Einzelner Kristall-ultra dünner Saphir-Wafer, Stärke des Saphir-Substrat-2 des Zoll-0.1mm

Glasoblate des ultradünnen Saphirs, Saphiroblate der C-Achse 2inch für epi-bereites, Saphirstarke Glaslinse für die Abdeckung, optische Fenster des Saphirs, Stärke-Saphiroblate 2inch 0.1mm,
 

   Chemisch ist macht Saphir Aluminiumoxyd des einzelnen Kristalles (Al2O3), und ist in einem Sendebereich von 0,2 - 5.5µm.Sapphire nützlich und so sie ideale Materialien für fordernde Anwendungen (wie Laser-Systeme) wegen ihrer extremen Oberflächenhärte, hohe Wärmeleitfähigkeit, hohe Dielektrizitätskonstante und Widerstand zu den allgemeinen chemischen Säuren und zu den Alkalien. Und Saphir ist auch der zweite härteste Kristall nahe bei Diamanten und, wegen ihrer strukturellen Stärke, können Saphirfenster gemacht werden viel Verdünner als andere allgemeine dielektrische Fenster mit verbesserter Beförderung. 
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Materieller Saphir (Al2O3)
Dichte (20°C) Kg/m3 3.98×103
Kristallstruktur sechseckig
Kristallgitter konstantes a=4.785Å c=12.991 Å
Mohs-Härte 9
Schmelzpunkt 2045°C
Siedepunkt 3000°C
Ausdehnungskoeffizient α=5.8×10 -6 /K
Spezifische Wärme 0.418W.s/g/k
Thermisches conductio 25.12W/m/k (@100°C)
Brechungskoeffizient (Nd) no=1.768ne=1.76
dn/dt 13×10-6/K (@633nm)
Tranmission T≈85% (0.3~5um)
Genehmigung 11,5 (//c), 9,3 (⊥c)

Anwendungen
Saphir-Waschmaschinen, Saphir Windows, Saphir-Lager, Saphir Rod, Saphir-Rohre, Rubin
Saphiroblate, Haubensaphir, Saphirisolierung Film, Saphirballlinse, Saphir/karminroter Ball

 

Material: Einzelner Kristall Al2O3 99,999%

Orientierung: C-Fläche (0001) weg von M - Achse 0.2°±0.1

Von der Orientierung flach: Eine Achse ±0.1° 
Frontside-Oberflächenrauigkeit: Ra<0.3nm
Rückseiten-Oberflächenrauigkeit: 0.8~1.2um 
(Oder doppelte Seite poliert, beides Seite Ra<0.2nm)
TTV: <10um-BOGEN: - VERZERRUNG 15~0um: <10um
Laser markieren Reihe nein durch Bedarf
Paket: Vakuumversiegelte Behälter mit Stickstoff füllen in einer Umwelt der Klasse 100 nach

Saphir-Oblaten-Prozess-Schritt

 
Probe