| Markenbezeichnung: | zmsh |
| Modellnummer: | Oblate 6INCH GaAs |
| MOQ: | 10pcs |
| Preis: | by case |
| Lieferzeit: | 1-4weeks |
6inch VGF Art GaAs-Oblaten GaAs-Substrate der Wachstums-Methoden-P
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GaAs-Oblate
GaAs-Oblaten GaAs-Substrat-Oblaten GaAS-Substratoblaten GaAS ist ein Halbleitermaterial mit überlegenen Eigenschaften der Hochfrequenz, der hohen Elektronenwanderung, der hohen Elektronleistung, des niedrigen Speichel- Tones und der linearen Güte. Es ist in den Optoelektronik- und Mikroelektronikindustrien weitverbreitet. In der Optoelektronikindustrie können GaAS-Substratoblaten für die Herstellung von LED (lichtemittierendes Rohr), von LD (unterrichtender heller Garten), von photo-voltaischen Geräten, von etc. benutzt werden. Auf dem Gebiet der Mikroelektronikindustrie, kann er verwendet werden, um MESFET (Metallhalbleiter-Feldeffekt-Lederrohr), HEMT (hohen Elektronenbeweglichkeitstransistor), HBT (Heterojunctionsbipolar transistor), IC, Mikrowellendiode, Hallgerät, etc. zu machen.
| GaAs (Galliumarsenid) für LED-Anwendungen | ||
| Einzelteil | Spezifikationen | Anmerkungen |
| Leitungs-Art | SC/n-type | |
| Wachstums-Methode | VGF | |
| Dopant | Silikon | |
| Oblate Diamter | 2, 3 u. 4 Zoll | Barren oder wie-geschnittenes verfügbares |
| Crystal Orientation | (100) 2°/6°/15° weg von (110) | Anderes misorientation verfügbar |
| VON | EJ oder US | |
| Ladungsträgerdichte | (0.4~2.5) E18/cm3 | |
| Widerstandskraft an Funktelegrafie | (1.5~9) E-3 Ohm.cm | |
| Mobilität | 1500~3000 cm2/V.sec | |
| Ätzung Pit Density | <500> | |
| Laser-Markierung | auf Anfrage | |
| Oberflächenende | P/E oder P/P | |
| Stärke | 220~350um | |
| Epitaxie bereit | Ja | |
| Paket | Einzelner Oblatenbehälter oder -kassette | |
Produktanzeige
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ÜBER UNSER ZMKJ
Q: Was ist das MOQ?
(1) für Inventar, ist das MOQ 5pcs.
(2) für kundengebundene Produkte, ist das MOQ 10pcs-30pcs.
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Wir können Detailbericht für unsere Produkte liefern.