzwafer, einschließlich:
- Materialauswahl: JGS1/JGS2 UV-Qualität oder IR-Qualität Quarzglas.
- Präzisionsbearbeitung: Nanopolieren (λ/20), Laser-Mikrostrukturierung (±1 µm Genauigkeit).
- Funktionelle Beschichtungen: AR (193-1064 nm), Hochleistungs-LIDT-Laserbeschichtungen (>5 J/cm²).
- QA-Unterstützung: Vollständige Inspektionsberichte (AOI, Interferometrie).
1. F: Was ist die typische Dickentoleranz für 4-Zoll-Quarzwafer?
A: Standard-4-Zoll- (100-mm-) Quarzwafer halten eine Dickentoleranz von ±0,02 mm über den Bereich von 0,5-1,5 mm ein und gewährleisten so die Gleichmäßigkeit für Halbleiter-Lithografieprozesse.
2. F: Warum 4-Zoll-Quarzwafer gegenüber 6-Zoll-Wafern für MEMS-Anwendungen wählen?
A: 4-Zoll-Wafer bieten eine optimale Kosteneffizienz für kleine bis mittlere MEMS-Produktionsläufe und behalten gleichzeitig eine bessere Prozesskontrolle als kleinere Durchmesser.
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Ansprechpartner: Mr. Wang
Telefon: +8615801942596