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Einzelheiten zu den Produkten

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Fixierter Quarz-Platte
Created with Pixso. 4-Zoll-Quarzwafer-Durchmesser 100 mm Fused-Silica-Wafer für die Halbleiterherstellung

4-Zoll-Quarzwafer-Durchmesser 100 mm Fused-Silica-Wafer für die Halbleiterherstellung

Markenbezeichnung: ZMSH
Modellnummer: 4-Zoll-Quarzwafer
MOQ: 10
Preis: by case
Lieferzeit: 5-8weeks
Zahlungsbedingungen: T/T
Einzelheiten
Herkunftsort:
China
Zertifizierung:
rohs
Durchmesser:
4 Zoll (100mm)
Dickenbereich:
0.5mm~1.5mm
Oberflächenrauheit (poliert):
≤0.5nm
Transmittance @193nm:
>93%
CTE (20-300°C):
00,55 × 10−6/°C
Parallelismus:
≤3μm
Verpackung Informationen:
Paket in der 100-Grad-Reinigung
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
1000 Stück pro Monat
Hervorheben:

4 Zoll Quarzglas-Wafer

,

Quarzglas-Wafer für Halbleiter

,

100mm Quarzglas-Wafer

Produkt-Beschreibung

 

Kern Einführung von 4-Zoll-Quarzwafer

4-Zoll-Quarzwafer-Durchmesser 100 mm Fused-Silica-Wafer für die Halbleiterherstellung 0

4-Zoll-Quarzwafer, Durchmesser 100 mm, Quarzglasscheibe für die Halbleiterherstellung

 
 

Der 4-Zoll-Quarzwafer (100 mm) ist ein großformatiges, ultrareines Quarzglassubstrat, das für hochpräzise Anwendungen mit hoher Stabilität in der Halbleiterindustrie, Optoelektronik und fortschrittlichen Optiken entwickelt wurde. Im Vergleich zu 3-Zoll-Wafern bietet die 4-Zoll-Spezifikation eine deutlich größere nutzbare Fläche, was die Produktionseffizienz verbessert – insbesondere für die Chargenfertigung von IC-Fotolackmasken, Hochleistungslaseroptiken und MEMS-Sensoren.

ZMSH ist auf die Forschung und Entwicklung sowie die Produktion von 4-Zoll- und größeren Quarzwafern spezialisiert und bietet:

 

- Vollständige Größenanpassung: Unterstützt 4-Zoll-, 6-Zoll- und 8-Zoll-Wafer, wobei Sondergrößen (z. B. quadratisch, sektorförmig) verfügbar sind.

 

- Hochpräzisionsbearbeitung: Beinhaltet doppelseitiges Ultra-Polieren (Ra ≤ 0,5 nm), Laserschneiden (Toleranz ± 0,01 mm) und Mikroloch-/Sonderform-Via-Bohren.

 

- Funktionelle Behandlungen: Antireflexionsbeschichtungen (AR), IR-Antireflexion, diamantähnliche Kohlenstoffbeschichtungen (DLC) und mehr.

 

- Branchenlösungen: Sauberkeit auf Halbleiterniveau (Klasse 10), geringe Defektdichte (≤ 0,1/cm²), ideal für EUV-Lithografie und Quantencomputing.

 

 


 

Spezifikation für 4-Zoll-Quarzwafer

 

 

Technische Bezeichnung Spezifikation
Durchmesser 4 Zoll (100 mm)
Dickenbereich 0,5 mm ~ 1,5 mm
Oberflächenrauheit (poliert) ≤ 0,5 nm
Transmission @193nm >93%
CTE (20-300 °C) 0,55 × 10⁻⁶/°C
Parallelität ≤ 3 µm
Vakuumverträglichkeit 10⁻¹⁰ Torr

 

 


 

 

​​Wesentliche Merkmale​​ von 4-Zoll-Quarzwafer

 

 

1. Präzision in großer Größe: TTV ≤ 10 µm bei 100 mm Durchmesser gewährleistet Prozessgleichmäßigkeit.

 

2. Ultra-niedriger CTE: 0,55 × 10⁻⁶/°C, geeignet für Hochtemperaturprozesse (z. B. Tempern, Ionenimplantation).

 

3. Breitbandtransparenz: >93 % Transmission @193 nm (DUV), >90 % @3-5 µm (IR).

 

4. Überlegene Oberflächenqualität: Doppelseitig poliert mit Ra ≤ 0,5 nm für Nanometer-Lithografie.

 

5. Erhöhte Haltbarkeit: Optionale chemische Verstärkung erhöht die Biegefestigkeit auf 600 MPa; plasmaresistent.

 

 


 

​​Strategische Anwendungen​ von 4-Zoll-Quarzwafer

 

 

Bereich Anwendungen
Halbleiter EUV-Lithografie-Optik, Fotolackmaskensubstrate, 3D-NAND-Interposer
Hochleistungslaser Laserspiegel, Impulskompressionsgitter, Faserlaser-Endkappen
Quantentechnologie Qubit-Chip-Träger, Kaltatomfallen-Sichtfenster, Einzelphotonendetektor-Substrate
Luft- und Raumfahrt Satellitenlinsen, strahlungsresistente Sensorfenster, Teilchendetektoren
Biomedizin DNA-Sequenzierungs-Chips, Endoskop-Optik, Mikrofluidik-Geräteformen

​​

 


 

Kundenspezifische Dienstleistungen

 

 

ZMSH bietet End-to-End-Anpassung für 4-Zoll-Quarzwafer, einschließlich:

 

- Materialauswahl: JGS1/JGS2 UV-Qualität oder IR-Qualität Quarzglas.

- Präzisionsbearbeitung: Nanopolieren (λ/20), Laser-Mikrostrukturierung (±1 µm Genauigkeit).

- Funktionelle Beschichtungen: AR (193-1064 nm), Hochleistungs-LIDT-Laserbeschichtungen (>5 J/cm²).

- QA-Unterstützung: Vollständige Inspektionsberichte (AOI, Interferometrie).

 

 

4-Zoll-Quarzwafer-Durchmesser 100 mm Fused-Silica-Wafer für die Halbleiterherstellung 14-Zoll-Quarzwafer-Durchmesser 100 mm Fused-Silica-Wafer für die Halbleiterherstellung 2

 

 


 

FAQ

 

 

1. F: Was ist die typische Dickentoleranz für 4-Zoll-Quarzwafer?

A: Standard-4-Zoll- (100-mm-) Quarzwafer halten eine Dickentoleranz von ±0,02 mm über den Bereich von 0,5-1,5 mm ein und gewährleisten so die Gleichmäßigkeit für Halbleiter-Lithografieprozesse.

 

 

2. F: Warum 4-Zoll-Quarzwafer gegenüber 6-Zoll-Wafern für MEMS-Anwendungen wählen?

A: 4-Zoll-Wafer bieten eine optimale Kosteneffizienz für kleine bis mittlere MEMS-Produktionsläufe und behalten gleichzeitig eine bessere Prozesskontrolle als kleinere Durchmesser.

 

 

 

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