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China 4 Zoll-halb- isolierender Indium-Phosphid-Wafer für LD-Laserdiode usine

4 Zoll-halb- isolierender Indium-Phosphid-Wafer für LD-Laserdiode
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2019-07-10 17:43:54
China Germanium-einzelne Kristall-Indium-Phosphid-Wafer fertigte optische Linse 4/6 Zoll GEs besonders an usine

Germanium-einzelne Kristall-Indium-Phosphid-Wafer fertigte optische Linse 4/6 Zoll GEs besonders an
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2019-07-10 17:43:54
China N / P schreiben Germanium-Oblate, Germanium-Optik-Platten-Durchmesser 0,5 | 150mm usine

N / P schreiben Germanium-Oblate, Germanium-Optik-Platten-Durchmesser 0,5 | 150mm
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2019-07-10 17:43:54
China 3,58 Oblaten-Magnesium-Oxid-Kristall-Substrat Dichte-MgO-Substrat-/MgO usine

3,58 Oblaten-Magnesium-Oxid-Kristall-Substrat Dichte-MgO-Substrat-/MgO
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2019-07-10 17:43:54
China Schwarze Indium-Phosphid-Oblate, Halbleiterwafer für LD-Anwendung usine

Schwarze Indium-Phosphid-Oblate, Halbleiterwafer für LD-Anwendung
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2019-07-10 17:43:54
China Primär-/blinde Grad-Indium-Phosphid-Oblaten-Stärke 350um für LD usine

Primär-/blinde Grad-Indium-Phosphid-Oblaten-Stärke 350um für LD
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2019-07-10 17:43:54
China Des Quadrat-10 X10 Millimeter Kristall-Linse Saphir-der Oblaten-0.5mm einzelner der Stärke-Al2O3 usine

Des Quadrat-10 X10 Millimeter Kristall-Linse Saphir-der Oblaten-0.5mm einzelner der Stärke-Al2O3
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2019-07-10 17:43:54
China Kristallglas-Saphir-Oblaten-Doppelt-Seite des Durchmesser-300mm poliert für Fenster usine

Kristallglas-Saphir-Oblaten-Doppelt-Seite des Durchmesser-300mm poliert für Fenster
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2019-10-12 12:42:08
China Doppeltseite diameter300mm 12inch polierte Saphirglasoblatenfenster mit Kerbe für Halbleiterfördermaschinenoblate usine

Doppeltseite diameter300mm 12inch polierte Saphirglasoblatenfenster mit Kerbe für Halbleiterfördermaschinenoblate
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2020-07-17 15:02:00
China Einzelner Kristall-ultra dünner Saphir-Wafer, Stärke des Saphir-Substrat-2 des Zoll-0.1mm usine

Einzelner Kristall-ultra dünner Saphir-Wafer, Stärke des Saphir-Substrat-2 des Zoll-0.1mm
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2019-07-10 17:43:54
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Sic Substrat

Hoher Reinheitsgrad-Silikon-Karbid-Wafer, 6 Zoll 4H - halb sic Silikon-Karbid-Substrat

2 Zoll 6H - halb Leistungsaufnahme der Silikon-Karbid-Wafer-geringen Energie für Detektor

sic Silikon-Karbid des Barren-4inch 5 - 15mm Stärke für Halbleiter

4 H - HALB polierte sic Härte des Wafer-6 des Zoll-9,0 für Gerät-Material

Saphir-Oblate

Windows-Special-Orientierung des Halbleiterwafer-kundenspezifische Saphir-Glas-/Saphir

Saphir-Komponenten der Stärke-0.43mm fertigten Größe und Orientierungen besonders an

Quadratische Saphir-Oblate/Saphir-Kristallglas 10x10mm 5x5mm für optische Linse

2°Off C - Achsen-synthetischer Saphir Glas-Epi - bereiter Zoll Durchmesser 50.8mm der Substrat-2

Gallium-Nitrid-Oblate

Stärke Laser-Projektions-Anzeigen-Gallium-Nitrid-GaN Wafers 350um

2inch 4inch freistehender GaN Gallium Nitride Substrates Template für geführt

Aluminium-Nitrid-Substrat-Oblatenschicht 2INCH AlN auf 0.43mm Saphiroblate

Gallium-Nitrid GaN AlN 2inch 4Inch Schablonen-Oblate auf Saphir, Si-Substrate

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