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3 Zoll Quarz Substrat Hochreine geschmolzener Siliziumwafer 76,2 mm Durchmesser JGS1/JGS2

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3 Zoll Quarz Substrat Hochreine geschmolzener Siliziumwafer 76,2 mm Durchmesser JGS1/JGS2

3 Inch Quartz Substrate High Purity Fused Silica Wafer 76.2mm Diameter JGS1/JGS2
3 Inch Quartz Substrate High Purity Fused Silica Wafer 76.2mm Diameter JGS1/JGS2 3 Inch Quartz Substrate High Purity Fused Silica Wafer 76.2mm Diameter JGS1/JGS2 3 Inch Quartz Substrate High Purity Fused Silica Wafer 76.2mm Diameter JGS1/JGS2

Großes Bild :  3 Zoll Quarz Substrat Hochreine geschmolzener Siliziumwafer 76,2 mm Durchmesser JGS1/JGS2

Produktdetails:
Herkunftsort: China
Markenname: ZMSH
Zertifizierung: rohs
Modellnummer: 3 Zoll Quarz Wafer
Zahlung und Versand AGB:
Min Bestellmenge: 10
Preis: by case
Verpackung Informationen: Paket in der 100-Grad-Reinigung
Lieferzeit: 5-8weeks
Zahlungsbedingungen: T/T
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: 1000 Stück pro Monat
Ausführliche Produkt-Beschreibung
Durchmesser: 3 Zoll (76,2 mm) Ausmaß der Abweichung: ±0,02 mm
Oberflächenrauheit: ≤ 1 nm (Geschliffene Qualität) Transmittance @193nm: > 92%
CTE (RT-300°C): 00,55 × 10−6/°C Anwendungen: Halbleiterfertigung, Hochleistungslaser
Hervorheben:

Quarz-Substrat hoher Reinheit

,

3 Zoll Quarz-Substrat

,

76.2 mm Quarz-Substrat

 

Produktübersicht von 3 Zoll Quarzwafer

3 Zoll Quarz Substrat Hochreine geschmolzener Siliziumwafer 76,2 mm Durchmesser JGS1/JGS2 0

3 Zoll Quarz-Substrat hochreine geschmolzene Siliziumwafer 76,2 mm Durchmesser JGS1/JGS2

 

- Ich weiß.Die 3-Zoll-Quarz-Wafer (76,2 mm) ist ein großformatiges, hochreines geschmolzenes Kieselsäure-Substrat, das speziell für fortgeschrittene Halbleiter, optoelektronische,und optische Präzisionsanwendungen, die größere Bearbeitungsflächen erfordern. Im Vergleich zu 2-Zoll-Wafern erhöht die 3-Zoll-Spezifikation die Produktionseffizienz und reduziert den Randverlust, was sie besonders für serienmäßig hergestellte MEMS-Geräte, fortschrittliche Photomasken,und optische Lasersysteme.

 

ZMSH ist spezialisiert auf die kundenspezifische Herstellung von Quarzwafern großer Größe und bietet:

 

· Vollgrößen-Abdeckung:Von 2- bis 12-Zoll-Wafer, die nicht-standardmäßige Größenanpassung unterstützen

· Komplexe Formverarbeitung:mit einer Dicke von mehr als 50 g/m2, jedoch nicht mehr als 150 g/m2

· Multifunktionale Oberflächenbehandlung:Einseitige/doppelseitige Polierung, Beschichtungen (AR/IR/DLC), Mikrostruktur-Etschen

· Industrie-Lösungen:Halbleiterreinigung (Klasse 100), Laserdrohungen, hochpräzise Ausrichtungspunkte

 

 


 

Spezifikation für3 Zoll Quarz-Wafer

 

 

PArameter Spezifikation
Durchmesser 3 Zoll (76,2 mm)
Ausmaß der Abweichung ±0,02 mm
Oberflächenrauheit ≤ 1 nm (Geschliffene Qualität)
Übertragbarkeit @193nm > 92%
CTE (RT-300°C) 00,55 × 10−6/°C
Parallelismus ≤ 5 μm
Vakuumkompatibilität 10−9 Torr

 

 


 

 

Hauptmerkmale von3 Zoll Quarz-Wafer

3 Zoll Quarz Substrat Hochreine geschmolzener Siliziumwafer 76,2 mm Durchmesser JGS1/JGS2 1

 

 

- Große Homogenität: TTV≤15μm bei 76,2 mm Durchmesser sorgt für Prozessgleichheit auf großen Flächen

 

- Tiefe UV-Optimierung: Übertragbarkeit > 92% bei 193 nm, Unterstützung von ArF-Lithographie und DUV-Laseranwendungen

 

- Wärmeschlagfestigkeit: thermischer Expansionskoeffizient 0,55×10−6/°C, erträglich bei schnellen Temperaturkreisläufen (1000°C/min)

 

- Chemische Trägheit: Widerstandsfähig gegen Plasmaerosion, geeignet für Trockenratzungen und CMP-Umgebungen

 

- Mechanische Verstärkung: Optionale chemische Verstärkung erhöht die Biegefestigkeit um 300% auf 500 MPa

 

 


 

Kernanwendungen von3 Zoll Quarz-Wafer

 

 

 

Feld Spezifische Anwendungen
Herstellung von Halbleitern Großformatfotomasken-Substrate, EUV-Lithographieoptik, 3D-IC-Interposatoren
Hochleistungslaser Laserresonator-Spiegel, Glasfaserlaser-Endkappen auf kW-Ebene, Ultraschnelle Laser-Impuls-Kompressionsgitter-Substrate
Quantentechnologie Qubit-Trägerwaffen, Vakuum-Ansichtspunkte für kalte Atomchips
Luft- und Raumfahrt Satelliten-optische Ladungsfenster, strahlungsbeständige Sensor-Schutzabdeckungen
Biomedizinische Mikrofluidische Chipmastern, DNA-Sequenzierungschipsubstrate, Endoskop-Lichtleitungen

 

 


 

Benutzerdefinierte Quarz-Prism-Lösungen

 

 

ZMSH bietet Quarz-Prisma-Anpassungsdienste für UV- bis IR-Wellenlängen an, einschließlich rechtwinkliger Prismen, Pentaprismen und Strahlsplitter-Prismen mit:

 

· Oberflächengenauigkeit auf Nanometerebene(λ/10@632.8nm)

· Spezielle Beschichtungen(laserschädigungsbeständige Beschichtungen, polarisierende Strahlspalterbeschichtungen)

· Integrierte Verarbeitung(hybride Strukturen von Prisma-Wafer, Kühlvorhaben in Mikrokanale)

 

Ideal für Spitzenanwendungen in der Laserstrahlformung, Spektralanalyse und hochenergetischen Physikversuchen- Das ist nicht wahr.

 

 

3 Zoll Quarz Substrat Hochreine geschmolzener Siliziumwafer 76,2 mm Durchmesser JGS1/JGS2 23 Zoll Quarz Substrat Hochreine geschmolzener Siliziumwafer 76,2 mm Durchmesser JGS1/JGS2 3

 

 


 

Häufig gestellte Fragen

 

 

1F: Welche Vorteile haben 3-Zoll-Quarzwafer gegenüber kleineren Wafern?

  A: 3-Zoll- (76,2 mm) Quarzwafer bieten 44% mehr Nutzfläche als 2-Zoll-Wafer, was den Randverlust reduziert und den Durchsatz für MEMS-Herstellung und optische Beschichtungsprozesse erhöht.

 

 

2. F: Wie verarbeiten und lagern Sie 3-Zoll-verschmolzenen Silikwafer richtig?

  A: Verwenden Sie immer Waferträger in Reinraumqualität mit Kantenkontaktstützen und lagern Sie in Umgebungen der Klasse 100 mit < 40% RH, um Oberflächenkontamination und Feuchtigkeitsabsorption zu vermeiden.

 

 

 

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- Ich weiß.

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Ansprechpartner: Mr. Wang

Telefon: +8615801942596

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