logo
Startseite ProdukteFixierter Quarz-Platte

4-Zoll-Quarzwafer-Durchmesser 100 mm Fused-Silica-Wafer für die Halbleiterherstellung

Ich bin online Chat Jetzt

4-Zoll-Quarzwafer-Durchmesser 100 mm Fused-Silica-Wafer für die Halbleiterherstellung

4Inch Quartz Wafer Diameter 100mm Fused Silica Wafer For Semiconductor Manufacturing
4Inch Quartz Wafer Diameter 100mm Fused Silica Wafer For Semiconductor Manufacturing 4Inch Quartz Wafer Diameter 100mm Fused Silica Wafer For Semiconductor Manufacturing 4Inch Quartz Wafer Diameter 100mm Fused Silica Wafer For Semiconductor Manufacturing

Großes Bild :  4-Zoll-Quarzwafer-Durchmesser 100 mm Fused-Silica-Wafer für die Halbleiterherstellung

Produktdetails:
Herkunftsort: China
Markenname: ZMSH
Zertifizierung: rohs
Modellnummer: 4-Zoll-Quarzwafer
Zahlung und Versand AGB:
Min Bestellmenge: 10
Preis: by case
Verpackung Informationen: Paket in der 100-Grad-Reinigung
Lieferzeit: 5-8weeks
Zahlungsbedingungen: T/T
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: 1000 Stück pro Monat
Ausführliche Produkt-Beschreibung
Durchmesser: 4 Zoll (100mm) Dickenbereich: 0.5mm~1.5mm
Oberflächenrauheit (poliert): ≤0.5nm Transmittance @193nm: >93%
CTE (20-300°C): 00,55 × 10−6/°C Parallelismus: ≤3μm
Hervorheben:

4 Zoll Quarzglas-Wafer

,

Quarzglas-Wafer für Halbleiter

,

100mm Quarzglas-Wafer

 

Kern Einführung von 4-Zoll-Quarzwafer

4-Zoll-Quarzwafer-Durchmesser 100 mm Fused-Silica-Wafer für die Halbleiterherstellung 0

4-Zoll-Quarzwafer, Durchmesser 100 mm, Quarzglasscheibe für die Halbleiterherstellung

 
 

Der 4-Zoll-Quarzwafer (100 mm) ist ein großformatiges, ultrareines Quarzglassubstrat, das für hochpräzise Anwendungen mit hoher Stabilität in der Halbleiterindustrie, Optoelektronik und fortschrittlichen Optiken entwickelt wurde. Im Vergleich zu 3-Zoll-Wafern bietet die 4-Zoll-Spezifikation eine deutlich größere nutzbare Fläche, was die Produktionseffizienz verbessert – insbesondere für die Chargenfertigung von IC-Fotolackmasken, Hochleistungslaseroptiken und MEMS-Sensoren.

ZMSH ist auf die Forschung und Entwicklung sowie die Produktion von 4-Zoll- und größeren Quarzwafern spezialisiert und bietet:

 

- Vollständige Größenanpassung: Unterstützt 4-Zoll-, 6-Zoll- und 8-Zoll-Wafer, wobei Sondergrößen (z. B. quadratisch, sektorförmig) verfügbar sind.

 

- Hochpräzisionsbearbeitung: Beinhaltet doppelseitiges Ultra-Polieren (Ra ≤ 0,5 nm), Laserschneiden (Toleranz ± 0,01 mm) und Mikroloch-/Sonderform-Via-Bohren.

 

- Funktionelle Behandlungen: Antireflexionsbeschichtungen (AR), IR-Antireflexion, diamantähnliche Kohlenstoffbeschichtungen (DLC) und mehr.

 

- Branchenlösungen: Sauberkeit auf Halbleiterniveau (Klasse 10), geringe Defektdichte (≤ 0,1/cm²), ideal für EUV-Lithografie und Quantencomputing.

 

 


 

Spezifikation für 4-Zoll-Quarzwafer

 

 

Technische Bezeichnung Spezifikation
Durchmesser 4 Zoll (100 mm)
Dickenbereich 0,5 mm ~ 1,5 mm
Oberflächenrauheit (poliert) ≤ 0,5 nm
Transmission @193nm >93%
CTE (20-300 °C) 0,55 × 10⁻⁶/°C
Parallelität ≤ 3 µm
Vakuumverträglichkeit 10⁻¹⁰ Torr

 

 


 

 

​​Wesentliche Merkmale​​ von 4-Zoll-Quarzwafer

 

 

1. Präzision in großer Größe: TTV ≤ 10 µm bei 100 mm Durchmesser gewährleistet Prozessgleichmäßigkeit.

 

2. Ultra-niedriger CTE: 0,55 × 10⁻⁶/°C, geeignet für Hochtemperaturprozesse (z. B. Tempern, Ionenimplantation).

 

3. Breitbandtransparenz: >93 % Transmission @193 nm (DUV), >90 % @3-5 µm (IR).

 

4. Überlegene Oberflächenqualität: Doppelseitig poliert mit Ra ≤ 0,5 nm für Nanometer-Lithografie.

 

5. Erhöhte Haltbarkeit: Optionale chemische Verstärkung erhöht die Biegefestigkeit auf 600 MPa; plasmaresistent.

 

 


 

​​Strategische Anwendungen​ von 4-Zoll-Quarzwafer

 

 

Bereich Anwendungen
Halbleiter EUV-Lithografie-Optik, Fotolackmaskensubstrate, 3D-NAND-Interposer
Hochleistungslaser Laserspiegel, Impulskompressionsgitter, Faserlaser-Endkappen
Quantentechnologie Qubit-Chip-Träger, Kaltatomfallen-Sichtfenster, Einzelphotonendetektor-Substrate
Luft- und Raumfahrt Satellitenlinsen, strahlungsresistente Sensorfenster, Teilchendetektoren
Biomedizin DNA-Sequenzierungs-Chips, Endoskop-Optik, Mikrofluidik-Geräteformen

​​

 


 

Kundenspezifische Dienstleistungen

 

 

ZMSH bietet End-to-End-Anpassung für 4-Zoll-Quarzwafer, einschließlich:

 

- Materialauswahl: JGS1/JGS2 UV-Qualität oder IR-Qualität Quarzglas.

- Präzisionsbearbeitung: Nanopolieren (λ/20), Laser-Mikrostrukturierung (±1 µm Genauigkeit).

- Funktionelle Beschichtungen: AR (193-1064 nm), Hochleistungs-LIDT-Laserbeschichtungen (>5 J/cm²).

- QA-Unterstützung: Vollständige Inspektionsberichte (AOI, Interferometrie).

 

 

4-Zoll-Quarzwafer-Durchmesser 100 mm Fused-Silica-Wafer für die Halbleiterherstellung 14-Zoll-Quarzwafer-Durchmesser 100 mm Fused-Silica-Wafer für die Halbleiterherstellung 2

 

 


 

FAQ

 

 

1. F: Was ist die typische Dickentoleranz für 4-Zoll-Quarzwafer?

A: Standard-4-Zoll- (100-mm-) Quarzwafer halten eine Dickentoleranz von ±0,02 mm über den Bereich von 0,5-1,5 mm ein und gewährleisten so die Gleichmäßigkeit für Halbleiter-Lithografieprozesse.

 

 

2. F: Warum 4-Zoll-Quarzwafer gegenüber 6-Zoll-Wafern für MEMS-Anwendungen wählen?

A: 4-Zoll-Wafer bieten eine optimale Kosteneffizienz für kleine bis mittlere MEMS-Produktionsläufe und behalten gleichzeitig eine bessere Prozesskontrolle als kleinere Durchmesser.

 

 

 

Tag: #3-Zoll-Quarzsubstrat, #Kundenspezifisch, #Quarzglasplatten, #SiO₂-Kristall, #Quarzwafer, #JGS1/JGS2-Qualität, #Hochreinheit, #Quarzglas-Optikkomponenten, #Quarzglasplatte, #Kundenspezifische Durchgangslöcher​​, #4-Zoll-Quarzwafer, #Durchmesser 100 mm, #Halbleiterherstellung

 

 

​​

Kontaktdaten
SHANGHAI FAMOUS TRADE CO.,LTD

Ansprechpartner: Mr. Wang

Telefon: +8615801942596

Senden Sie Ihre Anfrage direkt an uns (0 / 3000)