Die Siliziumkarbidindustrie sendet gemischte Signale.
Im Juli 2026 begann eine Halbleiteranlage in den USA mit der Probenproduktion von Siliziumkarbid-Powerchips.Die Kommission hat bekannt gegeben, dass sie ihr Geschäft mit Siliziumkarbid-Wafern schließen wird., die etwa 140 Beschäftigte betreffen.
Gleichzeitig bewegt sich die Technologie in die entgegengesetzte Richtung.zusammen mit Geräten für die 12-Zoll-Epitaxie, Ausdünnen und Substratverarbeitung.
Also, welche Geschichte ist richtig?
Ist Siliziumkarbid im Rückgang oder bereitet es sich auf die nächste Wachstumsphase vor?
Die kurze Antwort ist, dass beides wahr sein kann.
Silikonkarbid verschwindet nicht, sondern verläuft von einem knappheitsgesteuerten Markt in einen anspruchsvolleren Produktionszyklus, der durch Ertrag, Kosten, Kundenqualifikation und Skalierbarkeit definiert wird.
Ein Siliziumkarbid-Wafer ist nicht dasselbe wie ein Siliziumkarbid-Chip.
Die gesamte Fertigungskette umfasst mehrere verschiedene Schritte, die jeweils ihre eigenen technischen und wirtschaftlichen Herausforderungen haben.
Das hochreine Siliziumkarbid-Quellmaterial wird auf Temperaturen über 2.000°C erhitzt. Das Material sublimiert und kristallisiert anschließend zu einer einkristallinen Kugel.
Dieser Prozeß ist viel langsamer und schwieriger zu kontrollieren als das herkömmliche Wachstum von Siliziumkristallen.Polytyp Einschlüsse und interne Belastungen können die Menge des verwendbaren Materials reduzieren.
Größere Kristalldurchmesser machen die Temperaturverteilung und die Spannungskontrolle noch schwieriger.
Die Kugel wird orientiert, geschnitten, gemahlen, verdünnt und in einzelne Substrate poliert.
Die Dickenvariation, der Bogen, die Verformung, die Kratzer, Untergrundschäden und Kristallfehler müssen sorgfältig kontrolliert werden.Probleme, die in diesem Stadium auftreten, können den Ertrag während des restlichen Produktionsprozesses verringern.
Auf dem Substrat wird eine sorgfältig kontrollierte Silikoncarbid-Epitaxialschicht angebaut.
Diese Schicht enthält die elektrische Struktur, die für das künftige Gerät benötigt wird.Effizienz und Zuverlässigkeit des fertigen Bauteils.
Die epitaxiale Wafer bewegt sich dann durch Ionenimplantation, Lithographie, Ätzung, Oxidation, Metallisierung und elektrische Prüfung.
Nach der Herstellung wird die Wafer in einzelne Geräte zerlegt und als MOSFETs, Dioden oder Strommodule verpackt.
Ein Unternehmen, das Substrate herstellt, ist daher auf einem anderen Markt tätig als ein Unternehmen, das Leistungseinrichtungen herstellt.unterschiedliche Ausrüstung nutzen und unterschiedlichen Kostendruck ausgesetzt sind.
Deshalb bedeutet die Schließung eines Substratbetriebs nicht, daß die Nachfrage nach jedem Siliziumkarbidgerät verschwunden ist.Die Einführung einer neuen Produktionsanlage beweist nicht, dass der gesamte Markt wieder zu einem Mangel zurückgekehrt ist..
Vor einigen Jahren erschienen die Aussichten für Siliziumkarbid einfach.
Der Verkauf von Elektrofahrzeugen stieg, 800-Volt-Fahrzeugplattformen erhielten Aufmerksamkeit und Siliziumkarbid sollte in Traktionsumrichter zunehmend verbreitet werden,mit einer Leistung von mehr als 50 kVA.
Hersteller in der gesamten Lieferkette reagierten, indem sie neue Kapazitäten für Kristallwachstum, Substrat, Epitaxie und Geräte aufbauten.
Aber Halbleiterkapazität braucht Jahre, um online zu bringen.
Bis einige dieser Projekte fertig waren, hatte sich das Wachstum der Elektrofahrzeuge in mehreren Märkten im Vergleich zu früheren Prognosen verlangsamt.Auch die Automobilhersteller setzten verstärkt Druck auf die Zulieferer, die Komponentenkosten zu senken..
Das Ergebnis war ein Missverhältnis: Die Produktionskapazität wuchs schneller als die Nachfrage in naher Zukunft.
Dies war besonders wichtig für 150 mm oder 6 Zoll große Siliziumkarbid-Substrate.Ein Produkt, das früher knapp war, sah sich einem viel stärkeren Preiswettbewerb gegenüber.
Die Physik des Siliziumcarbids hat nicht plötzlich aufgehört zu funktionieren.
Der Markt verlagert sich von der Frage, wer SiC herstellen kann, zu einer schwierigen Frage:
Wer kann es beständig herstellen, zu einem hohen Ertrag und zu einem Preis, den die Kunden akzeptieren?
Siliziumkarbid bleibt wertvoll, weil es unter Bedingungen, die für herkömmliche Siliziumstromgeräte schwierig sind, effizient funktionieren kann.
Im Vergleich zu Silizium bietet Siliziumkarbid eine größere Bandbreite, ein höheres kritisches elektrisches Feld und eine bessere Wärmeleitfähigkeit.schnellerem Schalten und Betrieb bei erhöhten Temperaturen.
Auf Systemebene kann eine ordnungsgemäße Elektronik aus Siliziumcarbid die Umwandlungsausfälle reduzieren und es Ingenieuren ermöglichen, kleinere magnetische Komponenten, Kondensatoren und Kühlsysteme zu verwenden.
Das macht das Material für Anwendungen attraktiv, darunter:
Silikonkarbid ist jedoch nicht automatisch die beste Wahl für jedes Produkt.
Bei Geräten mit niedrigerer Spannung oder mit hoher Kostenbelastung können ausgereifte Siliziumgeräte zu einem niedrigeren Preis eine ausreichende Leistung liefern.Schaltgeschwindigkeit, thermische Leistung oder Systemgröße die Mehrkosten rechtfertigen.
Die nächste Phase des Marktes wird weniger von der Förderung von Siliziumcarbid als universellem Ersatz abhängen und mehr von der Identifizierung der Anwendungen, in denen es einen messbaren Vorteil auf Systemebene bietet.
Die Wafergröße ist zu einem der am stärksten beobachteten Teile der Kostenplanung für Siliziumkarbid geworden.
| Wafergröße | Durchmesser | Aktuelle Position | Hauptforderung |
|---|---|---|---|
| 6 Zoll | 150 mm | Festgestellte Produktionsmenge | Preiswettbewerb und Kostensenkung |
| 8 Zoll | 200 mm | Frühe kommerzielle Rampen und Qualifikation | Leistung, Fehlerkontrolle und Prozessstabilität |
| 12 Zoll | 300 mm | Demonstrations- und Entwicklungsphase | Kristallqualität, Ausrüstungsbereitschaft und Wirtschaftlichkeit |
Wenn man von 6 auf 8 Zoll wechselt, erhöht sich die theoretische Waferfläche um 78%.Die größere Wafer kann mehr Geräte pro Herstellungszyklus produzieren und die Kosten für jeden Chip senken.
Größere Wafer erzeugen jedoch nicht automatisch günstigere Chips.
Ein 8-Zoll-Kristall ist schwieriger, gleichmäßig zu wachsen. Hersteller müssen auch die Waferdicke, den Bogen, die Warp, Oberflächenschäden und die epitaxiale Einheitlichkeit über eine größere Fläche kontrollieren.
Wenn die Defektdichte steigt oder die Leistung des Geräts sinkt, kann sich die zusätzliche Waferfläche möglicherweise nicht in geringere Kosten übersetzen.
Deshalb wird der Erfolg von 8-Zoll-Siliziumkarbid durch eine wiederholbare Produktion in großen Mengen gemessen werden, nicht durch die Anzahl der auf Branchenveranstaltungen ausgestellten Proben.
Anfang 2026 berichtete die Industrie von einem neuen Meilenstein mit einer 300 mm großen Siliziumkarbid-Wafer aus einem Kristall.
Andere jüngste Entwicklungen umfassten 12-Zoll-leitfähige und halbisolierende Substratproben,12-Zoll-Epitaxialverarbeitungsgeräte und neue Systeme zur Verdunstung großer Siliziumkarbidkugeln und -substrate.
Diese Entwicklungen sind wichtig, weil sie zeigen, dass sich 12-Zoll-Siliziumkarbid über einen theoretischen Vorschlag hinaus bewegt.
Die Herstellung einer Probe-Wafer unterscheidet sich jedoch stark von der Herstellung tausender qualifizierter Wafer pro Monat.
Eine kommerzielle 12-Zoll-Plattform müsste nachweisen:
Für jetzt ist die genaueste Beschreibung, dass 6-Zoll-Siliziumkarbid in der reifen Produktion ist, 8-Zoll-Siliziumkarbid in eine kommerzielle Rampe geht,und 12-Zoll-Rückstände in erster Linie in der Technologieentwicklung und Prozessvalidierung.
Ein 12-Zoll-Wafer hat etwa das Vierfache der theoretischen Fläche eines 6-Zoll-Wafers und das 2,25-fache der Fläche eines 8-Zoll-Wafers.
Grundsätzlich ermöglicht dies die Verarbeitung von viel mehr Produkten in einem einzigen Produktionszyklus.Es könnte auch Siliziumkarbid mit der 300-mm-Ausrüstungsinfrastruktur ausrichten, die bereits in der konventionellen Siliziumindustrie weit verbreitet ist.
Aber Siliziumkarbid ist nicht einfach eine andere Art von Siliziumwafer.
Es ist härter, zerbrechlicher und schwerer zu wachsen.Auch das Schneiden und Polieren des Materials ist zeitaufwendig und kann teures Kristallmaterial verschwenden.
Daher hängt die Wirtschaftlichkeit von 12-Zoll-Siliziumkarbid eher von der Ausbeute als vom Durchmesser ab.
Ein großer Wafer mit schlechter Kristallqualität oder häufiger Bruch kann pro verwendbarem Gerät mehr kosten als ein kleiner Wafer, der auf einer stabilen, reifen Linie hergestellt wird.
Ein weiterer wichtiger Aspekt der jüngsten 12-Zoll-Aktivitäten ist, dass nicht jedes Programm ausschließlich auf konventionelle Leistungshalbleiter ausgerichtet ist.
Künstliche Intelligenz und leistungsstarke Computersysteme stellen neue Herausforderungen in Bezug auf das thermische Management, die Packungsgröße und die Leistungsdichte dar.
Da Siliziumkarbid eine starke thermische Leistungsfähigkeit mit mechanischer Stabilität und nützlichen elektrischen Eigenschaften kombiniert, wird auch großformatiger SiC für fortgeschrittene Verpackungen ausgewertet.thermische Bewirtschaftung, photonische Integration und andere Hochleistungsrechneranwendungen.
Dies eröffnet zwei mögliche Entwicklungswege.
Der erste ist der traditionelle Stromhalbleiterweg, bei dem größere Wafer die Kosten von MOSFETs, Dioden und anderen Hochspannungseinrichtungen schließlich senken könnten.
Die zweite ist eine breitere Werkstoffplattform für KI-Infrastruktur, Hochleistungsrechner, Photonik und fortschrittliche Verpackungen.
Diese neueren Anwendungen befinden sich weitgehend noch in der Evaluierungsphase und sollten noch nicht als etablierte Volumenmärkte betrachtet werden.Aber sie könnten die langfristige Rolle von Siliziumkarbid über Elektrofahrzeuge hinaus erweitern..
Die wichtigsten Silikonkarbidindikatoren werden nicht mehr nur die Kapazität oder der Waferdurchmesser angekündigt.
Stattdessen müssen Kunden und Investoren darauf achten:
Diese Faktoren werden bestimmen, ob größere Wafer zu einem kommerziellen Vorteil oder einfach nur zu einer technischen Demonstration werden.
Die Siliziumkarbidindustrie bricht nicht zusammen, aber ihr Geschäftsmodell ändert sich.
Einige Kapazitäten, die während der Mangelphase aufgebaut wurden, können konsolidiert oder stillgelegt werden.mit der frühen Erforschung von 12-Zoll-Plattformen.
Diese Trends widersprechen sich nicht.
Sie zeigen, daß Siliziumkarbid die Phase verlässt, in der fast jede neue Kapazität auf sich aufmerksam machen könnte.Kosten und reale Kundennachfrage sind wichtiger als die Erweiterungsankündigungen.
Die Produktion von Sechsinchern wird den heutigen Markt weiterhin prägen.Die 12-Zoll-Technologie stellt eine langfristige Grenze dar, die letztendlich sowohl Leistungselektronik als auch fortschrittliche Computer umgestalten könnte..
Siliziumkarbid verlässt die Bühne nicht, sondern tritt einfach in den Teil des Technologiezyklus ein, in dem die Ausführung der Fertigung wichtiger ist als die Aufregung des Marktes.
Die Siliziumkarbidindustrie sendet gemischte Signale.
Im Juli 2026 begann eine Halbleiteranlage in den USA mit der Probenproduktion von Siliziumkarbid-Powerchips.Die Kommission hat bekannt gegeben, dass sie ihr Geschäft mit Siliziumkarbid-Wafern schließen wird., die etwa 140 Beschäftigte betreffen.
Gleichzeitig bewegt sich die Technologie in die entgegengesetzte Richtung.zusammen mit Geräten für die 12-Zoll-Epitaxie, Ausdünnen und Substratverarbeitung.
Also, welche Geschichte ist richtig?
Ist Siliziumkarbid im Rückgang oder bereitet es sich auf die nächste Wachstumsphase vor?
Die kurze Antwort ist, dass beides wahr sein kann.
Silikonkarbid verschwindet nicht, sondern verläuft von einem knappheitsgesteuerten Markt in einen anspruchsvolleren Produktionszyklus, der durch Ertrag, Kosten, Kundenqualifikation und Skalierbarkeit definiert wird.
Ein Siliziumkarbid-Wafer ist nicht dasselbe wie ein Siliziumkarbid-Chip.
Die gesamte Fertigungskette umfasst mehrere verschiedene Schritte, die jeweils ihre eigenen technischen und wirtschaftlichen Herausforderungen haben.
Das hochreine Siliziumkarbid-Quellmaterial wird auf Temperaturen über 2.000°C erhitzt. Das Material sublimiert und kristallisiert anschließend zu einer einkristallinen Kugel.
Dieser Prozeß ist viel langsamer und schwieriger zu kontrollieren als das herkömmliche Wachstum von Siliziumkristallen.Polytyp Einschlüsse und interne Belastungen können die Menge des verwendbaren Materials reduzieren.
Größere Kristalldurchmesser machen die Temperaturverteilung und die Spannungskontrolle noch schwieriger.
Die Kugel wird orientiert, geschnitten, gemahlen, verdünnt und in einzelne Substrate poliert.
Die Dickenvariation, der Bogen, die Verformung, die Kratzer, Untergrundschäden und Kristallfehler müssen sorgfältig kontrolliert werden.Probleme, die in diesem Stadium auftreten, können den Ertrag während des restlichen Produktionsprozesses verringern.
Auf dem Substrat wird eine sorgfältig kontrollierte Silikoncarbid-Epitaxialschicht angebaut.
Diese Schicht enthält die elektrische Struktur, die für das künftige Gerät benötigt wird.Effizienz und Zuverlässigkeit des fertigen Bauteils.
Die epitaxiale Wafer bewegt sich dann durch Ionenimplantation, Lithographie, Ätzung, Oxidation, Metallisierung und elektrische Prüfung.
Nach der Herstellung wird die Wafer in einzelne Geräte zerlegt und als MOSFETs, Dioden oder Strommodule verpackt.
Ein Unternehmen, das Substrate herstellt, ist daher auf einem anderen Markt tätig als ein Unternehmen, das Leistungseinrichtungen herstellt.unterschiedliche Ausrüstung nutzen und unterschiedlichen Kostendruck ausgesetzt sind.
Deshalb bedeutet die Schließung eines Substratbetriebs nicht, daß die Nachfrage nach jedem Siliziumkarbidgerät verschwunden ist.Die Einführung einer neuen Produktionsanlage beweist nicht, dass der gesamte Markt wieder zu einem Mangel zurückgekehrt ist..
Vor einigen Jahren erschienen die Aussichten für Siliziumkarbid einfach.
Der Verkauf von Elektrofahrzeugen stieg, 800-Volt-Fahrzeugplattformen erhielten Aufmerksamkeit und Siliziumkarbid sollte in Traktionsumrichter zunehmend verbreitet werden,mit einer Leistung von mehr als 50 kVA.
Hersteller in der gesamten Lieferkette reagierten, indem sie neue Kapazitäten für Kristallwachstum, Substrat, Epitaxie und Geräte aufbauten.
Aber Halbleiterkapazität braucht Jahre, um online zu bringen.
Bis einige dieser Projekte fertig waren, hatte sich das Wachstum der Elektrofahrzeuge in mehreren Märkten im Vergleich zu früheren Prognosen verlangsamt.Auch die Automobilhersteller setzten verstärkt Druck auf die Zulieferer, die Komponentenkosten zu senken..
Das Ergebnis war ein Missverhältnis: Die Produktionskapazität wuchs schneller als die Nachfrage in naher Zukunft.
Dies war besonders wichtig für 150 mm oder 6 Zoll große Siliziumkarbid-Substrate.Ein Produkt, das früher knapp war, sah sich einem viel stärkeren Preiswettbewerb gegenüber.
Die Physik des Siliziumcarbids hat nicht plötzlich aufgehört zu funktionieren.
Der Markt verlagert sich von der Frage, wer SiC herstellen kann, zu einer schwierigen Frage:
Wer kann es beständig herstellen, zu einem hohen Ertrag und zu einem Preis, den die Kunden akzeptieren?
Siliziumkarbid bleibt wertvoll, weil es unter Bedingungen, die für herkömmliche Siliziumstromgeräte schwierig sind, effizient funktionieren kann.
Im Vergleich zu Silizium bietet Siliziumkarbid eine größere Bandbreite, ein höheres kritisches elektrisches Feld und eine bessere Wärmeleitfähigkeit.schnellerem Schalten und Betrieb bei erhöhten Temperaturen.
Auf Systemebene kann eine ordnungsgemäße Elektronik aus Siliziumcarbid die Umwandlungsausfälle reduzieren und es Ingenieuren ermöglichen, kleinere magnetische Komponenten, Kondensatoren und Kühlsysteme zu verwenden.
Das macht das Material für Anwendungen attraktiv, darunter:
Silikonkarbid ist jedoch nicht automatisch die beste Wahl für jedes Produkt.
Bei Geräten mit niedrigerer Spannung oder mit hoher Kostenbelastung können ausgereifte Siliziumgeräte zu einem niedrigeren Preis eine ausreichende Leistung liefern.Schaltgeschwindigkeit, thermische Leistung oder Systemgröße die Mehrkosten rechtfertigen.
Die nächste Phase des Marktes wird weniger von der Förderung von Siliziumcarbid als universellem Ersatz abhängen und mehr von der Identifizierung der Anwendungen, in denen es einen messbaren Vorteil auf Systemebene bietet.
Die Wafergröße ist zu einem der am stärksten beobachteten Teile der Kostenplanung für Siliziumkarbid geworden.
| Wafergröße | Durchmesser | Aktuelle Position | Hauptforderung |
|---|---|---|---|
| 6 Zoll | 150 mm | Festgestellte Produktionsmenge | Preiswettbewerb und Kostensenkung |
| 8 Zoll | 200 mm | Frühe kommerzielle Rampen und Qualifikation | Leistung, Fehlerkontrolle und Prozessstabilität |
| 12 Zoll | 300 mm | Demonstrations- und Entwicklungsphase | Kristallqualität, Ausrüstungsbereitschaft und Wirtschaftlichkeit |
Wenn man von 6 auf 8 Zoll wechselt, erhöht sich die theoretische Waferfläche um 78%.Die größere Wafer kann mehr Geräte pro Herstellungszyklus produzieren und die Kosten für jeden Chip senken.
Größere Wafer erzeugen jedoch nicht automatisch günstigere Chips.
Ein 8-Zoll-Kristall ist schwieriger, gleichmäßig zu wachsen. Hersteller müssen auch die Waferdicke, den Bogen, die Warp, Oberflächenschäden und die epitaxiale Einheitlichkeit über eine größere Fläche kontrollieren.
Wenn die Defektdichte steigt oder die Leistung des Geräts sinkt, kann sich die zusätzliche Waferfläche möglicherweise nicht in geringere Kosten übersetzen.
Deshalb wird der Erfolg von 8-Zoll-Siliziumkarbid durch eine wiederholbare Produktion in großen Mengen gemessen werden, nicht durch die Anzahl der auf Branchenveranstaltungen ausgestellten Proben.
Anfang 2026 berichtete die Industrie von einem neuen Meilenstein mit einer 300 mm großen Siliziumkarbid-Wafer aus einem Kristall.
Andere jüngste Entwicklungen umfassten 12-Zoll-leitfähige und halbisolierende Substratproben,12-Zoll-Epitaxialverarbeitungsgeräte und neue Systeme zur Verdunstung großer Siliziumkarbidkugeln und -substrate.
Diese Entwicklungen sind wichtig, weil sie zeigen, dass sich 12-Zoll-Siliziumkarbid über einen theoretischen Vorschlag hinaus bewegt.
Die Herstellung einer Probe-Wafer unterscheidet sich jedoch stark von der Herstellung tausender qualifizierter Wafer pro Monat.
Eine kommerzielle 12-Zoll-Plattform müsste nachweisen:
Für jetzt ist die genaueste Beschreibung, dass 6-Zoll-Siliziumkarbid in der reifen Produktion ist, 8-Zoll-Siliziumkarbid in eine kommerzielle Rampe geht,und 12-Zoll-Rückstände in erster Linie in der Technologieentwicklung und Prozessvalidierung.
Ein 12-Zoll-Wafer hat etwa das Vierfache der theoretischen Fläche eines 6-Zoll-Wafers und das 2,25-fache der Fläche eines 8-Zoll-Wafers.
Grundsätzlich ermöglicht dies die Verarbeitung von viel mehr Produkten in einem einzigen Produktionszyklus.Es könnte auch Siliziumkarbid mit der 300-mm-Ausrüstungsinfrastruktur ausrichten, die bereits in der konventionellen Siliziumindustrie weit verbreitet ist.
Aber Siliziumkarbid ist nicht einfach eine andere Art von Siliziumwafer.
Es ist härter, zerbrechlicher und schwerer zu wachsen.Auch das Schneiden und Polieren des Materials ist zeitaufwendig und kann teures Kristallmaterial verschwenden.
Daher hängt die Wirtschaftlichkeit von 12-Zoll-Siliziumkarbid eher von der Ausbeute als vom Durchmesser ab.
Ein großer Wafer mit schlechter Kristallqualität oder häufiger Bruch kann pro verwendbarem Gerät mehr kosten als ein kleiner Wafer, der auf einer stabilen, reifen Linie hergestellt wird.
Ein weiterer wichtiger Aspekt der jüngsten 12-Zoll-Aktivitäten ist, dass nicht jedes Programm ausschließlich auf konventionelle Leistungshalbleiter ausgerichtet ist.
Künstliche Intelligenz und leistungsstarke Computersysteme stellen neue Herausforderungen in Bezug auf das thermische Management, die Packungsgröße und die Leistungsdichte dar.
Da Siliziumkarbid eine starke thermische Leistungsfähigkeit mit mechanischer Stabilität und nützlichen elektrischen Eigenschaften kombiniert, wird auch großformatiger SiC für fortgeschrittene Verpackungen ausgewertet.thermische Bewirtschaftung, photonische Integration und andere Hochleistungsrechneranwendungen.
Dies eröffnet zwei mögliche Entwicklungswege.
Der erste ist der traditionelle Stromhalbleiterweg, bei dem größere Wafer die Kosten von MOSFETs, Dioden und anderen Hochspannungseinrichtungen schließlich senken könnten.
Die zweite ist eine breitere Werkstoffplattform für KI-Infrastruktur, Hochleistungsrechner, Photonik und fortschrittliche Verpackungen.
Diese neueren Anwendungen befinden sich weitgehend noch in der Evaluierungsphase und sollten noch nicht als etablierte Volumenmärkte betrachtet werden.Aber sie könnten die langfristige Rolle von Siliziumkarbid über Elektrofahrzeuge hinaus erweitern..
Die wichtigsten Silikonkarbidindikatoren werden nicht mehr nur die Kapazität oder der Waferdurchmesser angekündigt.
Stattdessen müssen Kunden und Investoren darauf achten:
Diese Faktoren werden bestimmen, ob größere Wafer zu einem kommerziellen Vorteil oder einfach nur zu einer technischen Demonstration werden.
Die Siliziumkarbidindustrie bricht nicht zusammen, aber ihr Geschäftsmodell ändert sich.
Einige Kapazitäten, die während der Mangelphase aufgebaut wurden, können konsolidiert oder stillgelegt werden.mit der frühen Erforschung von 12-Zoll-Plattformen.
Diese Trends widersprechen sich nicht.
Sie zeigen, daß Siliziumkarbid die Phase verlässt, in der fast jede neue Kapazität auf sich aufmerksam machen könnte.Kosten und reale Kundennachfrage sind wichtiger als die Erweiterungsankündigungen.
Die Produktion von Sechsinchern wird den heutigen Markt weiterhin prägen.Die 12-Zoll-Technologie stellt eine langfristige Grenze dar, die letztendlich sowohl Leistungselektronik als auch fortschrittliche Computer umgestalten könnte..
Siliziumkarbid verlässt die Bühne nicht, sondern tritt einfach in den Teil des Technologiezyklus ein, in dem die Ausführung der Fertigung wichtiger ist als die Aufregung des Marktes.